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文档简介

人人文库专用

中华人民共和国国家标准

电子工业纯水系统设计规范

Codefordesignofpurewatersystemof

electronicindustry

GB50685-2011

主编部门:中华人民共和国工业和信息化部

批准部门:中华人民共和国住房和城乡建设部

施行日期:2012年5月1日

人人文库专用

中国计划出版社

2012北京

书

中华人民共和国国家标准

电子工业纯水系统设计规范

GB50685-2011

☆

中国计划出版社出版

(地址:北京市西城区木樨地北里甲11号国宏大厦C座4层)

(邮政编码:100038电话:6390643363906381)

新华书店北京发行所发行

人人文库专用北京世知印务有限公司印刷

850×1168毫米1/322.5印张63千字

2012年2月第1版2012年2月第1次印刷

印数1—6000册

☆

统一书号:1580177·724

定价:15.00元

中华人民共和国住房和城乡建设部公告

第1028号

关于发布国家标准

《电子工业纯水系统设计规范》的公告

现批准《电子工业纯水系统设计规范》为国家标准,编号为

GB50685—2011,自2012年5月1日起实施。其中,第6.1.8、

6.1.9、6.1.10、6.3.3、6.3.4、6.4.7条为强制性条文,必须严格

执行。

本规范由我部标准定额研究所组织中国计划出版社出版发

行。

中华人民共和国住房和城乡建设部

二〇一一年五月十二日

人人文库专用

前言

本规范是根据原建设部《关于印发〈2005年工程建设标准规

范制订、修订计划(第二批)〉的通知》(建标函〔2005〕124号)的要

求,由信息产业电子第十一设计研究院科技工程股份有限公司会

同中国电子工程设计研究院、上海电子工程设计研究院有限公司

和北京北方佳云净水设备有限公司共同编制完成。

本规范在编制过程中,编制组认真贯彻国家基本建设方针和

有关环保、节水要求,在认真、全面调查我国电子工业纯水系统的

设计和使用现状的基础上,广泛征求国内各设计院、工程公司、生

产厂商和使用单位的意见,参考相关国际标准,最后经审查定稿。

本规范共分8章和2个附录。主要内容包括:总则,术语,纯

水制备工艺,纯水输送和分配,纯水回收和节水,纯水站房,药品贮

存,计量和输送,控制及仪表等。

本规范中以黑体字标志的条文为强制性条文,必须严格执行。

本规范由住房和城乡建设部负责管理和对强制性条文的解

释,由工业和信息化部负责日常管理,由信息产业电子第十一设计

研究院科技工程股份有限公司负责具体技术内容的解释。在执行

本规范过程中,请各单位结合技术进步和具体的工程实践,认真总

结积累经验,人人文库专用如发现需要修改或补充之处,请将意见和建议寄送信

息产业电子第十一设计研究院科技工程股份有限公司(地址:四川

省成都市新华大道双林路251号;邮政编码:610021;传真:028-

84333172),以便今后修订时参考。

本规范主编单位、参编单位、主要起草人和主要审查人:

主编单位:信息产业电子第十一设计研究院科技工程股份

有限公司

·1·

参编单位:中国电子工程设计院

上海电子工程设计研究院有限公司

北京北方佳云净水设备有限公司

主要起草人:肖劲戈路振福樊勖昌王凌旭薛长立

杜宝强路健崔淑洁龙明全马礼飞

黄汉新周小莉裴志华李希云

主要审查人:周可可林耀泽毛煜林罗昌贵杨琦

萧百宏李春鞠唐世权王春

人人文库专用

·2·

目次

1总则…………………(1)

2术语…………………(2)

3纯水制备工艺……………(4)

3.1一般规定………………(4)

3.2预处理…………………(5)

3.3脱盐及深度处理…………(8)

3.4精处理…………………(11)

3.5特殊水质指标的技术措施………………(11)

3.6水箱、水泵………………(12)

4纯水输送和分配…………(13)

4.1一般规定………………(13)

4.2管道设计………………(14)

5纯水回收和节水…………(16)

5.1一般规定………………(16)

5.2纯水回收………………(16)

