宝鼎乾芯集成电路（杭州）有限公司6 英寸半导体集成电路制造生产线项目环境影响报告

建设项目环境影响报告表（污染影响类）项目名称：杭钱塘工出【2022】9号6英寸半导体集成电路制造生产线项目 建设单位（盖章）：宝鼎乾芯集成电路（杭州）有限公司中华人民共和国生态环境部制 1 21三、区域环境质量现状、环境保护目标及评价标准 104 129 234 240 241 243建设项目名称杭钱塘工出【2022】9号6人 地块东至建一路，南至江东七路，西至空地三十六、计算机、通信和其首次申报项目表1-1专项评价设置判定情况专项评价的类别设置原则本项目情况是否设置专项评价大气排放废气含有毒有害污染物1、二噁英、苯并[a]芘、氰化物、氯气且厂界外500米范围内有环境空气保护目标2的建设项目。本项目排放废气涉及有毒有害污染物氯气，但项目厂界外500米范围内无环境空气保护目标（含规划保护目标），因此本项目无需设置大气专项评价。否地表水新增工业废水直排建水处理厂的除外新增废水直排的污水集中处理厂。本项目生产废水纳管排放。否环境风险有毒有害和易燃易爆危险物质存储量超过临界量的建设项目。本项目有毒有害和易燃易爆危险物质存储量超过临界量。是生态取水口下游500米范围内有重要水生生物的自然产卵场、索饵场、越冬场和洄游通道的新增河道取水的污染类建设项目。本项目所在地取水口下游500米范围内无重要水生生物的自然产卵场、索饵场、越冬场等生态保护目标。否海洋直接向海排放污染物的海洋工程建设项目。本项目不涉及直接向海洋排放污染物。否注：1.废气中有毒有害污染物指纳入《有毒有害大气污染物名录》的污染物（不包括无排放标准的污染物）。环境空气保护目标指自然保护区、风景名胜区、居住区、文化区和农村地区中人群较集中的区域。研究院于2017年2月由共同编制完成《杭州大江东产业集聚区（大江规划环评：《杭州钱塘芯谷核心区块总体规划环境析1、与《杭州大江东产业集聚区（大江东新区）分区规划》符合杭州大江东产业集聚区管理委员会和杭州市城市规划设计研究院于2017年2月由共同编制完成《杭州大江东产业集聚区（大江东—2—规划期限：2015~2030年。其中：近期2015~2020年；远期③特色定位：创新智造航母、陆空海一体门“多园”：即“7+X”产业园，包括汽车及零部件产业园、新能源新“多片”：即多个旅游休闲片，包括江海湿地休闲片、滨江观产业空间布局引导（节选①四大产业片）：产业园等2处特色产业园区，1处公铁联运B.前进产业片区：重点发展前进先进装备制造园产业园等2处特色产业园区，1处前进物流园，1处前进创新单元，经济创新园等3处特色产业园，1处临空电商物流园，以江东高教科2）规划符合性分析：本项目位于杭州市钱塘区江东片区，该区业园区。本项目属于集成电路制造，不属于禁2、与《杭州钱塘芯谷核心区块总体规划环境影响报告书》符合表1-2项目所在区域生态空间清单（修编后）环境管控单元编码环境管控单元名称生态空间范围示范图管控要求现状用地类型ZH330109200单元山大东业聚点控单元萧区江产集重管1.根据产业集聚区块的功能定位，建立分区差别化的产业准入条件；2.合理规划居住区与工业功能区，在居住区和工业区、工业企业之间设置防护绿地、生活绿地等隔离带；3.严格实施污染物总量控制制度，根据区域环境质量改善目标，削减污染物排放总量；4.所有企业实现雨污分流；5.强化工业集聚区企业环境风险防范设施设备建设和正常运行监管，加强重点环境风险管控企业应急预案制定，建立常态化的企业隐患排查整治监管机制，加强风险防控体系建设。工业农林用地（1）本项目属于集成电路制造，不属于禁止、淘汰类项目，符（2）本项目所在地与周边的居住区之间设置了一定的防护隔离（3）本项目严格实施污染物总量控制制度，新增污染物总量进（5）本项目建设单位承诺严格按照环评要求落实各项风险防范措施、应急措施，并在项目投产前编制《突表1-3环境准入条件清单（修编后）-节选示意范围图分类行业清单工艺清单产品清单禁止准入类产业发电（燃煤）；49、饲料添加或分装外的）；111、纺织品制的）；114、原及其他石油制品；117、基本化学原料制造；农药制造；涂油墨及其类似纯混合或分装外的）；118、混合和分装外）；用化学品制造（肥皂及洗涤剂制造中的以油脂为原料的//肥皂或皂粒制造，香料、香精制造中的香料制造，以上均不含单纯混合或者分装的）；120、化学药品或分装外的）；121、化学纤维除外）；123、及硫化工艺的131、铁合金制造；132、有色生有色金属冶炼）；133、有色金属合金制造；135、金属制品表面处理及热处理加工（有电镀工艺增加总量技改项目除外有钝化工艺的热镀锌）。/涉及电磷化、电化学镀、铸造工艺金属制品市重点项目配套的金属表面处理等必须工艺环节除外//单纯的表面喷涂项/目/55、含湿法印花、染色、水洗工艺的服装制造//在距离居住区边界200米范围内布置溶剂型油漆喷涂项目/禁止危化品货物分拨中心和仓库建设；危险化学品/危险废物仓储（企业配套原料或产品库除外）//废旧资源（含生物质）加工再生、利用等//57、制鞋业制造（使用有机溶剂的）；//限制准入类产业/现有氨纶、锦纶等三类项得增加产能，且污染物削减量不低于区域减排/酸性废气洗涤塔处理后高空排放；工艺尾气经过POU（燃烧水洗/触减震。因此，“三废”和噪声经采取适当的污染防治措施后能够达到规其他符合性分析表1-2“三线一单”符合性分析“三线一单”符合性生态保护红线本项目位于杭州市钱塘区，地块东至建一路，南至江东七路，西至空地，北至滨江二路规划绿化，属于萧山区大江东产业集聚重点管控单元2。根据《浙江省人民政府关于发布浙江省生态保护红线的通知》（浙政发[2018]30号），本项目不在生态功能生态保护红线内，不触及生态保护红线。环境质量底线环境空气质量目标为《环境空气质量标准》（GB3095-2012）中的二级标准，项目所在区域为达标区；水环境质量目标为《地表水环境质量标准》（GB3838-2002）Ⅲ类水标准；声环境质量目标为《声环境质量标准》（GB3096-2008）中3类标准规定要求。根据环境质量现状监测数据，本项目拟建区域大气环境、水环境、声环境和土壤环境质量均能达到相应标准的要求。根据环境影响分析，若能依照本环评要求的措施合理处置各项污染物，则本项目各项污染物不会改变项目所在区域环境质量等级，不触及环境质量底线。资源利用上线本项目不属于高耗能项目，用水来自工业区供水管网，用电来自市政供电。项目建成运行后通过内部管理、设备选择、自动化控制、原辅材料的选用和管理、废物回收利用、污染治理等多方面采取合理可行的防治措施，以“节约、降耗、减污”为目标，实现节能减排。因此，本项目的实施不会突破该区域的资源利用上线。生态环境准入清单经对照《杭州市“三线一单”生态环境分区管控方案》，本项目符合《杭州市“三线一单”生态环境分区管控方案》中的“萧山区大江东产业集聚重点管控单元2（ZH33010920013）”的管控要求。根据《杭州市“三线一单”生态环境分区管表1-3“三线一单”生态环境分区管控方案符合性分析项目要求项目实际情况结论空间分布约束根据产业集聚区块的功能定位，建立分区差别化的产业准入条件。合理规划居住区与工业功能区，在居住区和工业区、工业企业之间设置防护绿地、生活绿地等隔离带。