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文件编号版本/版次页码作业指导书A/0第文件编号版本/版次页码作业指导书A/0第15页版权全部：浙江光科能源版权声明：本文件为受控文件，只限光科硅片制造部使用，严禁复制翻录版权全部：浙江光科能源版权声明：本文件为受控文件，只限光科硅片制造部使用，严禁复制翻录半自动清洗作业指导书编制编制(修改)/日期审核/日期批准/日期修改记录修改历史记录生效日期 版本/次 变更说明 编制/修改 批准一、目的:本工序是将脱胶完成装进花篮的硅片进展外表超声波清洗，以去掉硅片外表的油污。二、适用范围：本文件只适合浙江光科能源硅片加工车间半自动超声波清洗工序。三、物料需求：1、装进花篮待清洗的硅片；四、工艺流程：装片 鼓泡〔超声〕 超声波清洗 纯水清洗 甩干五、工艺步骤：〔15M〕，三、四.五槽110L；5.3将半自动清洗机的水槽内参加清洗剂802#或JH-15型。方法如下：四四五A2400ml2400mlJH-15B1200ml1200ml留意；在添加清洗液时戴好手套，将桶口察干净，以免有杂质影响清洗质量。将插好片的花篮并排放进清洗机的提篮内，每提篮内放六个花篮〔见图一〕，文件编号文件编号版本/版次页码作业指导书A/0第45页图一等清洗机水温升至设定温度后，把一、二、六、七槽的溢流翻开，使槽内水保持清二槽“鼓泡”开关〔三至七槽不开鼓泡〕，第一槽时间完毕后将提篮移至其次槽，其次槽完毕后，将提篮移至第三槽；重复以上动作直到七个清洗槽全部洗完毕；留意：硅片从一个清洗槽移至另一个清洗槽要垂直提取、垂直轻放，避开碰碎或造成裂片。要求对称放置；〔见图二〕图二按钮甩干，甩干过程为260120±5℃；待掌握面板上的时间归零，按开盖按钮；版权全部：浙江光科能源版权声明：本文件为受控文件，只限光科硅片制造部使用，严禁复制翻录文件编号文件编号版本/版次页码作业指导书A/0第55页提篮整齐摆放在指定区域；围在±2℃；工艺参数设置表：第一槽其次槽第三槽第四槽第五槽第六槽第七槽温度45±5°50±5°50±5°50±5°50±5°45±5°时间360秒360秒360秒360秒360秒360秒360秒甩干机半甩干机半自动六、技术规格和标准：环境要求：1湿度≤55%RH；2.23±3℃；附

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