5.3节水措施………………(17)

6纯水站房…………………(18)

6.1一般规定人人文库专用………………(18)

6.2设备布置………………(19)

6.3管道布置………………(20)

6.4土建……………………(21)

6.5电气……………………(22)

6.6采暖通风………………(22)

6.7给水排水和消防…………(23)

·1·

7药品贮存、计量和输送……(24)

7.1一般规定………………(24)

7.2酸、碱及盐………………(24)

8控制及仪表………………(26)

8.1一般规定………………(26)

8.2纯水系统监控系统设计选型……………(26)

8.3现场控制系统及集中监控系统设计………(27)

8.4仪表设置………………(28)

附录A水质全分析报告……(29)

附录B离子交换器设计参数………………(30)

本规范用词说明………………(34)

引用标准名录…………………(35)

附:条文说明…………………(37)

人人文库专用

·2·

Contents

1Generalprovisions………(1)

2Terms……………………(2)

3Purewaterpreparationprocess…………(4)

3.1Generalrequirement……(4)

3.2Pretreatment……………(5)

3.3Desaltinganddeeptreatment……………(8)

3.4Finetreatment(Polishing)………………(11)

3.5Technicalmeasuresforspecialwaterqualityindex………(11)

3.6Watertankandwaterpump……………(12)

4Purewatersupplyanddistribution……(13)

4.1Generalrequirement……(13)

4.2Pipingdesign……………(14)

5Purewaterreclaimandwatersaving…(16)

5.1Generalrequirement……(16)

5.2Purewaterreclaim………(16)

5.3Watersavingmeasure……(17)

6Purewaterplant…………(18)

6.1General人人文库专用requirement……(18)

6.2Equipmentlayout………(19)

6.3Pipinglayout……………(20)

6.4Construction……………(21)

6.5Electrical………………(22)

6.6Heatingandventilation…………………(22)

6.7Watersupplyanddrainage,firefighting…(23)

·3·

7Chemicalstorage,meteringandtransfer………………(24)

7.1Generalrequirement……(24)

7.2Acid,alkalineandsalt…………………(24)

8Controlandinstrumentation……………(26)

8.1Generalrequirement……(26)

8.2Designandselectionofmonitoringsystemforpure

waterplant……………(26)

8.3Designofsitecontrolsystemandcentralmonitoring

system…………………(27)

8.4Instrumentsetup………(28)

AppendixAWaterqualityfullanalysisreport…………(29)

AppendixBIonexchangerdesignparameters…………(30)

Explanationofwordinginthiscode………(34)

Listofquotedstandards……(35)

Addition:Explanationofprovisions………(37)