本项目位于杭州市钱塘区，地块东至建一路，南至江东七路，西至空地，北至滨江二路规划绿化。项目所在区以先进制造业为主体，本项目属于集成电路制造，不属于禁止、淘汰类项目，符合该区域的功能定位，本项目与周围居住区之间存在道路防护绿地，满足空间布局引导方面的管控要求。符合污染物排放管控严格实施污染物总量控制制度，根据区域环境质量改善目标，削减污染物排放总量。所有企业实现雨污分流。本项目严格按照相关要求落实污染物总量控制及排污权交易，要求建设废气、废水治理措施，排放浓度控制限值严格于排放标准，达到国内同行业先进水平,企业废水雨污分流，厂区建设要求符合“污水零直排区”要求。严格按照环评要求落实土壤、地下水污染防治措施。符合环境风险强化工业集聚区企业环境风险防范设施设备建设和正常运行监管，加强重点环境风险管控企业应急预案制定，建立常态化的企业隐患排查整治监管机制，加强风险防控体系建设。建设单位承诺严格按照环评要求落实各项风险防范措施、应急措施，并在项目投产前编制《突发环境事件应急预案》，建立风险防控体系。符合资源开发效率要求/本项目所在地用电用水供给充裕，在区域资源利用上线的承受范围之内。/—10—物总量控制要求，确保各类污染物长期稳3、《浙江省建设项目环境保护管理办法》（2）建设项目还应当符合国土空间规划、国家和），入负面清单（2022年版）》，本项目不在其市场准入负面清单。对表1-4“四性五不批”相符性分析审批要求符合性分析是否符合要求四性建设项目的环境可行性本项目符合产业政策、达标排放、选址规划、生态规划、总量控制原则及环境质量要求等，从环保角度看，本项目在所选场地上实施是基本可行符合环境影响分析预测评估的可靠性本项目环境影响分析章节均依据国家相关规范及建设项目的设计资料进行影响分析，符合环境影响分析预测评估的可靠性。符合环境保护措施的有效性本项目产生的污染物均有较为成熟的技术进行处理，从技术上分析，只要切实落实本报告提出的污染防治措施，本项目废气、废水、噪声可做到达标排放，固废可实现零排放。符合环境影响评价结论的科学性本环评结论客观、过程公开、评价公正，并综合考虑建设项目实施后对各种环境因素可能造成的影响，环境结论是科学的。符合五不批（一）建设项目类型及其选址、布局、规模等不符合环境保护法律法规和相关法定规划。项目符合当地总体规划，符合国家、地方产业政策，项目营运过程中各类污染源均可得到有效控制并能做到达标排放，符合清洁生产、总量控制和达标排放的原则，对环境影响不大，环境风险不大，项目实施不会改变所在地的环境质量水平和环境功能，可实现经济效益、社会效益、环境效益的统一，符合环境保护法律法规和相关法定规划。不属于不予批准的情形（二）所在区域环境质量未达到国家或者地方环境质量标准，且建设项目拟采取的措施不能满足区域环境质量改善目标管理要求。根据对项目拟建地环境质量状况分析，项目区域地表水、声和环境空气都能够达到国家质量标准。项目营运过程中各类污染源均可得到有效控制并能做到达标排放，对当地环境质量影响不大。不属于不予批准的情形（三）建设项目采取的污染防治措施无法确保污染物排放达到国家和地方排放标准，或者未采取必要措施预防和控制生态破坏。项目采取污染防治措施符合规范，能够起到预防和控制生态破坏的作用，污染物排放达到国家和浙江省排放标准。不属于不予批准的情形—12—（四）改建、扩建和技术改造项目，未针对项目原有环境污染和生态破坏提出有效防治措施。本项目为新建项目，不适用于本条。不属于不予批准的情形（五）建设项目的环境影响报告书、环境影响报告表的基础资料数据明显不实，内容存在重大缺陷、遗漏，或者环境影响评价结论不明确、不合理。本项目在编制过程中数据真实，内容精简，条例有序，未存在重大缺陷、遗漏。且本项目结论客观、过程公开、评价公开，并综合考虑建设项目实施对各种环境因素可能造成的影响。不属于不予批准的情形对照《<长江经济带发展负面清单指南(试行，2022年版)>浙江省表1-5《长江经济带发展负面清单指南（试行，2022年版）》符合性分析序号要求项目实际情况结论1港口码头项目建设必须严格遵守《中华人民共和国港口法》、交通运输部《港口规划管理规定》、《港口工程建设管理规定》以及《浙江省港口管理条例》的规定。本项目不涉及港口、码头建设内容。符合2禁止建设不符合《全国沿海港口布局规划》、《全国内河航道与港口布局《浙江省内河航运发展规划》以及项目所在地港口总体规划、国土空间规划的港口码头项目。经国务院或国家发展改革委审批、核准的港口码头项目，军事和渔业港口码头项目，按照国家有关规定执行。城市休闲旅游配套码头、陆岛交通码头等涉及民生的港口码头项目，结合国土空间规划和督导交通专项规划等另行研究执行。本项目不涉及港口、码头建设内容。符合3禁止在自然保护地的岸线和河段范围内投资建设不符合《浙江省自然保护地建设项目准入负面清单（试行）》的项目。禁止在自然保护地的岸线和河段范围内采石、采砂、采土、砍伐及其他严重改变地形地貌、破坏自然生态、影响自然景观的开发利用行为。禁止在I级林地、一级国家级公益林内建设项目。自然保护地由省林业局本项目位于杭州市钱塘区钱塘芯谷核心区块，不涉及自然保护地、I级林地、一级国家级公益林。符合—13—会同相关管理机构界定。4禁止在饮用水水源一级保护区、二级保护区、准保护区的岸线和河段范围内投资建设不符合《浙江省饮用水源保护条例》的项目。饮用水水源一级保护区、二级保护区、准保护区由省生态环境厅会同相关管理机构界定。本项目不涉及饮用水水源一级保护区、二级保护区、准保护区的岸线和河段。符合5禁止在水产种质资源保护区的岸线和河段范围内新建围湖造田、围海造地或围填海等投资建设项目。水产种质资源保护区由省农业农村厅会同相关管理机构界定。本项目不涉及水产种质资源保护区。符合6在国家湿地公园的岸线和河段范围（一）禁止挖沙、采矿；（二）禁止任何不符合主体功能定位的投资建设项目；（三）禁止开（围）垦、填埋或者排干湿地；（四）禁止截断湿地水源；（五）禁止倾倒有毒有害物质、废弃物、垃圾；（六）禁止破坏野生动物栖息地和迁徙通道、鱼类洄游通道，禁止滥采滥捕野生动植物；（七）禁止引入外来物种；（八）禁止擅自放牧、捕捞、取土、取水、排污、放生；（九）禁止其他破坏湿地及其生态功能的活动。国家湿地公园由省林业局会同相关管理机构界定。本项目位于杭州市钱塘区钱塘芯谷核心区块，不涉及国家湿地公园。符合7禁止违法利用、占用长江流域河湖岸本项目位于杭州市钱塘区钱塘芯谷核心区块，不涉及利用、占用长江流域河湖岸线。符合8禁止在《长江岸线保护和开发利用总体规划》划定的岸线保护区和保留区内投资建设除事关公共安全及公众利益的防洪护岸、河道治理、供水、生态环境保护、国家重要基础设施以外的项目。本项目不在《长江岸线保护和开发利用总体规划》划定的岸线保护区和岸线保留区内。符合9禁止在《全国重要江河湖泊水功能区划》划定的河段及湖泊保护区、保留区内投资建设不利于水资源及自然生态保护的项目。本项目不涉及《全国重要江河湖泊水功能区划》划定的河段及符合禁止未经许可在长江支流及湖泊新本项目废水纳管排符合—14—设、改设或扩大排污口。放，不涉及设、改设或扩大排污口。禁止在长江支流、太湖等重要岸线一公里范围内新建、扩建化工园区和化工项目。本项目不属于长江支流、太湖等重要岸线一公里范围内，且本项目不属于新建、扩建化工园区和化工项目。