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  • 已被新标准代替，建议下载现行标准GB/T 15909-2009
  • 1995-12-20 颁布
  • 1996-08-01 实施
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GB/T 15909-1995电子工业用气体硅烷(SiH4)_第1页
GB/T 15909-1995电子工业用气体硅烷(SiH4)_第2页
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1CS71.100.20G86中华人民共和国国家标准CB/T15909一1995电子工业用气体硅烷(SiH4)Gasforelectronicindustry-Silane1995-12-20发布1996-08-01实施国家技术监督局发布

中华人民共和国国家标准cB/T15909-1995电子工业用气体硅烷（SiHI）Gasforelectronicindustry-Silane1主题内客与适用范围本标准规定了电子工业用硅烷气体的技术要求、检验方法、检验规则、包装、标志、运输、财存和安全要求等。本标准主要用于电子工业中多品硅和单品硅外延淀积、二氧化硅的低温化学汽相淀积、非品硅薄膜淀积等。分子式：SiH相对分子质量：32.117(按1991年国际相对原子质量)。101.3kPa下的沸点：一112C。20℃和101.3kPa下气体密度：1.342kg/m²。-185C下液体密度：711kg/m²。2引用标准GB190危险货物包装标志！无机化工产品中氯化物含量测定的通用方法GB/T3051量法GB/T5274体分析枚准用混和气体的制备·称量法GB/T5832.1气体中微量水分的测定电解法GB7144气瓶颜色标记3技术要求3.1质量指标硅烷的质量应符合下表的要求。对硅烧中重金属和颗粒的要求由供方与用户商定。纯度：10-一氧化碳和二氧化碳(CO+CO.),10°氯化物总量（包括氯硅烧.HCI等可离子化的氯化物),10-100烃(C～C,）,10-氢(H.),10-。9001复（N.）,10-氧(0.）,10-水（H.O)

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