人人文库专用

·4·

1总则

1.0.1为确保电子工业纯水系统出水满足电子产品生产工艺要

求,确保电子工业纯水系统的设计做到技术先进、安全适用、经济

合理、操作方便,制定本规范。

1.0.2本规范适用于新建、扩建和改建的电子工业纯水系统的工

程设计。

1.0.3电子工业纯水系统设计应贯彻执行国家的技术经济政策,

合理选择水源,节约能源,节约用水,节约用地,保护环境,安全卫

生,提高经济效益。

1.0.4电子工业纯水系统设计应根据主体工程建设规划、生产特

点等综合确定,并应经技术经济比较,择优确定设计方案。当主体

工程为分期建设时,纯水系统应按最终容量(规模)统一规划、合理

布局、分期实施。

1.0.5电子工业纯水系统的设计应为施工安装、维护管理、检修、

检(监)测和安全运行创造必要的条件。

1.0.6电子工业纯水系统的改建、扩建设计,应合理利用、改造原

有设施。

1.0.7纯水回收和节水设施宜与纯水制备系统统筹规划,并宜同

时设计、同时人人文库专用施工、同时投运。

1.0.8纯水系统排放的废水,应达到国家和地方排放标准后再排

放。

1.0.9电子工业纯水系统的工程设计,除应符合本规范外,尚应

符合国家现行有关标准的规定。

·1·

2术语

2.0.1电子工业纯水purewaterforelectronicindustry

电子工业生产所需的纯化水的通称,根据生产需要的水质去

除生产所不希望保留的各种离子以及其他杂质的水。

2.0.2电子工业纯水系统purewatersystemforelectronic

industry

制取和配送用于电子工业生产纯水的系统,通常包括纯水制

备、纯水的输送和分配、纯水的回收和处理的系统。

2.0.3软化水softwater

除掉部分或全部钙、镁离子等后的水。

2.0.4淤塞指数(SDI)siltdensityindex

保证反渗透正常运行的进水水质重要指标,它通过被测水样

对0.45μm滤膜的淤塞程度间接表征造成反渗透膜面堵塞的水中

微量悬浮物、胶体的含量,又称污染指数FI。

2.0.5电阻率resistivity

度量水溶液阻止电流通过的能力,等于在一定温度下,一对截面积

为1cm2的电极在1cm距离间的电阻值,其单位为Ω·cm或MΩ·cm。

2.0.6电导率conductivity

度量水溶液导电的能力,等于电阻率的倒数,其单位为μs/cm

或s/cm。人人文库专用

2.0.7总有机碳(TOC)totalorganiccarbon

水中溶解性和悬浮性有机物中碳的总量,反映水中有机物含

量的指标。

2.0.8微滤(MF)microfiltration

通常指在外压作用下,利用筛网状过滤介质膜的“筛分”作用

进行分离的膜分离技术。

·2·

2.0.9超滤(UF)ultrafiltration

通常指在外压作用下,利用非对称性膜去除水中亚微米悬浮

物的膜分离技术。超滤能截留分子量范围为几百至几百万的溶质

和微粒,多为大分子有机物和胶体。

2.0.10反渗透(RO)reverseosmosis

在外加压力作用下,利用一种半透性薄膜使水分子和其他一

些物质选择性透过,从而将绝大部分悬浮物和绝大部分溶解固形

物(盐)截留去除的膜分离技术。

2.0.11电脱盐(EDI)electrodeionization

一种利用装填阳、阴混合离子交换树脂或离子交换无纺布,在

直流电场作用下连续去除水中离子而不需要专门再生的除盐装置

的统称。

2.0.12紫外线杀菌UVsterilization

通过波长254nm的紫外线照射杀灭水中的活菌为紫外线杀

菌装置。

2.0.13紫外线除有机碳UV-TOCRemoval

通过波长185nm的紫外线照射分解纯水中的微量TOC为紫

外线除TOC装置。

2.0.14膜脱气装置(MDG)membranedegasifier

利用膜分离技术降低水中挥发性溶解物质的装置,在电子工

业纯水系统中主要是脱除纯水中的溶解氧。

2.0.15供水环路distributionloop

为保证电人人文库专用子工业最终使用点的纯水水质和水压而采用的有附

加循环水量的不间断供水方式,最终使用点用水取自从终端过滤

器到纯水水箱之间的闭合供水环路。供水环路一般由纯水精处理

系统和供、回水管路共同组成。

2.0.16背压调节阀组backpressureregulationunit

设于纯水回水管路末端,通过调节阀通径大小的变化来维持、

调节纯水供回水管路压力的调节阀组。

·3·

3纯水制备工艺

3.1一般规定

3.1.1电子工业纯水系统应根据电子产品生产工艺要求,合理确

定纯水制备系统的规模和供水水质。

3.1.2电子工业纯水系统制水流程和设备的选择应根据对纯水

水质的要求、原水水质以及运行管理水平,并结合处理效果、原水

的利用率、节能、环保等因素,经技术经济比较确定。

3.1.3电子工业纯水系统应根据最终产品水水质要求选择简捷、

有效的处理流程和可靠的处理设备。

3.1.4纯水站的产水量应根据各类产品水量加系统自用水量确定。

3.1.5电子工业纯水系统设计前应取得全部可利用水源的水质

全分析资料,并应选择有代表性的水质分析资料作为设计依据。

水质全分析报告格式应符合本规范附录A的要求。水质资料的

获取应符合下列要求:

