EBL基本组成及工作原理

EBL基本组成及工作原理演示文稿现在是1页\一共有42页\编辑于星期日EBL=ElectronBeamLithography=电子束光刻现在是2页\一共有42页\编辑于星期日现在是3页\一共有42页\编辑于星期日一、电子束曝光系统结构现在是4页\一共有42页\编辑于星期日现在是5页\一共有42页\编辑于星期日column现在是6页\一共有42页\编辑于星期日电子源的分类

直热式W，2700K热发射电子源旁热式LaB6，1800K电子源

热场发射ZrO/W，1800K场发射电子源

冷场发射现在是7页\一共有42页\编辑于星期日四种电子源对比电子源三个关键参数：有效源尺寸，亮度，电子能量分布热发射源能量分布大，聚焦斑束大，产生严重相差。冷场致发射稳定性差，对真空要求高。故EBL系统选用热场致发射源。现在是8页\一共有42页\编辑于星期日旁热式&热场致电子源结构示意图阳地超高电场阴阴阳现在是9页\一共有42页\编辑于星期日EBL中电子源结构示意图现在是10页\一共有42页\编辑于星期日几个牌子的EBL性能参数现在是11页\一共有42页\编辑于星期日二次电子探测器Detector现在是12页\一共有42页\编辑于星期日Illustrationswithdifferentsignalsources现在是13页\一共有42页\编辑于星期日现在是14页\一共有42页\编辑于星期日ImagingbymeansofSE2detector:>5mmWDImagingbymeansofInlensdetector:<=10mmWD(dependingonhighvoltagesetting)ImagingbymeansofBSEdetector:8-10mm(OptimumoftheBSelectrondetection)现在是15页\一共有42页\编辑于星期日InfluenceofAccelerationVoltage现在是16页\一共有42页\编辑于星期日InfluenceofBeamCurrent现在是17页\一共有42页\编辑于星期日InfluenceofWorkingDistance现在是18页\一共有42页\编辑于星期日二、坐标系的对准现在是19页\一共有42页\编辑于星期日建立坐标系现在是20页\一共有42页\编辑于星期日写场对准现在是21页\一共有42页\编辑于星期日三、曝光现在是22页\一共有42页\编辑于星期日扫描模式现在是23页\一共有42页\编辑于星期日Exposureparameter现在是24页\一共有42页\编辑于星期日Areadose现在是25页\一共有42页\编辑于星期日Linedose现在是26页\一共有42页\编辑于星期日Dotdoes现在是27页\一共有42页\编辑于星期日Areamode现在是28页\一共有42页\编辑于星期日现在是29页\一共有42页\编辑于星期日Linemode现在是30页\一共有42页\编辑于星期日Circlemode现在是31页\一共有42页\编辑于星期日ExposurestrategiesUsedbyRaith现在是32页\一共有42页\编辑于星期日四、临近效应现在是33页\一共有42页\编辑于星期日VisualizationofEnergyDepositionGrid(EDG)现在是34页\一共有42页\编辑于星期日高能电子打断PMMA内高分子链示意图现在是35页\一共有42页\编辑于星期日前散射和背散射随PMMA厚度的变化关系现在是36页\一共有42页\编辑于星期日MonteCarloSimulations现在是37页\一共有42页\编辑于星期日Energydeposition现在是38页\一共有42页\编辑于星期日ProximityfunctiontrajectoriesenergydepositionenergydistributiondoubleGaussianProximityfunctionproximityfunctionhasthesame

shapeasenergydistribution

withrespecttolateraldistancesbut:nodirectrelationbetween

energyandPE!(it’sjustamodel)现在是39