符合禁止在长江重要支流岸线一公里范围内新建、改建、扩建尾矿库、冶炼渣库和磷石膏库，以提升安全、生态环境保护水平为目的的改扩建除外。本项目不属在长江重要支流岸线一公里范改建、扩建尾矿库、冶炼渣库和磷石膏库项目。符合禁止在合规园区外新建、扩建钢铁、石化、化工、焦化、建材、有色、制浆造纸等高污染项目。高污染项目清单参照生态环境部《环境保护综合目录》中的高污染产品目录执行。本项目位于杭州市钱塘区钱塘芯谷核心区块，该园区属于合规园区，本项目不属于钢铁、石化、化工、焦化、建材、有色、制浆造纸等高污染项目，此外，对照《环境保护综合目录》，本项目不属于目录中的高污染产品。符合禁止新建、扩建不符合国家石化、现代煤化工等产业布局规划的项目。本项目不属于石化、现代煤化工项目。符合禁止新建、扩建法律法规和相关政策明令禁止的落后产能项目，对列入《产业结构调整指导目录》淘汰类中的落后生产工艺装备、落后产品投资项目，列入《外商投资准入特别管理措施（负面清单）》的外商投资项目，一律不得核准、备案。禁止向落后产能项目和严重过剩产能行业项目供应土地。本项目不属于落后产能项目，不属于《产录》淘汰类中的落后生产工艺装备、落后产品投资项目，不属于外商投资项目，本项目属于不属于落后产能项目和严重过剩产能行业。符合禁止新建、扩建不符合国家产能置换要求的严重过剩产能行业的项目。部门、机构禁止办理相关的土地（海域）供应、能评、环评审批和新增授信支持等业务。本项目不属于严重过剩产能项目，无需进行产能置换。符合禁止新建、扩建不符合要求的高耗能高排放项目。本项目不属于高耗能高排放项目。符合禁止在水库和河湖等水利工程管理范围内堆放物料，倾倒土、石、矿渣、垃圾等物质。本项目用地不涉及在水库和河湖等水利工程管理范围内。符合—15—6、与《浙江省“十四五”挥发性有机物综合治理方案》符合性分析对照《浙江省“十四五”挥发性有机物综合治理方案》（浙环发），表1-6本项目与浙环发〔2021〕10号符合性分析（摘选）序号文件要求本项目情况是否符合1优化产业结构。引导石化、化工、工业涂装、包装印刷、合成革、化纤、纺织印染等重点行业合理布局，限制高VOCs排放化工类建设项目，禁止建设生产和使用VOCs含量限值不符合国家标准的涂料、油墨、胶粘剂、清洗剂等项目。贯彻落实《产业结构调整指导目录》《国家鼓励的有毒有害原料（产品）替代品目录》，依法依规淘汰涉VOCs排放工艺和装备，加大引导退出限制类工艺和装备力度，从源头减少涉VOCs污染物产生。本项目属于C3973集成电路制造，主要从事6英寸半导体集成电路晶圆的生产，不涉及生产和使用含VOCs的涂料、油墨、胶粘剂、清洗剂等原辅材料。根据《产业结构调整指导目录》等文件，项目不涉及产业禁止或限制的工艺和装备，符合产业政策要求。符合2严格环境准入。严格执行“三线一单”为核心的生态环境分区管控体系，制（修）订纺织印染（数码喷印）等行业绿色准入指导意见。严格执行建设项目新增VOCs排放量区域削减替代规定，削减措施原则上应优先来源于纳入排污许可管理的排污单位采取的治理措施，并与建设项目位于同一设区市。根据《关于以改善环境质量为核心加强环境影响评价管理的通知》（环环评[2016]150号）中“三线一单”以及《杭州市“三线一单”生态环境分区管控方案》符合性分析，本项目的建设符合生态保护红线、环境质量底线、资源利用上线和生态环境准入清单管控的要求。项目严格执行建设项目新增VOCs排放量区域削减替代规定。符合3全面提升生产工艺绿色化水平。石化、化工等行业应采用原辅材料利用率高、废弃物产生量少的生产工艺，提升生产装备水平，采用密闭化、连续化、自动化、管道化等生产技术，鼓励工艺装置采取重力流布置，推广采用油品在线调和技术、密闭式循环水冷却系统等。工业涂装行业重点推进使用紧凑式涂装本项目为集成电路制造项目，不属于石化、化工等行业，不涉及工业涂装。项目有机废气经过沸石浓缩转轮焚烧系统处理后高空排放，可以做到达标排放。符合—16—工艺，推广采用辊涂、静电喷涂、高压无气喷涂、空气辅助无气喷涂、热喷涂、超临界二氧化碳喷涂等技术，鼓励企业采用自动化、智能化喷涂设备替代人工喷涂，减少使用空气喷涂技术。包装印刷行业推广使用无溶剂复合、共挤出复合技术，鼓励采用水性凹印、醇水凹印、辐射固化凹印、柔版印刷、无水胶印等印刷工艺。鼓励生产工艺装备落后、在既有基础上整改困难的企业推倒重建，从车间布局、工艺装备等方面全面提升治理水平。4全面推行工业涂装企业使用低本项目为集成电路制造项目，不涉及工业涂装工序。5大力推进低VOCs含量原辅材料的源头替代。全面排查使用溶剂型工业涂料、油墨、胶粘剂、清洗剂等原辅材料的企业，各地应结合本地产业特点和本方案指导目录，制定低VOCs含量原辅材料源头替代实施计划，明确分行业源头替代时间表，按照“可替尽替、应代尽代”的原则，实施一批替代溶剂型原辅材料的项目。加快低VOCs含量原辅材料研发、生产和应用，在更多技术成熟领域逐渐推广使用低VOCs含量原辅材料，到2025年，溶剂型工业涂料、油墨、胶粘剂等使用量下降比例达到国家要求。本项目为集成电路制造项目，不涉及溶剂型工业涂料、油墨、胶粘剂。项目清洗、光刻等工序涉及有机溶剂，工艺、原材料和废气处理设施均为行业内先进。符合6严格控制无组织排放。在保证安全前提下，加强含VOCs物料全方位、全链条、全环节密闭管理，做好VOCs物料储存、转移和输送、设备与管线组件泄漏、敞开液面逸散以及工艺过程等无组织排放环节的管理。生产应优先采用密闭设备、在密闭空间中操作或采用全密闭集气本项目生产车间均为洁净车间，生产过程中全密闭，均为有组织排放。符合罩收集方式，原则上应保持微负压状态，并根据相关规范合理设置通风量；采用局部集气罩的，距集气罩开口面最远处的VOCs无组织排放位置控制风速应不低于0.3米/秒。对VOCs物料储罐和污水集输、储存、处理设施开展排查，督促企业按要求开展专项治理。7不涉及符合8规范企业非正常工况排放管理。引导石化、化工等企业合理安排停检修计划，制定开停工（车）、检修、设备清洗等非正常工况的环境管理制度。在确保安全的前提下，尽可能不在O3污染高发时段（4月下旬—6月上旬和8月下旬—9月，下同）安排全厂开停车、装置整体停工检修和储罐清洗作业等，减少非正常工况VOCs排放；确实不能调整的，应加强清洗、退料、吹扫、放空、晾干等环节的VOCs无组织排放控制，产生的VOCs应收集处理，确保满足安全生产和污染排放控制要求。不涉及符合9建设适宜高效的治理设施。企业新建治理设施或对现有治理设施实施改造，应结合排放VOCs产生特征、生产工况等合理选择治理技术，对治理难度大、单一治理工艺难以稳定达标的，要采用多种技术的组合工艺。采用活性炭吸附技术的，吸附装置和活性炭应符合相关技术要求，并按要求足量添加、定期更换活性炭。组织开展使用光氧、光氧化、低温等离子、一次性活性炭或上述组合技术等VOCs治理设施排查，对达不到要求的，应当更换或升级改造，实现稳定达标排放。对收集后的有机废气“沸石浓缩转轮焚烧系统”处理装置处置达标后，35m高空排放。符合加强治理设施运行管理。按照治理设施较生产设备“先启后停”的原则提升治理设施投运率。根据处理工艺要求，在治理设施达到正常运行条件后方可启动生产设备，在生产设备停止、残留VOCs收集处理完毕后，方可停运治理设施。