1水源为地表水时宜取得全年逐月水质资料。

2水源为地下水时宜取得全年每季的水质资料。

3当无法得到逐月或逐季资料时,应掌握水质随季节的变化

规律。

3.1.6对可能人人文库专用受到海水倒灌或其他因素影响的水源,应掌握由此

而引起的水质变化情况。对于来自生产过程中的回用水,应掌握

其来源与组成。

3.1.7电子工业纯水制备系统应由预处理、脱盐及深度处理和精

处理组成,各阶段达到的目标应符合下列要求:

1预处理阶段水质应满足脱盐装置进水水质的要求。

2脱盐及深度处理阶段产水水质应接近最终产水水质要求。

·4·

3精处理阶段应保证不间断地满足最终产水水质、水量和水

压等要求。

3.1.8系统设计中每个水处理装置的出水水质应满足后续处理

装置的进水水质要求,水处理装置的进水水质应根据制水设备的

要求确定。水质要求较高或有多项水质指标时尚应符合最终水质

的要求。

3.2预处理

3.2.1预处理系统需要达到的水质指标应根据所选脱盐装置的

进水水质要求确定,缺乏资料时可按表3.2.1选择。脱盐处理单

元采用反渗透工艺时,预处理系统应根据水质特点采取有效防止结

垢等化学污染,以及防止生物、有机物及铁锰金属离子等污染的措施。

表3.2.1离子交换、电渗析、反渗透及电除盐装置进水水质要求

项目离子交换电渗析反渗透电除盐

SDI—<5<5—

对流再生<2

浊度<1.0<1—

顺流再生<5

水温(℃)5~40※15~405~355~40

pH——2~115~9

※2

CODMn(mg/L)<2<3<3<0.5(TOC计)

游离氯(mg/L)(以Cl2表示)<0.1<0.3<0.10.05

含铁量(mg/L)(以Fe表示)<0.3<0.3<0.05<0.01

含锰量(mg/L)(以Mn表示)—<0.1—(两项合计)

总硬度(mg/L)(人人文库专用以CaCO3表示)———<1

总含盐量(mg/L)———<10~25

二氧化硅(mg/L)———<0.5

注:1强碱Ⅱ型树脂、丙烯酸树脂的进水水温不应大于35℃。

2指对凝胶型强碱阴离子交换树脂的要求。

3.2.2原水浊度较高时宜采用凝聚澄清过滤工艺,设计参数可按

现行国家标准《室外给水设计规范》GB50013的有关规定执行;原

·5·

水采用含低密度、疏水性悬浮物较高的地面水水源时,宜加设气浮

分离工艺;原水采用城市自来水时,宜采用微絮凝过滤、微滤或超

滤等处理工艺。纯水系统预处理设计应符合下列要求:

1过滤器的设计产水量应包括后续处理装置要求的供水量

及过滤器的自耗水量。过滤器台数不宜少于2台。

2过滤器的过滤周期应根据进出口水质、滤料截污能力等因

素确定。每台设备每昼夜反洗次数宜为1次~2次。

3絮凝剂的选用和加药量的确定应根据进水浊度、水温、pH

值及碱度等因素的影响,以及相似水质的工程运行经验或试验资

料,经技术经济比较后确定。

4絮凝剂投加点宜设置于原水加压泵吸入段或在进入过滤

器前设置静态混合器。

5微絮凝聚过滤的过滤器的设计参数可根据表3.2.2-1的

要求选用,过滤器采用气水反洗时设计参数可根据表3.2.2-2的

要求选用。

6采用微滤、超滤除浊时,应采取完善的自动反洗和化学清

洗措施。微滤、超滤前宜设置预过滤器,其过滤精度可根据所选用

的微滤和超滤产品的进水水质要求确定。

7微滤、超滤和活性炭过滤并用时,活性炭过滤应置于微滤、

超滤之后。

表3.2.2-1微絮凝聚过滤器的设计参数

滤料反洗

滤速

序号过滤器类别

人人文库专用粒径不均匀系数床高(m/h)强度历时

2

(mm)(K80)(m)(L/s·m)(min)

