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文档简介
1、镀层硫化氢测试腐蚀分析一、腐蚀的理论分析: a. 产品结构示意图; 图1Au Ni Cu附着在镍层上的电镀金层(Au)孔隙率高,且厚度很薄。金在镍上的分布就如我们常见的芝麻饼上的芝麻一样。微观示意图如下: 图2镍 Ni b. 反应原理: 在潮湿、高温的条件下,疏松多孔的金层与镍层会发生原电池腐蚀:镍为阳极,金为阴极,这种腐蚀在酸性条件下加速。镍层逐渐被腐蚀,金层脱落、剥离;当镍层出现孔洞后,又发生镍、铜间的原电池腐蚀,于是镍可能被完全腐蚀掉,直至漏出铜层。在硫化氢测试环境下,发生的化学反应如下:(硫化物的产生,使得反应平衡向右移动) . 硫化氢的电离: H2SH+ + HS- HS- H+ +
2、 S2- . 镍与金、镍与铜间的原电池腐蚀:(都是镍的腐蚀) 镍层(阳极)反应: Ni 2e Ni2+ Ni2+ + S2- NiS (黑色) 金(铜)层(阴极)反应: 2H+ + 2eH2. 当铜层裸露出来后,铜与其自身所含有的其他物质(如碳等),也能发生原电池腐蚀: Cu e Cu+ Cu2e Cu2+2Cu+ + S2- Cu2S (灰黑色) Cu2+ + S2- CuS (黑色) .可能还有其他的少量的缓慢反应,如硫化氢被缓慢氧化成硫,再到SO2 , SO3 ,H2SO4,进而与镍、铜离子生成绿色的硫酸镍和蓝色的硫酸铜。反应方程式不再累述。二、客户不良样品图片:(样品部提供的不良样品)
3、 a.手指表面的腐蚀:200倍镜:斑驳的金和清晰可见的底铜100倍镜:黑色堆积物和隐约可见的底铜 b. 手指顶端(冲切区):可能预示着手指冲切后需做防氧化处理200倍镜:端部腐蚀严重,可见底铜100倍镜:端部腐蚀严重三、硫化氢测试条件:硫化氢浓度测试温度测试湿度测试时间100 ppm5050%72H四、改善方向和方案 a. 改善方向:尽量消除导致镀层发生原电池腐蚀的内部环境: 1. 增加金层厚度,减少金层孔隙率; 2. 对金面进行封孔处理;3. 适当加厚镍层;4. 对比不同镍金沉积方法的耐腐蚀强度的差别。b. 试验改善方案:试验产品共30 PNL1.电镀镍金(镍厚按上限控制),对不同金厚的产品
4、试行封孔处理(药水名称为ST-2和ATT-200)金层厚度 0.1 um 0.2 um 0.3 um 0.4 um金面处理方式ST-22 PNL2 PNL2 PNL2 PNLATT-2002 PNL2 PNL2 PNL2 PNL不做处理2 PNL2 PNL2 PNL2 PNL2.化学镍金:镍厚按上限控制,对不同金厚的产品试行封孔处理(药水名称为ST-2和ATT-200)金层厚度ST-2ATT-200不做处理0.05 um1 PNL1 PNL1 PNL0.1 um1 PNL1 PNL1 PNL3.封孔剂性质:(药水供应商宣称)药水名称操作温度配比浓度盐雾测试H2S测试SO2测试皮膜耐温性耐酸碱性
5、ST-2205020%48H没做过24H不清楚最怕盐酸ATT-20040±55%48H没做过不清楚120耐受性差五、硫化氢测试: 先全测镍金厚度 按上述客户测试环境测试,但在时间上稍作变化:总时间72H,但每4H 检查记录一次,并同时拿出12 PCS产品,标识封存,试验完全结束后拿回本司供对比分析,六、试验品“5594Y4”制作 2012-9-28 已经完成镍金,激光后再行封孔。镀镍金在2#线。a. 生产参数预设金厚规格0.1 um0.2 um0.3 um0.4 um电镀镍金参数镀镍电流密度DK2.0ASD2.3ASD2.3ASD2.3ASD镀镍时间 t9mim9mim9mim9mi
6、m预设金厚规格0.1 um0.2 um0.3 um0.4 um电镀镍金参数镀金电流密度DK0.4ASD0.8ASD0.8ASD0.8ASD镀金时间 t2.0mim3.5mim7mim10.5mim预设金厚规格0.1 um0.2 um沉镍金参数沉镍时间 min2222沉金时间 min9.521b. 电镀镍金镀层实际测量厚度电镀镍金: 电镀镍金-镍层厚度电镀镍金-金层厚度 c.沉镍金厚度:沉镍金-金层厚度沉镍金-镍层厚度七、盐雾测试(先于硫化氢测试开始,本司内部测试)a. 测试条件;氯化钠浓度温 度湿 度pH4060 g/L35 85 %6.57.3b. 测试结果:试验分析: 1. 在该项测试中,
7、“金面封孔剂”的作用没有体现出来;2. 金层越厚,耐腐蚀性越强,金厚在0.20.4um的盐雾测试时间可达72H以上;3. 化学镍金的产品耐腐蚀性差,盐雾测试时间小于24H;4. 按本司正常工艺生产的电镀镍金产品,盐雾测试可靠性为24H。八、硫化氢测试:(最终测试方式为连续测试72H, 与原计划相差甚远;外部第三方“赛宝”测试25/10) 1. 编号、试验方案及参数2. 硫化氢测试图片(72H) a. 化学镍金: 在盐雾测试中,所有化学镍金的产品都未超过24H,故遭淘汰未能送出过硫化氢测试。b. 电镀镍金:用ATT-200封孔 图片按金厚由小到大排列 编号1编号2 编号3编号4 用ST-2封孔
8、图片按金厚由小到大排列编号7编号8 编号10编号9 不做任何封孔 图片按金厚由小到大排列编号14编号13 编号16编号15 c. .腐蚀部位切片分析 .手指端部冲切面为 铜/镍/金 三层横断面结构,均裸露在外,极易腐蚀,如下图:顶端底铜腐蚀严重顶端冲切面腐蚀图片 .手指侧面金层覆盖能力差,易导致腐蚀,如下图:手指侧面腐蚀图片镍层被腐蚀穿透,危及底铜 d. 试验分析 . 在该试验中,封孔剂的作用没有得到体现; . 金层越厚,耐硫化氢测试的时间越长,说明抗腐蚀能力越强; . 手指端部冲切面与手指侧面耐腐蚀能力差,这表明可能与该部位无镀层或镀层薄有关; . 手指端部冲切面无镀层覆盖,完全没有抗腐蚀能力。(个人认为是正常现象,应许可)九、试验结论与改善方向 1. 试验结论a. 镀层抗腐蚀能力与金层厚度密切相关,且成正比关系,金层厚度越厚,抗腐蚀能力越强;b. 本司现有的金面封孔剂对镀层的抗腐蚀能力没有帮助;c. 本司产品手指侧面抗腐蚀能力相对较差,手指端部冲切区则基本无
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