VOCs治理设施发生故障或检修时，对应生产设备应停止运行，待检修完毕后投入使用；因安全等因素生产设要求企业按照治理设施较生产设备“先启后停”的原则提升治理设施投运率。在治理设施达到正常运行条件后方可启动生产设备，在生产设备停止、残留VOCs收集处理完毕后，方可停运治理设施。VOCs治理设施发符合—18—备不能停止或不能及时停止运行的，应设置废气应急处理设施或采取其他替代措施。生故障或检修时，对应生产设备应停止运行，待检修完毕后投入使加强治理设施运行管理。按照治理设施较生产设备“先启后停”的原则提升治理设施投运率。根据处理工艺要求，在治理设施达到正常运行条件后方可启动生产设备，在生产设备停止、残留VOCs收集处理完毕后，方可停运治理设施。VOCs治理设施发生故障或检修时，对应生产设备应停止运行，待检修完毕后投入使用；因安全等因素生产设备不能停止或不能及时停止运行的，应设置废气应急处理设施或采取其他替代措施。要求企业在后续生产过程中加强治理设施运行管理，在在治理设施达到正常运行条件后方可启动生产设备，在生产设备停止、残留VOCs收集处理完毕后，方可停运治理设生故障或检修时，对应生产设备应停止运行，待检修完毕后投入使用；因安全等因素生产设备不能停止或不能及时停止运行的，应设置废气应急处理设施或采取其他替代措施。符合规范应急旁路排放管理。推动取消石化、化工、工业涂装、包装印刷、纺织印染等行业非必要的含VOCs排放的旁路。因安全等因素确须保留的，企业应将保留的应急旁路报当地生态环境部门。应急旁路在非紧急情况下保持关闭，并通过铅封、安装监控（如流量、温度、压差、阀门开度、视频等）设施等加强监管，开启后应做好台账记录并及时向当地生态环境部门报告。VOCs排放的旁路。符合—19—表1-7单位产品基准排水量适用企业产品规格单位单位产品基准排水量排水量计量位置半导体器件6英寸及以下芯片m3/片3.2与污染物排放监控位置一致8英寸芯片m3/片6.0寸芯片m3/片m3/片掩膜层数35层20封装产品传统封装产品m3/千块产品2.0圆片级封装产品m3/片分立器件m3/千块产品3.5片。项目建成后全厂年排水量为2355418吨，6英寸芯片产能为100规划绿化，主要从事6英寸半导体集成电路晶圆的生产销），生产车间、动力站等厂房和配套公用辅助设施，新增地上建筑面积管理名录（2021年版）》，本项目属于“三十六、计算机、通信和其他电子设表2.1-1工程组成工程名称工程规模主体工程芯片生产厂房FAB厂房核心区位于芯片生产厂房中间位置，共3层。1F：为生产支持区，主要布置废水提升间、纯水抛光间、PCW间、真空站、工艺设备腔体废气处理等。2F：为生产支持区，主要布置背面加工设备、工艺设备辅机。CVD工序）、炉管区、黄光区（曝光、显影工序）、干法刻蚀区、湿法刻蚀区、离子注入区、化学机械研磨区等。检测车间位于FAB厂房核心区南侧，共5层。1F布置芯片检测设备，对芯片进行测试。2F至5F为办公区域。化学品区位于FAB厂房核心区北侧，共1层。布置有机化学品间、可燃气体间、惰性气体间、腐毒气体间、废液收集间等。动力辅房位于FAB厂房核心区东侧，共4层。1F：气体纯化间、酸碱供应间、变电站等。2F至3F：工艺设备。4F：新风机房。动力站1幢，位于芯片生产厂房东侧，共3层。地下1F：水池、泵房。1F：锅炉房、废水处理站。2F：纯水站、空压机房。3F：柴发机房、变电站、冰机房。生产车间1至生产车间31幢，位于芯片生产厂房东侧，共6层。暂时闲置。丙类库1幢，位于芯片生产厂房北侧，共4层。存放一般性零部件，备品备件等。1幢，位于丙类库东侧，共1层。存放毒性气体（如氯气、砷烷、磷烷等）、双氧水以及IPA等有机溶剂。氢气站/氦气站1幢，位于甲类库东侧，共1层。现场布置氢气鱼雷车，主要负责氢气的供应。硅烷站1幢，位于氢气站/氦气站东侧，共1层。现场布置Y型瓶钢瓶，主要负责硅烷的供应。室外大宗气站位于氢气站/氦气站东侧及硅烷站北侧，现场布置液体储罐、汽化器、阀组等设备，制氮机包括空压机、预冷机、干燥机、冷箱等设备，主要负责提供氮气、氢气、氧气、氩气、氦气等大宗气体及制氮机。公用工程给水本工程项目供水系统主要包括生产、生活用水系统，各系统相互独立。项目生产用水、生活用水均由园区市政给水管网供给。排水厂区排水实行雨污分流，生产废水经厂区污水处理站处理后与经化粪池预处理的生活污水一起纳管排放。污水和雨水分别汇集后统一排入市政排污和雨水管道系统。供电市政电网供给，由国网供电公司110kV变电所提供不同母线段两回路20kV电源引入项目设置的高压进线柜，根据设备需求再进行电压变换，其中冷水机/制氮机采用10KV配电，其余低压配电电压为480V/380V/208V/220V。天然气由园区天然气管网接入，由杭州东能管道燃气有限公司供应天然气。供热由杭州航民江东热电有限公司提供的0.8MPa，170℃饱和蒸汽。另外项目设置3台燃气锅炉作为备用热源。辅助工程循环水系统循环水系统分为工艺用低温循环冷却水系统和冷冻站冷却循环水系统。其中供外延炉、光刻机等工艺设备用低温冷却水循环水量为1250m3/h，供水温度≤20℃,回水温度≤34℃,供水压力为0.45、0.65MPa。冷冻站屋顶设冷却塔6组，与冷冻机配套使用。纯水系统本系统供给工艺生产设备所需用纯水，供水压力为0.4MPa，电阻率大于18MΩ•cm（25℃),流量为220m3/h。空压站本项目生产工艺设备需要无油干燥压缩空气，压缩空气的品质要求如下：压力：0.75MPa、露点：-70℃（压力露点）；空压站位于动力站一层；压缩空气经鼓风式干燥装置处理，达到工艺专业要求的露点，并经后过滤器及精密过滤器过滤，达到规定控制的含尘要求，送至使用点；项目配备4台（3用1备）水冷变频螺杆空气压缩机。冷冻站项目生产车间洁净度要求100级和1000级，要求恒温恒湿（需要温度调节的车间面积16000m2）。公司配置离心式冷水机组12台（10用2备），其中低温冷水机组5台（4用1备），中温冷水机组7台（6用1备）（其中4台为热回收机组），合计制冷量为61900kW，能可满足项目制冷量需求。冷冻站设置在动力站三层，冷冻水采用闭式循环系统，供回水温度：低温系统6℃/12℃,中温系统12℃/18℃,冷却水供回水温度为：32/38℃。换热站本项目设置换热站位于动力站二层，与中温热回收系统一起为本项目提供低温热水。低温热水优先使用中温热回收系统，在中温热回收系统无法满足热量需求时，再开启蒸汽换热机组。蒸汽换热机组热源采用杭州航民江东热电有限公司提供的0.8MPa，170℃饱和蒸汽，二次侧热水供回水温度为38℃/32℃,设置2套8000kW的板式汽水换热器；凝结水回收至UT水池。暖通空调本项设置净化空调系统，洁净室净化级别分别为100级和1000级。洁净室为三层结构形式：三层为洁净生产区，二层为回风下夹层，一层为辅助生产区。净化空调系统为采用MAU(新风机组)+FFU（风机过滤单元）+DC（干表冷盘管）的方式。其气流流程如下：回风→DC→和MAU新风混合→FFU→生产区→回风格栅地板→下夹层→回风夹道。其中新风集中处理系统采用组合式空调机组MAU，新风加湿采用淋水室加湿，以保证生产区的相对湿度。通讯信息厂区通信系统包括火灾自动报警系统、广播系统、通信系统、闭路电视监控系统、门禁系统、停车场管理系统、周界报警系统等。本工程火灾自动报警系统采用集中报警形式，在接入园区报警系统后形成控制中心报警系统。