dmin=0.35

1级配石英砂<2.00.7~0.8≤6.514~156~8

dmax=0.5

dmin=0.8

无烟煤<1.50.4

双层dmax=1.2

27~915~167~8

滤料dmin=0.4

石英砂<1.50.4

dmax=0.8

dmin=0.9

3均质石英砂1.3~1.61.1~1.27.5~8.514~156~8

dmax=1.2

·6·

表3.2.2-2气水反洗过滤器设计参数

先气冲洗气水同时冲洗后水冲洗

序号过滤器类别强度历时气强度水强度历时强度历时

(L/s·m2)(min)(L/s·m2)(L/s·m2)(min)(L/s·m2)(min)

1级配石英砂12~183~112~183~44~37~97~5

2双层滤料15~203~1———6.5~106~5

3均质石英砂13~172~113~173~44~34~88~5

3.2.3原水中铁锰含量不能满足后续装置进水要求时,应采取除

铁锰措施,设计参数可按现行国家标准《室外给水设计规范》

GB50013的有关规定执行。

3.2.4活性炭过滤器应根据进水水质、处理要求和活性炭的种类

进行设计。活性炭过滤器的设计参数可按表3.2.4的要求确定。

活性炭过滤器用于去除游离余氯时,可取较高滤速;去除有机物

时,可取较低滤速。

表3.2.4活性炭过滤器设计参数

滤料粒径滤层高度滤速反洗强度反洗历时

项目

(mm)(mm)(m/h)(m/h)(min)

参数0.8~1.2900~20008~1620~245~15

3.2.5防止反渗透膜结垢的设计应符合下列要求:

1采用投加阻垢剂防止反渗透设备结垢时,应根据原水水质

和药剂的技术说明选择药剂品种和投加量。

2采用钠离子交换软化或复床式离子交换降低原水的硬度

和碱度时,离人人文库专用子交换器的设计参数可按本规范附录B的要求选

用。

3采用调节pH值降低碳酸盐硬度时,宜采用盐酸。

3.2.6采用药剂氧化法降低有机物和抑制微生物时,其加氯量应

根据原水中的有机物含量计算。对经过混凝沉淀及过滤处理后的

原水或清净的地下水,加氯量可采用0.5mg/L~1.0mg/L。

3.2.7原水经氧化处理或原水余氯含量超过后续处理装置的进

·7·

水要求时,应采用活性炭吸附或投加还原剂等方法进行脱氯处理。

3.2.8当冬季原水水温较低时进入反渗透装置前是否提高水温,

应根据制水量、产品水的水温要求、热源供应及加热成本等因素综

合比较确定。当选择换热设备时,宜采用板式换热器。其设置位

置应根据预处理各单元装置对水温的要求确定。

3.3脱盐及深度处理

3.3.1脱盐系统的选择应根据处理水量、进出水质的要求,经技

术经济比较确定。当产品水对微粒、TOC等水质指标有要求时,

宜选反渗透处理工艺。

3.3.2反渗透装置的设置应符合下列要求:

1反渗透装置不宜少于2套,每套反渗透装置的保安过滤

器、反渗透给水泵宜独立设置。

2反渗透装置前应设置过滤精度不小于5μm的保安过滤

器,并应设置清洗设施。

3反渗透装置应有流量、压力、温度等控制措施。反渗透高

压泵进口应设置低压保护开关,出口应设置止回阀和高压保护开

关。反渗透装置宜采用高压泵变频启动或在高压水泵出口设置电

动慢开阀门等稳压装置。当几台反渗透装置出水并联连接时,每

台装置出水管上应设置止回阀。反渗透装置出口背压应符合所选

用膜件的设计要求。

4反渗透装置宜按连续运行设计,停运时应采取冲洗保护措

施。人人文库专用

5反渗透装置在线化学清洗应能逐段单独进行。在线清洗

装置宜设加热装置。

6保安过滤器、反渗透高压泵宜选用不锈钢材质。

7采用两级反渗透时,进入第二级反渗透之前宜作pH调

节。

3.3.3离子交换装置的设置应符合下列要求:

