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1、N沟道耗尽型MOS管从结构上看,N沟道耗尽型MOS管与N沟道增强型MOS管基本相似, 其区别仅在于栅一源极间电压vGS二0时,耗尽型MOS管中的漏一源极 间已有导电沟道产生,而增强型MOS管要在vGSVT时才出现导电沟 道。原因是制造N沟道耗尽型MOS管时,在Si02绝缘层中掺入了大 量的碱金属正离子Na+或K+(制造P沟道耗尽型MOS管时掺入负离 子),如图13)所示,因此即使vGS二0时,在这些正离子产生的电场 作用下,漏一源极间的P型衬底表面也能感应生成N沟道(称为初始 沟道),只要加上正向电压vDS,就有电流iDo如果加上正的vGS, 栅极与N沟道间的电场将在沟道中吸引来更多的电子,沟
2、道加宽,沟 道电阻变小,iD增大。反之vGS为负时,沟道中感应的电子减少, 沟道变窄,沟道电阻变大,iD减小。当vGS负向增加到某一数值时, 导电沟道消失,iD趋于零,管子截止,故称为耗尽型。沟道消失时 的栅-源电压称为夹断电压,仍用VP表示。与N沟道结型场效应管相 同,N沟道耗尽型M0S管的夹断电压VP也为负值,但是,前者只能 在vGS<;0的情况下工作。而后者在vGS=0 , vGS>;0 , VP<;vGS<;O的情况下均能实现对iD的控制,而且仍能保持栅- 源极间有很大的绝缘电阻,使栅极电流为零。这是耗尽型M0S管的一个重要特点。严掺杂后具有正 r离子的绝缘层衬底引线(a)衬底d衬底g(C)图1 (b). (c)分别是N沟道和P沟道耗尽型MOS管的代表符号。在
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