项目设置可燃气体探测报警系统、特气泄漏报警系统、化学品液体泄漏报警系统。可燃气体探测报警系统：在使用可燃气体处设置可燃气体探测器，气体探测器报警后，由可燃气体探测控制器联锁启动保护区域的声光报警器，并开启相应的事故排风机；火警系统接收可燃气体报警控制器的报警信号和故障信号。特气泄漏报警系统：在化学品库、主厂房特气供应间等设置特气泄漏探测器。当气体探测器报警，自动关闭相关气体管路上的阀门，并联锁启动现场声光警报器和应急广播系统，同时启动事故排放系统。化学品液体泄漏报警系统：对本工程内使用液体化学品（酸、碱、有机）的场所进行化学品泄漏探测，采用泄漏电缆探测方式，发生泄漏报警时，联动专用声光报警器，同时联动事故排风机。通风本项目动力站（冷冻空压站、锅炉房、变电站）、车间通风、化学品库均设置机械通风，自然进风。真空系统本项目工艺真空泵设置在厂房真空泵房内，设置工艺真空系统，螺杆功率：11KW/380V/50HZ。大宗气体供应由大宗气体站为本项目提供氮气、氧气等大宗气体以及压缩空气。本项目所需氮气由空分制氮系统供应。特气供应系统特殊气体由设在芯片生产厂房的化学品区的特气柜（瓶）分配到FAB生产厂房的支管/阀门箱。氢气站主要负责氢气的供应。硅烷站主要负责硅烷的供应。储运工程厂区动力管道厂区天然气管道采用直埋方式敷设；压缩空气管道和生产热水管道采用沿通廊架空方式敷设。危险品库位于甲类库中，存放风险较大的毒性气体、易燃气体、易燃液体等。化学品库位于FAB厂房核心区北侧，共1层。布置有机化学品间、可燃气体间、惰性气体间、腐毒气体间、废液收集间等。1幢，位于丙类库东侧，共1层。存放毒性气体（如氯气、砷烷、磷烷等）、双氧水以及IPA等有机溶剂。运输本项目原材料绝大部分为进口原材料，运输方式为陆运、海运、空运均有。该项目的原辅材料对运输条件要求较高，市区内运输由专业运输公司承担，以专用货车运至厂区内。化学品及特殊气体，视需要送至厂内，置于专设的化学品仓库（化学品供应间及化学品库）或生产厂房动力辅助区气体及化学品中央供应间，并做好安全卫生防护措施。化学品仓库内的气态和液态化学品，根据需要由专人领料，用叉车运至FAB底层化学品、气体供应室或生产车间本地供应处。项目的大高纯氢气（PH2）、高纯氧气（PO2）来源于项目地块东北侧的大宗气体站，该气体站提供满足用气点需求的气体，通过管道输送至工艺生产区。环保工程废水废水处理规模t/d处理方式本项目各类废水经厂区污水处理站处理达到纳管标准后纳入市政最终由临江污水处理厂集中处理后达标排放。酸碱废水二级酸碱中和池酸碱废气洗涤塔废水纯水机反冲洗水高浓度氨氮废水“pH调节池+二级吹脱塔”处理后进入低浓度氨氮废水处理系统低浓度氨氮废水“调节池+氧化反应池+还原反应池”处理后进入有机废水处理系统有机废水pH调节池+综合废水调配池+水解酸化池+缺氧池+好氧池+MBR膜池POU洗涤塔废水（部分）含氟废水2300pH调节池+一级反应池+一级混凝池+一级絮凝化池+一级沉淀池+二级反应池+二级混凝池+二级絮凝化池+二级沉淀池氟化氨废水POU洗涤塔废水（含氟部分）研磨废水360pH调节池+混凝池+絮凝化池+沉淀池普通金属化废水（含Al和磷）90pH调节池+一级反应池+一级混凝池+一级絮凝化池+一级沉淀池+二级反应池+二级混凝池+二级絮凝化池+二级沉淀池含磷废水含镍废水30调节池+反应池+混凝池+絮凝化池+沉淀池含镍银废水20一级反应池+一级混凝池+一级絮凝化池+一级沉淀池+二级反应池+二级混凝池+二级絮凝化池+二级沉淀池含镍钒废水调节池+反应池+混凝池+絮凝化池+沉淀池含钴废水一级反应池+一级混凝池+一级絮凝化池+一级沉淀池+二级反应池+二级混凝池+二级絮凝化池+二级沉淀池废气废气风量m3/h处理方式排气筒编号高度一般酸性废气6×50000碱液喷淋吸收塔DA001-DA00735m碱性废气酸液喷淋吸收塔DA008-DA01135m0.8m有机废气3×55000沸石浓缩转轮焚烧系统DA012-DA01535m工艺尾气（不含砷）/POU净化装置处理后纳入酸性废气处理系统DA001-DA00735m含砷工艺尾气4800POU净化装置（干式吸DA016-DA01735m0.4mPOU废气处理设施天然气燃烧废气//DA001-DA00735m2m沸石转轮天然气燃烧废气//DA012-DA01535m燃气锅炉/低氮燃烧DA018-DA02035m0.6m废水处理站废气30000碱喷淋+次氯酸钠喷淋DA02130m食堂油烟12000油烟净化设施///一般固废仓库厂区内设有1个一般工业固废暂存库，位于丙类库，面积约414m2危废仓库厂区内设有1个危险废物暂存库，位于甲类库，面积废液收集罐厂区光刻胶废液间有1个15m3光刻胶混合废液罐，有机废液收集间有1个5m3IPA废液罐体和1个2m3丙酮废液罐体；废液收集间有1个2m3BOE含氟化铵废液罐、1个2m3含钴废液罐、1个2m3镍钒废液罐、1个2m3含磷废液罐、1个5m3镍银废液罐。污泥暂存间厂区内设有1个污泥暂存库，位于动力站1层，面积事故应急池及在动力站地下一层设置一个事故应急池（容积约1400m3）及一个室外初期雨水池应急池（容积约500m3）。表2.1-2产能情况产品单位产量规格（线宽）备注6英寸半导体集成电路晶圆万片/年130-500nm/2.1.4生产单元、工艺、生产设施及设施参数表2.1-3设备清单序号生产单元1湿法清洗23成膜456789图形化2021222324252627282930功能化313233343536硅片背面加工373839404142检验4344454647484950515253545556设备和备件清洗57585960辅助616263实验室64656667大宗气站686970717211700KW/h，动力站各辅助用房一般空调热负荷80KW/h，丙类库热负荷闭磁场，和靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域，般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、2.1.5主要原辅材料及燃料的种类和用量序号1234567892021表2.1-4本项目主要原辅材料及能资源消耗一览表2223242526272829303132333435363738394041424344454647484950515253545556575859606162636465666768697071727374757677787990919293949596979899*备注：由于半导体（含集成电路）制造用清洗剂不适用《清洗剂挥发性有机化合物含量限值》（GB38508-2020）标准要求，因此EBR边胶清洗*剂不进行《清洗剂挥发性有机化合物含量限值》（GB38508-2020）标准符合性分析。