·8·

1当水质较稳定、出水量不大时,初级处理系统中阳、阴离子

交换器应采用单元制串联系统,且阴离子交换器的树脂装填量应

为计算值加10%~15%的裕量。

2当进水水质变化较大、出水量大时,初级处理系统中阳、阴

离子交换器宜采用母管并联制系统,每台离子交换器进出口应设

置手动隔离阀。

3离子交换除盐系统中顺流再生固定床、逆流再生固定床、

浮动床、双层床和满室床的选用,应根据处理水量、进水水质条件

和出水水质要求进行技术经济比较后确定。浮动床宜用于制水量

大、连续运行的系统。

4使用强酸、强碱离子交换树脂的初级复床除盐有关床型适

用进出水水质,可按表3.3.3的要求确定。采用弱型树脂与强型

树脂串联工艺或用双层床组成复床时,系统进水水质条件可放宽,

具体适用的进水水质条件应通过技术经济比较确定。

5弱酸、弱碱离子交换树脂的使用应根据进水水质条件合理

选择。当碳酸盐硬度较高、碳酸盐硬度与总阳离子之比大于0.5

时,宜采用弱酸阳离子交换树脂;当强酸阴离子含量大于2mmol/L、

强酸阴离子与弱酸阴离子之比大于2或有机物含量高时,宜采用

弱碱阴离子交换树脂。在强、弱型离子交换树脂层高合适时,可选

用双层床或双室离子交换器。

6离子交换树脂的工艺性能数据应根据设计工况条件,按树

脂生产厂家提供的产品性能参数或类似设计工况条件下的实际运

行资料确定。人人文库专用必要时也可通过模拟试验确定。

7离子交换装置的设计参数可按本规范附录B的要求设

计。

8阳、阴离子交换器工作周期宜按每昼夜再生1次~2次设

计。

9采用强酸、强碱离子交换树脂的固定床交换器,交换器的

再生方式应经技术经济比较确定。当进水总含盐量大于150mg/L、

·9·

总阳离子含量大于100mg/L(CaCO3)、强酸阴离子含量大于

100mg/L(CaCO3)时,宜采用逆流再生方式。

10离子交换器的交换树脂层高,应通过计算确定,树脂层高

度不宜低于1.0m。混合离子交换器的阳、阴树脂比例宜为1∶2。

11无石英砂垫层的离子交换器出口应设置树脂捕捉器。

12采用双室床、浮动床或满室床离子交换器时,应分别设置

阳、阴离子交换树脂清洗罐。

表3.3.3初级复床离子交换器进出水水质

进水水质出水水质

设备名称含盐量总阳离子强酸阴离子电导率

(mg/L)[mg/L(CaCO3)][mg/L(CaCO3)](μS/cm)

顺流再生固定床<150≤100≤50≤10

逆流再生固定床<500≤350≤200<5

浮动床300~500100~20050~125<5

3.3.4二氧化碳器或真空除气器的填料层高度,应根据填料品种

和尺寸,进、出水二氧化碳含量,水温以及所选定淋洒密度下的实

际解析系数等因素经计算确定。

3.3.5电脱盐装置的设置应符合下列要求:

1电脱盐装置的进水水质要求应根据设备要求确定,缺乏资

料时,可按本规范表3.2.1的要求确定。

2电脱盐装置不宜少于2套,其浓水宜回收至反渗透系统进

水。

3.3.6深度人人文库专用脱盐的混合床离子交换器,宜采用氮气混合离子交换

树脂。

3.3.7脱氧膜设备和纯水储罐气封氮气的纯度,不应低于

99.999%。

3.3.8紫外线灭菌器后应安装灭活细菌过滤器,过滤精度不宜低

于0.45μm。TOCUV后应设置混床离子交换器或抛光混床离子

交换器。

·10·

3.4精处理

3.4.1最终纯水水质要求较高时,精处理系统应与车间供水管道

构成循环供水系统。

3.4.2系统设备的设计流量应按产水量与循环附加流量之和计

算。

3.4.3精处理混合床应符合下列要求:

