07电科电子档任务书

1、大学科技学院本科（设计）任务书学生信息学号072004110453专业电子信息科学与技术教师信息肖清泉讲师任务书发出时间2010 年 11月2 日设 计）题目磁控溅射中溅射原子输运过程的蒙特模拟（设计）起止时间2010 年 12 月 20 日 2011 年 5 月 11 日共需21主要内容:课题主要研究的是如何用 模方法在计算机上模拟磁控溅射中溅射原子的运动轨迹和分布情况，以及 两个基本问题。磁控溅射是指具有一定能量的粒子在磁场环境下轰击固体表面，使得固体分子或原子离开固体，从表面射出的现象。在电磁场中溅射出来的粒子运动发生偏转，被 在靶附近的区域，与作为放电载体的惰性气体 (Ar+或He)碰

2、撞，产生辉光放电的过程。而整个溅射过程都是建立在辉光放电的基础上，溅射的速率很高磁控溅射具有低温和高速两大特点，溅射速率和沉积速率比较大，低温是指基片 慢，溅射过程中保持较低的温度，随着碰撞次数的增加，电子的能量逐渐减小，最终在电场作用下落在基片上，但是这个时候电子能量已经很低，传递给基片的能量很小，故基片很低。综上所述，磁控溅射的基本原理，就是以磁场来改变电子的运动方向，并束缚和延长电子的运动轨迹，从而便于工业控制。是本章的另一个重点问题。在计算机模拟中独具优势，现在的很多模拟仿真问题都要用到这种统计方法。主要就是要研究模拟中的两个基本问题：随机数的产生；概率分布的随机抽样方法。主要要求:必

3、须独立完成设计工作，严禁他人成果或请人代替完成。要求中心突出，内容充实，论据充分，论证有力，层次分明，文字流畅。字数不少于 1.5 万字。参考文献不得少于 15 篇。必须独立完成设计工作，严禁他人成果或请人代替完成。预期目标:首先使学生了解溅射的模拟环境与溅射的基本知识、加深对理论掌握。使自己从学习中获得的初步训练，培养学生的独立学习、独立思考和综合运用已学知识解决实际问题的能力，尤其注重培养学生独立获取新知识的能力。使学生进一步巩固、加深对所学的基础理论、基本技能和专业知识的掌握，使之系统化、综合化。使学生树立具有符合国情和生产实际的正确和观点；树立严谨、负责。计划进程:2010 年 11

4、月 1 日2010 年 11 月 19 日 ：收集相关资料，提交开题。2010 年 11 月 20 日2010 年 12 月 31 日 ：提交综述，做资料分析，拟定大纲2011 年 1 月 1 日2011 年 5 月 8 日：撰写并完成初稿修订2011 年 5 月 10 日：提交定稿、打印并上交。参考文献1璇.统计计算M.:,1995198.计算机摸拟及其应用M.:东南大学,1997,.方法及其在粒子输运问题中的应用M：科学, 1980.随机过程及其用M.:高等教育,2004.粒子同固体相互作用物理学(上册)M，科学，1988，72. 6,.输运理论M.:科学,19877.计算机摸拟及其应用M

5、.:东南大学,1997, 8.方法M.:科学技术1985李阳平，刘正堂.靶材溅射及溅射原子输运的计算机模拟.功能材料,2003，206.，.磁控溅射靶磁场的分布J华中理工大学学报. 199725（11）. 11张开明，.计算物理学M.:复旦大学，1987.12李阳平，刘正堂.薄膜生长的计算机模拟J，功能材料与器件学报，2002，第二期.13，.华中理工大学学报.1998，298.14.TiO_2 基光催化材料及CuBi_2O_4 薄膜材料的科学及性能研究M.2010.15.磁控溅射过程中溅射产额及靶材刻蚀的模拟计算研究D.合肥工业大学，2007. 16李阳平.靶材溅射及溅射原子输运的计算机模拟M.西安，2003 .J. F. Groves. Directed vapor deition. DisserionM, University of Virginia, 19