大气污染物产生排放情况一览表

大气污染物产生排放情况一览表序号名称编号废气量产生情况治理措施排放情况排放方式排放去向污染物速率kg/h产牛量t/a污染物浓度mg/m3速率kg/h排放量t/a去除率（%晶圆生产线光刻工艺1.4X1.08X有机废气处1有机废气G56000Nm3/hNMHC10-310-2理装置1套NMHC6.50.0390.03190连续1个18m排气筒排晶圆生产线光刻胶湿（活性炭吸2G13NMHC；0.0380.301附）入大气法去除工艺有机废气1.7X1.3XSiH410-410-3氟化物0.1740.0070.055>85光层氧化硅生长工艺1.3X1.0X2.75X2.2X3尾气G3GeH410-510-4工艺尾气处颗粒物0.00710-410-3>501.9X1.6X理装置1套9.5X3.8X1个25mH2SO23X10-41>7040000Nm3/h10-410-3处理后送酸10-410-5连续排气筒排1.7X1.3X性废气喷淋2.2X8.7X6.9X入大气SiH4P2O5>804多晶硅层生长工艺尾G410-410-3吸收塔处理10-410-610-5气H21.9X1.0XCI21.6X6.3X5X10-6>8010-410-310-510-75硅刻蚀（干法）工艺G6氟化物3.2X2.5XHCl0.0072.7X2.2X>90

尾气10-410-310-410-3S021.6X10-41.26X10-3硫酸雾0.130.0050.041>906二氧化硅刻蚀（干法）工艺尾气G7氟化物1.31X10-31.04X10-2NH30.072.8X10-30.022>70P2O52.9X10-52.3X10-4H26X10-55X10-47光刻胶去除（干法）工艺尾气G8CO8X10-56.5X10-48上保护层二氧化硅生长工艺尾气G10SiH41.7X10-41.3X10-3B2H61.4X10-61.1X10-5PH33X10-62.4X10-5H23.2X10-42.6X10-39溅射金属工艺尾气G11Ar少量/10介电氧化硅/保护层G14SiH43.4X2.6X

氧化硅生长工艺尾气10-410-3N201.64X10-20.11H23.8X10-43.2X10-311金属刻蚀（干法）工艺尾气G15CI26.3X10-65X10-5BCI32.3X10-41.8X10-3颗粒物7.4X10-55.9X10-412等离子增强化学气相沉积设备清洗工艺尾气G16氟化物0.0440.35213晶圆生产线表面清洗工艺废气G1硫酸雾5.17X10-20.409酸性废气喷淋吸收塔1套处理HCI2.66X10-32.1X10-2氟化物3.4X10-42.7X10-3

NH39.4X10-37.4X10-214晶圆生产线二氧化硅刻蚀（湿法）工艺废气G2氟化物2.75X10-32.2X10-215晶圆生产线硅刻蚀（湿法）工艺废气G9H2少量/16晶圆生产线金属刻蚀（湿法）工艺废气G12P2O52.6X10-52.1X10-417晶圆生产线无组织废气G18/氟化物3.3X10-42.7X10-3生产车间空调换气，划定100m卫生防护距离氟化物/3.3X10-42.7X10-3/无组织硫酸雾5.7X10-34.5X10-2硫酸雾/5.7X10-34.5X10-2/HCl2.9X10-42.4X10-3HCl/2.9X10-42.4X10-3/NH31X10-38.2X10-3NH3/1X10-38.2X10-3/P2O