1应采用非再生式离子交换树脂。

2离子交换树脂应根据水质要求选择。

3离子交换器滤速宜为40m/h~60m/h。

3.4.4最终用水有不同水温要求时,应在精混床后分别换热供

水,热纯水回水应进行降温处理。

3.4.5精处理系统的最终出水管上应根据水质要求设置相应的

在线水质监测仪表。未配置在线水质监测仪表时,应备有采样口。

3.5特殊水质指标的技术措施

3.5.1纯水水质对微粒、总有机碳、细菌、溶解氧、二氧化硅及硼

等特殊指标有要求时,系统的各个处理单元的设置中除应满足后

续设备的进水水质要求外,还应满足对特殊指标的处理要求。

3.5.2纯水水质对TOC有要求时,应根据水质要求采用下列措

施:

1在初级处理系统中应设置反渗透装置。

2要求人人文库专用TOC小于20μg/L~50μg/L时,应设置紫外线除有

机物装置。

3应采用低TOC析出的离子交换树脂、管道、阀门及设备

材料。

3.5.3纯水水质含有溶解氧指标时,系统中应设置脱氧装置,其

后所设的水箱均应采取氮封措施。脱氧装置宜采用膜脱气,并应

根据水质要求经技术经济比较确定采用一处脱气处理或多处脱气

·11·

处理。

3.5.4最终微粒粒径要求不小于0.1μm时,应在精处理阶段设

置微孔过滤,要求小于0.1μm时,宜设置超滤。

3.5.5产品水水质指标有二氧化硅含量要求时,系统设计应采取

凝聚过滤、活性炭吸附、微滤、超滤、反渗透、电脱盐、离子交换等除

硅措施。系统中的强碱阴离子交换器和混合床宜按出水硅含量控

制交换终点,阴离子交换树脂再生碱液宜加热,加热温度可为

35℃~50℃。

3.6水箱、水泵

3.6.1纯水制备系统的水箱材质选择应满足所贮存水的水质要

求。水箱容积宜按下列要求确定:

1原水箱、中继水箱容积宜满足连续运行的最大一台水泵

2h~3h出力要求,同时应满足单台设备反洗或清洗一次的用水量

要求。

2除盐水箱、软化水箱总容积应满足使用点的用水量要求。

水箱总容积宜大于1h的耗水量要求,同时应满足工艺系统需要的

最大一次自用水量的要求。

3除二氧化碳装置的水箱有效容积,单元串联系统宜为本单

元设备出力的5min贮水量,且不宜小于2m3;并联系统宜为并联

设备总出力的15min~30min贮水量,水量大时可设多台水箱及

除碳器。

3.6.2纯水人人文库专用制造系统过程中水的电阻率较高、防止二氧化碳溶入

水中或有溶解氧要求时,水箱宜设置氮封保护。设置氮封保护的

水箱溢流口应采取隔绝空气的措施。

3.6.3氮封装置的供气量应大于或等于对应水泵组的最大输水

量。氮封压力值可取0.0005MPa~0.001MPa(表压)。

3.6.4纯水供水泵宜采用变频水泵。纯水使用点压力要求较高

或输配管路较长时,宜加设中继泵。

·12·

4纯水输送和分配

4.1一般规定

4.1.1电子工业纯水的输配管路形式应根据供水水量、纯水水

质、用水设备布置,以及使用点水压稳定性要求,结合技术经济比

较选择同程式输配系统、异程式输配系统或单管循环等输配水方

式,并宜符合下列要求:

1对于小型纯水输配系统,当输水主管管径小于DN50且不

超过15个用水点,对纯水水质要求不高或用水设备自身无回水要

求时,宜采用单管循环输配系统。

2对于大、中型纯水输配系统,水质要求较高但用水点对供

水水压稳定性要求不严格,或用水点数不多且便于手动调节时,宜

采用异程式输配系统。

3对于大、中型纯水输配系统,水质要求高且用水点对供水

水压稳定性要求严格,或用水点数多且不便于手动调节时,宜采用

同程式输配系统。

4.1.2管道、阀门、附件的选用应与纯水水质相匹配,并应满足纯

水系统的使用条件,同时应与纯水系统的使用温度、消毒方式等相

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