聚合物的增容改演示文稿

聚合物的增容改演示文稿目前一页\总数十六页\编于十九点（优选）聚合物的增容改目前二页\总数十六页\编于十九点提高接枝效率的措施：链转移接枝

-------链转移常数化学接枝------产生自由基活性的差异，选择阻聚体系；反应条件的设立辐射接枝--------加料顺序的改变接枝共聚物在聚合物改性中的应用：

接枝共聚物具有独立组分的微相结构------与其组分聚合物具有较好的相容性目前三页\总数十六页\编于十九点嵌段共聚改性：形态结构：Am—Bn二嵌段聚合物

Am─Bn─Am或Am─Bn─Cn三嵌段聚合物

Am—Bn多嵌段聚合物

放射型嵌段聚合物

目前四页\总数十六页\编于十九点嵌段共聚物制备方法：

活性加成聚合方法------优势：活性位置和浓度已知，受均聚物污染程度最小；链段的长度和排列位置可以控制。缩聚合方法-------优势：方法简单，易于操作。嵌段共聚物性能与应用：制备均聚物与嵌段共聚物的共混物第二链段------部分相容性

目前五页\总数十六页\编于十九点互穿聚合物网络：特例：EPDM/PO体系-------无硫体系含硫体系：性能高

EPDMPOS目前六页\总数十六页\编于十九点12.2表面改性

目前七页\总数十六页\编于十九点一、等离子体表面改性

基本概念：等离子体热平衡等离子非平衡态等离子体---低温等离子体

等离子体的产生方法：气体放电法、射线辐照法、燃烧法、激光法和冲击波法等离子体性质的影响因数：

等离子体工艺参数--放电功率、单体流速、反应室压力、几何因子和基材温度

等离子体自身参数--电子密度、电子能量分布、气体密度和气体分子在等离子体中的滞留时间目前八页\总数十六页\编于十九点等离子体改性方法：等离子体化学气相沉积(PCVD)：等离子体刻蚀或化学蒸发：等离子体表面反应：

目前九页\总数十六页\编于十九点辉光放电等离子体高分子材料表面改性方法：等离子体源：非聚合性气体有机气体单体等离子体作用对象：非聚合性气体聚合物表面等离子体作用过程：一步法分步法

目前十页\总数十六页\编于十九点等离子体改性机理：

高能电子与气态作用对象的碰撞----各种粒子各种粒子与其它物质碰撞----聚合活性体自由基

等离子体聚合的特点：反应单体种类多反应物结构复杂等离子体与聚合物化学反应原理：

目前十一页\总数十六页\编于十九点等离子体在高分子材料改性中的应用：

表面改性，体现在：（1）表面亲、疏水性改性（2）增加粘接性（3）改善印染性能（4）在微电子工业中的应用

（5）在生物医用材料上的应用

（6）其它应用

目前十二页\总数十六页\编于十九点12.3辐照改性

基本概念：

电离辐射----高能量物质辐射源-----放射性核素：穿透能力强，加工厚度大机器源：低能电子加速器(0.15~0.5MeV),

主要用于涂层固化,

中能电子加速器(0.5~5MeV),

用途最广高能电子加速器(5~10MeV),

用途类似于放射性核素反应堆：

目前十三页\总数十六页\编于十九点射线源电子辐照加速器射线穿透能力强（密度为1的物质中穿透45cm后约减弱至原强度的1/10）。适合于大包装和不规则物件的辐照电子束能穿透能力低（密度为1的物质中3MeV电子的射程约1cm），适合于化工产品等的精细加工设备技术简单，操作、维修方便设备复杂，需专业人员维修连续辐射，防护条件要求高可随时关机，防护较易源强度逐渐衰减，需定期补充新源源强度可保持恒定，并在一定范围内可调剂量率低，辐照时间长，功率低处理量小剂量率高，功率大，辐射时间短，处理量大射线源和电子辐照加速器主要性能比较

目前十四页\总数十六页\编于十九点

辐射化学产额G

：一种粒子的G值表示每吸收100eV的辐射能量该粒子变化的个数，也称为辐射化学产额，习惯单位为（分子/100eV），国际单位为（mol/J），对于链反应，特别是聚合反应，G值可达到10E2至10E6。对于高分子改性（交联和降解），G值为1~20。对于一般辐射化学过程，G值常由产物浓度对吸收剂量作图所得直线的斜率求得。

吸收剂量：吸收剂量率为单位质量介质吸收的辐射能剂量率：单位时间的吸收剂量称为剂量率

目前十五页\总数十六页\编于十九点辐射应用辐射聚合

：特点：（1）生成的聚合物更加纯净；（2）聚合反应易控制，聚合反应均匀；（3）可在常温或低温下进行；（4）生成的聚合物分子量和分子量分布可以用剂量率等聚合条件加以控制。