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文档简介
概
述
在现代电子设备中,广泛地使用晶体二极管、晶体三极管和场效应管。他们都是半导体器件,集成电路中的元、器件也是由半导体材料制成。本书首先讨论半导体物理基础知识。本章重点是讨论二极管的基本特性。
(a)晶体二极管内部结构示意图(b)电路符号
第一章晶体二极管1-1半导体物理基础知识
导体为容易传导电流的物质,如银、铜、铝等金属。绝缘体为几乎不传导电流的物质,如橡胶、陶瓷、塑料……等。半导体是导电能力介于导体和绝缘体之间的物质,如硅(Si)、锗(Ge)和砷化镓(GaAs)等。
1-1-1本征半导体
(1)、本征半导体硅和锗原子的简化模型将硅和锗提纯后制成晶体,其相邻原子之间靠共价键结合,整块晶体内部晶格排列完全一致的晶体称为单晶。硅和锗的单晶称为本征半导体,它是制造半导体器件的基本材料。
硅和锗晶体共价键结构示意图
(3)、热平衡载流子浓度
当温度一定时,上述本征激发和复合在某一热平衡载流子浓度值ni(单位体积内的载流子数)上达到动态平衡。其值随温度升高而迅速增大,在室温附近,温度每升高8℃时,硅的ni增加一倍、温度每升高12℃时,锗的
ni增加一倍,近似计算时认为温度每升高10℃时ni增大一倍。利用这种特性,本征半导体可以制成热敏元件。另外,光照增强时
ni也增大,导电能力增强,利用这种特性,本征半导体可以制成光敏元件。
1-1-2杂质半导体(1)N型半导体在本征半导体中,掺入少量的五价元素杂质(磷、锑或砷等)则可使晶体中的自由电子浓度大大增加,把这种半导体称为N型半导体。自由电子称为多数载流子,简称为多子;空穴称为少数载流子,简称为少子。
(2)、P型半导体
在本征半导体中,掺入少量的三价元素杂质(硼、镓、锢或铝等)则可使晶体中的空穴浓度大大增加,把这种半导体称为P型半导体。
空穴称为多数载流子,简称为多子;自由电子称为少数载流子,简称为少子。1-1-3漂移和扩散(1)、在电场作用下,载流子将在热骚动状态下产生定向运动,称为漂移运动。 如形成回路,该运动产生的电流称为,漂移电流。(2)、扩散运动 由浓度差引起载流子的定向运动。1-2PN结
PN结的制造方法是在一块P(或N)型半导体中,用杂质补偿方法将其中的一半掺入五价(或三价)杂质转换成N(或P)型,另一半仍为P(或N)型,这种制造方法能够保持半导体内部晶格结构的连续性。
1-2-1动态平衡下的PN结边界浓度差,产生多子扩散运动两边的多子边扩散边复合,空间电荷区出现,产生内建电场。电场使少子产生漂移运动,抑制了多子的扩散运动多子扩散减弱,少子漂移增强,最终达到动态平衡1-2-2PN结的伏安特性
(1)外加正向电压
在PN结的P区接直流电源V正极,N区接V负极,为加正向电压(又称为正向偏置,简称为正偏)。内电场E减弱,阻挡层宽度减小,利于多子扩散,正向电流I随外加电压的增加急速上升,PN结呈现为一个很小的电阻。
(2)外加反向电压
在PN结的P区接直流电源V负极,N区接V正极,为加反向电压(又称为反向偏置,简称为反偏),
PN结反偏时,内电场E增强,阻挡层宽度增大,只利于少子漂移。由于少子为本征激发产生,几乎与外加电压V无关,在一定温度下其数量是一定的,反向电流不随外加电压V变化,称为反向饱和电流,用IS表示。在外加反向电压时,PN结呈现为一个很大的电阻。(3)伏安特性
PN结的理想伏安特性方程为
式中:q=1.61019库仑,为电子的电荷量;k=1.381023焦尔/K,为玻尔兹曼常数;T~为绝对温度;VT=kT/q为热电压,在室温(T300K或27℃)附近
VT0.026V=26mV
1-2-3PN结的击穿特性 雪崩
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