表2.1-5本项目各工序主要原辅材料及能资源消耗一览表序号生产单元生产工艺1//2湿法清洗湿法清洗345—36—678成膜外延沉积EPI介质沉积9202122232425262728293031CVD-腔体清洗金属沉积（溅射）金属沉积（蒸镀）热氧化3233343536373839404142434445464748495051525354555657图形化碱洗碱洗光刻湿法刻蚀585960616263646566676869707172737475SC176湿法去胶干法刻蚀777879909192939495—40—96干法去胶979899功能化离子注入化学机械研磨研磨垫S-padpad固态片/年2500/退火湿法清洗湿法清洗湿法刻蚀减薄贴膜硅片减薄成膜金属沉积清洗清洗测试测试表2.1-6本项目主要能资源消耗一览表序号名称规格单位年使用量来源1KVA万KWh/a20.2MPam3/d市政自来水供应3纯水/m³/h自建纯水站供应4冷却水PCWm3m3/h（可内循环使用）5天然气/Nm3Nm3/hocalscrubber及EPI使用）/Nm3Nm3/h使用，仅在启用备用锅炉才涉及）/Nm3Nm3/h（沸石转轮使用）6蒸汽/t/h低压蒸汽7工艺真空/Nm3/h公司内真空站8压缩空气/Nm3/h大宗气体站9氮气/Nm3/h大宗气体站高纯氮气/Nm3/h大宗气体站高纯氢气/Nm3/h大宗气体站高纯氧气/Nm3/h大宗气体站高纯氩气/Nm3/h瓶装供应高纯氦气/Nm3/h瓶装供应2.1.6主要原辅料中与污染排放有关的物质或元素表2.1-7挥发性有机物平衡表产排污环节物料名称挥发性有机物含量年用量kgVOCS浓度取值%VOCS含量kg/aVOCS进入废液VOCS进入废水VOCS进入废气例%含量例%例%含量例%例%含量例%W7氟化氨废水、W8普通金属化废水（含Al和磷）、W9含镍废水、W10含钴废），间）布置于厂区中部，动力站位于生产厂房西侧硅烷站及大宗气站等辅助设施位于生产厂房北侧，对生表21-8新建厂房技术经济指标序号指标名称单位指标规划1项目总用地面积m2470682项目总建筑面积m2115733.353地上建筑面积m2103590.964地下建筑面积m212142.395计容建筑面积m2103590.966容积率 2.20大于2.27绿地面积m210429.898绿地率%22.16大于20%9建筑基底面积m224218.03建筑密度%51.45非生产性用房占地面积m20非生产性用房占地面积占比%0非生产性用房建筑面积m20非生产性用房建筑面积占比%0机动车位车位个428地上机动车位个地下机动车位个293非机动车位个793表2.1-9主要建筑物指标序号名称总建筑面积（m2）建筑基底面积（m2）建筑高度火灾危害性备注1FAB厂房15556.9163253.3630.05丙类/其中核心区9580.7938323.15/丙类/检测车间2254.32/丙类/动力辅房2482.612319.4/丙类/化学品区1339.21339.2/丙类/2动力站4254.1221270.624.3丁类/3生产车间25201368027.7丙类/其中生产车间1648027.7丙类/生产车间2648027.7丙类/生产车间33607208.6丙类/4丙类库900450024.1丙类合生活垃圾用房127m254504506.7/6氢气站2522526.5/7硅烷站5.8/8主门卫65654.5民用建筑/2.2.1集成电路产业链生产工艺电路产业链包括“产品设计（含掩膜设计）->晶圆制造->光刻版产品设计理论设计电路设计图形设计晶光刻版产品设计理论设计电路设计图形设计晶圆产品工艺流程原材料硅片气体化学品金属其它硅片制造流程（本项目）硅片制造流程（本项目）外延沉积介质沉积化学机械研磨贴揭膜硅片减薄干法去胶干法刻蚀湿法清洗湿法刻蚀湿法去胶金属沉积离子注入电学测试扩散氧化退火光刻图2.2-1集成电路产业链简化工艺流程图芯片封装芯片封装划片封装键合塑封性能测试2.2.2芯片生产工艺及产污环节分析图2.2-2芯片生产工艺流程图2.2.2.1清洗工序简介及产污环节分析2.2.2.2成膜工序生产工艺流程及产污环节分析化学气相沉积（CVD）是通过气态物质的化学反应在硅晶圆片表面淀积图氮化钛()沉积工艺流程及产污环节图包括：涂胶、曝光、显影、刻蚀、去胶等工艺集成电路工艺中应用的刻蚀技术主要包括液态的湿法刻蚀和气态的干法1）湿法刻蚀：通过特定的溶液与需要刻蚀的薄膜材料发生化学反应，除去2）干法刻蚀：干法刻蚀是指利用等离子体激活的化学反应或者利用高能离子束轰击完成去除物质的方法。由于在刻蚀中不使经过刻蚀后，将光刻胶从晶片表面除去的过程称为去胶。去胶的方法分为注入前，加入Xe可中和掺杂过程产生的正电荷。本项目离子注入工序简介见2.2.2.5背面加工相关工序简介及产污节点分析2.2.3污染因子识别、环境风险因素识别表2.2-11本项目营运期污染因子汇总污染物类型产生单元废气FAB厂房核心区动力站污水处理环保工程员工生活FAB厂废水房核心废水区涂胶、曝光、显影湿法刻蚀去胶化学机械研磨背面加工—101—保工程废气处理废气处理废气处理纯水制备纯水制备冷却塔冷冻系统员工生活生产工艺设备运行废物FAB厂房核心区涂胶湿法刻蚀去胶溅射蒸镀背面加工湿法刻蚀（背面返工）原辅料使用原辅材料使用原辅材料使用原辅料使用超纯水制备超纯水制备超纯水制备超纯水制备超纯水制备废气处理（PO干式吸附）沸石转轮废气处理装置污水处理污水处理污水处理污水处理污水处理污水处理污水处理污水处理设备维修保养生产生活员工生活环保工程辅助工程问表3.1-1环境空气质量达标分析污染物年评价指标现状浓度(μg/m3）标准值(μg/m3）达标情况SO2年均浓度660达标NO2年均浓度3440达标PM10年均浓度557079达标PM2.5年均浓度2835达标CO第95百分位数日平均浓度900400023达标O3第90百分位数日最大8小时平均浓度不达标由上表可知，杭州市2021年环境空气质量为不达标区。杭州市区域达标规造，重点区域、重点行业VOCs污染治理，产业结构调整，自动监测网络建设斯检测科技有限公司对项目周边大气环境进行了为02、08、14、20时）。砷、TSP表3.1-2环境空气现状监测结果表采样点检测项目时段检测结果（单位：mg/m3）2022.5.142022.5.152022.5.162022.5.172022.5.182022.5.192022.5.20项目所在地Q1非甲烷总烃（以碳计）020820总悬浮颗粒物0.1160.1100.1270.1280.107氟化物020.001040.000700.000950.000670.000960.000330.00096080.000640.000920.000580.000810.000560.000740.000730.000960.000640.001270.000880.000460.000650.00084200.000580.001130.000730.000640.000500.000840.000640.000470.000230.000190.000170.000180.000160.00020氯化氢020.0220.0220.0230.0230.023＜0.022＜0.022080.022＜0.0220.0230.022＜0.0220.024＜0.022＜0.0220.022＜0.0220.0230.0220.0220.02220＜0.022＜0.022＜0.022＜0.022＜0.022＜0.0220.0230.0110.0110.0120.0100.0110.0130.013硫酸雾020.0130.0090.0170.0170.0060.0110.015080.0120.0080.0150.0070.0150.0080.0070.0130.0100.0090.0090.0070.0100.007200.0060.0130.0080.0160.0140.0150.0130.0050.0070.0060.0060.0050.0070.006氯气02＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.0308＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.0320＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.001＜0.001＜0.001＜0.001＜0.001＜0.001＜0.001氨020.050.030.020.040.060.020.03080.020.050.050.040.050.060.040.040.040.040.030.040.030.06200.020.040.030.050.050.040.05臭气浓度0208砷新江村Q2非甲烷总烃（以碳计）020820总悬浮颗粒物0.1350.1150.1300.1040.140氟化物020.000840.000840.000580.000460.000240.000880.00084080.000460.001040.000800.000370.000850.000670.000700.000640.000670.000100.000770.000560.000460.00050200.000910.000950.000700.000740.000840.000700.000680.000490.000190.000170.000120.000160.000170.00024氯化氢020.022＜0.022＜0.0220.023＜0.022＜0.0220.022080.022＜0.0220.023＜0.0220.022＜0.022＜0.0220.022＜0.0220.0230.022＜0.022＜0.022＜0.02220＜0.0220.023＜0.0220.024＜0.0220.0240.0230.0100.0090.0100.0110.0090.0150.010硫酸雾020.0070.0150.0100.0100.0090.0070.013080.0140.0160.0060.0180.0070.0090.0090.0110.0110.0140.0150.0160.0160.008200.0090.0100.0070.0090.0120.0080.0190.0060.0060.0050.0070.0060.0060.005氯气02＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.0308＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.0320＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.03＜0.001＜0.001＜0.001＜0.001＜0.001＜0.001＜0.001氨020.050.050.020.060.040.050.04080.030.030.050.050.050.020.040.030.040.060.030.030.040.05200.020.040.030.050.020.050.03臭气浓度020820砷NH3符合HJ2.2-2018附录D标准要求，非甲烷标准详解》中的取值标准。其中砷、氟化物、3.1.2地表水环境表3.1-3项目附近地表水监测结果检测项目单位检测结果沿塘抢险河地表水监测断面W12022.5.142022.5.152022.5.16*pH值/7.57.67.5*水温℃22.4*溶解氧mg/L5.625.615.62高锰酸盐指数mg/L3.5化学需氧量mg/L五日生化需氧量mg/L3.33.43.3氨氮mg/L0.2360.3270.393总磷mg/L0.040.030.005铜mg/L0.01L0.01L0.01L氟化物mg/L0.1740.1590.173砷mg/L0.0003L0.0003L0.0003L硫化物mg/L0.01L0.01L0.01L钴mg/L0.005L0.005L0.005L银mg/L0.0025L0.0025L0.0025L镍mg/L0.005L0.005L0.005L注：1.有*为现场测试值；2.L表示检测结果小于检出限。表3.1-4噪声现状监测结果单位：dB(A)监测编号监测点位监测时间监测值标准值昼间夜间昼间夜间厂界东2022.5.2256.647.965552#厂界南2022.5.2257.146.365553#厂界西2022.5.2255.745.865554#厂界北2022.5.2256.446.66555项目不涉及有关电磁辐射类项目，无需对项目电磁辐射现状开展监测与评3.1.6地下水环境氨氮、硝酸盐、亚硝酸盐、挥发性酚类、氰化物、砷、汞、铬(六价)、总硬度、③监测频次：有效监测1次，监测1天。取样点深度应在井水位以下1.0m表3.1-5地下水位监测结果采样点水位采样点水位D14.24D24.28D34.25D44.24D54.20D64.32表3.1-6地下水阴阳离子监测结果监测项目D1D2D3CCCmg/Lmeq/Lmg/Lmeq/Lmg/Lmeq/L阳离子K+24.40.6325.20.6524.70.63Na+24.323.924.0Ca2+61.23.0659.62.9859.62.98Mg2+合计/6.08/6.02/6.02阴离子CO32-<50.00<50.00<50.00HCO3-2303.772253.692273.72Cl-26.00.7326.30.7425.90.73SO42-71.471.971.3合计/5.99/5.93/5.94离子平衡误差*/-0.75%/-0.75%/-0.67%注：C当量（meq/L）=C（mg/L）×离子的化合价/离子的原子量。离子平衡误差的检查公式为E=(∑mc-∑ma）/(∑mc+∑ma）×100%，式中E为相对误差，mc、ma分别为阴离子和阳离子的当量总数。表3.1-7地下水水质监测和评价结果表检测项目单位检测结果(2022.5.14)D1D2D3pH值/7.17.07.2水温℃氨氮mg/L0.1910.1490.206硝酸盐mg/L4.314.544.79亚硝酸盐mg/L0.005L0.005L0.005L挥发酚mg/L0.0003L0.0003L0.0003L氰化物mg/L0.004L0.004L0.004L砷mg/L0.001L0.001L0.001L汞mg/L0.0001L0.0001L0.0001L六价铬mg/L0.004L0.004L0.004L总硬度mg/L220217218铅mg/L0.00007L0.00007L0.00007L氟化物mg/L0.0440.0430.037镉mg/L0.00006L0.00006L0.00006L铁mg/L0.03L0.03L0.03L锰mg/L0.040.070.05溶解性总固体mg/L453448449耗氧量(高锰酸盐指数)mg/L2.12.62.2硫酸盐mg/L71.471.971.3氯化物mg/L26.026.325.9总大肠菌群MPN/100mL未检出未检出未检出细菌总数CFU/mL394247钴mg/L0.00003L0.00003L0.00003L银mg/L0.00003L0.00003L0.00003L镍mg/L0.00007L0.00007L0.00007L注：1.有*为现场测试值；2.L表示检测结果小于检出限。），表3.1-8土壤监测点位一览表位置编号监测点位类型监测因子厂区内T1厂区内（FAB厂房）柱状样《土壤环境质量建设用地土壤污染风险管控标准（试行）》（GB36600-2018）表1中的基本项目共45项（其中包括了本项目特征因子镍）、pH、石油烃、钴、银T2厂区（污水处理站）柱状样pH、石油烃、钴、银、镍T3厂区（危废仓库）柱状样pH、石油烃、钴、银、镍T4厂区（生产车间）表层样pH、石油烃、钴、银、镍厂区外T5厂区外北侧工业用地表层样《土壤环境质量建设用地土壤污染风险管控标准（试行）》（GB36600-2018）表1中的基本项目共45项（其中包括了本项目特征因子镍）、pH、石油烃、钴、银T6厂区外东侧农田表层样《土壤环境质量农用地土壤污染风险管控标准（试行）》（GB15618-2018）的基本因子（其中包括了本项目特征因子镍）、pH、石油烃、钴、银表3.1-9土壤监测统计结果表检测项目单位检测结果T5T6T10-0.2m0-0.5m0.5-1.5m1.5-3.0m3.0-6.0mpH值/7.297.386.987.257.327.44镉mg/kg3.042.903.733.713.423.60汞mg/kg0.100.130.100.10砷mg/kg<0.5<0.5<0.5<0.5<0.5<0.5铅mg/kg2467677六价铬mg/kg57.228.629.129.035.432.1铜mg/kg0.07960.07840.1260.1450.1340.167镍mg/kg413134313733四氯化碳μg/kg<1.3<1.3<1.3<1.3<1.3<1.3氯仿μg/kg<1.1<1.1<1.1<1.1<1.1<1.1氯甲烷μg/kg<1.0<1.0<1.0<1.0<1.0<1.01,1-二氯乙烷μg/kg<1.2<1.2<1.2<1.2<1.2<1.21,2-二氯乙烷μg/kg<1.3<1.3<1.3<1.3<1.3<1.31,1-二氯乙烯μg/kg<1.0<1.0<1.0<1.0<1.0<1.0顺-1,2-二氯乙烯μg/kg<1.3<1.3<1.3<1.3<1.3<1.3反-1,2-二氯乙烯μg/kg<1.4<1.4<1.4<1.4<1.4<1.4二氯甲烷μg/kg<1.5<1.5<1.5<1.5<1.5<1.51,2-二氯丙烷μg/kg<1.1<1.1<1.1<1.1<1.1<1.1μg/kg<1.2<1.2<1.2<1.2<1.2<1.2μg/kg<1.2<1.2<1.2<1.2<1.2<1.2四氯乙烯μg/kg<1.4<1.4<1.4<1.4<1.4<1.4μg/kg<1.3<1.3<1.3<1.3<1.3<1.31,1,2-三氯乙烷μg/kg<1.2<1.2<1.2<1.2<1.2<1.2三氯乙烯μg/kg<1.2<1.2<1.2<1.2<1.2<1.21,2,3-三氯丙烷μg/kg<1.2<1.2<1.2<1.2<1.2<1.2氯乙烯μg/kg<1.0<1.0<1.0<1.0<1.0<1.0苯μg/kg<1.9<1.9<1.9<1.9<1.9<1.9氯苯μg/kg<1.2<1.2<1.2<1.2<1.2<1.21,2-二氯苯μg/kg<1.5<1.5<1.5<1.5<1.5<1.51,4-二氯苯μg/kg<1.5<1.5<1.5<1.5<1.5<1.5μg/kg<1.2<1.2<1.2<1.2<1.2<1.2苯乙烯μg/kg<1.1<1.1<1.1<1.1<1.1<1.1μg/kg<1.3<1.3<1.3<1.3<1.3<1.3间二甲苯+对二甲苯μg/kg<1.2<1.2<1.2<1.2<1.2<1.2邻二甲苯μg/kg<1.2<1.2<1.2<1.2<1.2<1.2硝基苯mg/kg<0.09<0.09<0.09<0.09<0.09<0.09苯胺μg/kg<1.0<1.0<1.0<1.0<1.0<1.02-氯酚mg/kg<0.06<0.06<0.06<0.06<0.06<0.06苯并[a]蒽mg/kg<0.1<0.1<0.1<0.1<0.1<0.1苯并[a]芘mg/kg<0.1<0.1<0.1<0.1<0.1<0.1苯并[b]荧蒽mg/kg<0.2<0.2<0.2<0.2<0.2<0.2苯并[k]荧蒽mg/kg<0.1<0.1<0.1<0.1<0.1<0.1䓛mg/kg<0.1<0.1<0.1<0.1<0.1<0.1二苯并[a,h]蒽mg/kg<0.1<0.1<0.1<0.1<0.1<0.1茚并[1,2,3-cd]芘mg/kg<0.1<0.1<0.1<0.1<0.1<0.1萘mg/kg<0.09<0.09<0.09<0.09<0.09<0.09石油烃（C10-C40）mg/kg<6348<6钴mg/kg银mg/kg<0.1<0.1<0.1<0.1<0.1<0.1表3.1-10土壤监测统计结果表检测项目单位检测结果T4T20-0.2m0-0.5m0.5-1.5m1.5-3.0m3.0-6.0mpH值/7.527.177.367.247.48mg/kg373135钴mg/kg银mg/kg<0.1<0.1<0.1<0.1<0.1镍mg/kg4130312829表3.1-11土壤监测统计结果表检测项目单位检测结果T30-0.5m0.5-1.5m1.5-3.0m3.0-6.0mpH值/7.197.237.387.18石油烃（C10-C40）mg/kg<6<6<6钴mg/kg银mg/kg<0.1<0.1<0.1<0.1镍mg/kg394039403.2环境保护目标标3.2.3地下水环境3.3污染物排放控制标准排放标准》(GB16297-1996)表2中的无组织排放监控浓度限值要求。具体见表表3.3-1《大气污染物综合排放标准》（GB16297-1996）污染物无组织排放监控浓度限值监控点浓度（mg/m3）颗粒物周界外浓度最高点本项目运营期生产过程的氯气、氟化物、HCl、NOx、硫酸、非甲烷总烃执）；参照执行江苏省地方标准《半导体行业污染物排放标准表3.3-2《大气污染物综合排放标准》（GB16297-1996）污染物最高允许排放浓度（mg/m3）最高允许排放速(kg/h)无组织排放监控浓度限值排气筒(m)二级监控点浓度（mg/m3）氯气6535周界外浓度最高点0.40氟化物9.00.820HCl2.00.20非甲烷总烃76.54.0硫酸45NOx2406.0硅烷*3.05.00.52丙酮*30.63.2砷化氢*0.30.036磷化氢*0.80.08异丙醇*4023.02.4注：①允许排放速率依据《制定地方大气污染物排放标准的技术方案》（GB/T13201-91）中第6节所推荐公式计算：Q=Cm×R×Ke②根据《大气污染物综合排放