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文档简介

中国电子工业标准化技术协会

团体标准《磁光克尔显微镜》(征求意见稿)编制说明

一、工作简况

1、项目背景

当今高度智能化社会中,以磁性随机存储器(MRAM)、巨磁阻传感器(GMR

Sensor)等为代表的新型电子自旋器件,将在大数据信息存储、硬盘信息读取、

定位及导航、汽车自动驾驶等领域扮演重要角色。磁性薄膜是制造MRAM芯片、GMR

传感器芯片的基础。磁光克尔成像技术是精确、直观、快速检测磁性薄膜性质和

质量,检测自旋电子器件作用过程的重要手段。磁光克尔显微镜是此领域研究的

重要工具。

磁光克尔显微镜设备可应用于高等院校、科研院所的科学研究,用于探测材

料和自旋电子芯片的性能,包括磁性动力学研究、磁性材料性质测试,自旋电子

芯片测试等;可用于产业界的磁性材料研发和自旋电子芯片研发制造等。

磁光克尔显微镜是磁性芯片等领域的重要研发工具,当前商用的磁光克尔显

微镜市场几乎被德国的Evico公司和英国的DurhamMagnetoOpticsLtd公司占

领。国内磁光克尔显微镜设备打破了这种垄断局面,但是目前尚未有高性能磁光

克尔显微镜实现商业化量产。当前我国针对磁光克尔显微镜的相关标准处于空白

状态,这使得磁光克尔显微镜设备的研发应用受到限制。该标准的制定有利于规

范磁光克尔显微镜的设计、制造流程以及产品质量,为磁光克尔显微镜的产品验

收提供技术依据,有效促进磁光克尔显微镜的推广应用,有利于推动国内基于磁

性薄膜的相关芯片和传感器的研发,助力国家科学和信息产业的发展。

2、任务来源

本文件的编制任务来源于中国电子工业标准化技术协会(以下简称“中电标

协”)2023年11月27日发布的《关于公布2023年第十批团体标准制修订项目的通

知》(中电标通[2023]030号),项目号为CESA-2023-096,项目标准名称为:磁

光克尔显微镜。本文件为新制定标准,项目周期为12个月。技术归口单位是中国

电子工业标准化技术协会,项目牵头单位为致真精密仪器有限公司。

3、标准起草单位

中国电子工业标准化技术协会

本标准起草单位:致真精密仪器有限公司、北京航空航天大学、中国电子技

术标准化研究院、中国电子科技集团公司第九研究所、中国计量大学、中国科学

院物理研究所、致真存储(北京)科技有限公司、中国计量科学研究院……

4、主要工作过程

1)标准预研

2023年3月-2023年7月,针对磁光克尔显微镜设备,致真精密仪器有限公司

进行了广泛的前期研究,并查阅了大量的相关标准、规范,并与标准起草单位进

行讨论,初步确认了该标准草案的框架和主要内容,开始撰写标准草案。

2023年9月,致真精密仪器有限公司完成了标准草案的初步撰写。

2023年9月28日,各标准起草单位对标准草案进行了讨论,旨在进一步修订

标准的内容。修改完善后形成齐套立项材料申报立项。

2)标准立项

2023年10月13日,由中国电子工业标准化技术协会组织团体标准立项论证

会,对《磁光克尔显微镜》团体标准项目建议进行了论证,并同意立项。

3)标准编制

2023年11月27日,根据中电标协发布的《关于公布2023年第十批团体标准制

修订项目的通知》(中电标通[2023]030号)要求,致真精密仪器有限公司联合

中国电子技术标准化研究院等单位成立标准起草组,开展标准编制工作。

2023年12月4日,标准起草组主要负责人召开会议,对后续标准制定工作进

行规划安排,推进标准草案编写进度。会议中对标准草案进行了研讨,初步形成

了《磁光克尔显微镜》(草案)。

2024年12月5日-2024年6月10日,标准起草组对草案进行研讨和完善。

2024年6月11日,标准起草组成员召开研讨会,会议集中对草案的内容再次

进行了详细讨论。最终,会后形成该标准的《磁光克尔显微镜》(征求意见稿),

提交中电标协公开征求意见。

二、标准编制原则和确定主要内容的论据及解决的主要问题

1、标准编制原则

在标准编制过程中,遵循了以下原则:

中国电子工业标准化技术协会

a)科学性。本标准依托现有产业应用要点,充分结合生产企业以及用户企

业产学研用的优势,充分利用科研成果、产业需求调研结果,保障标准指标的科

学合理。

b)先进性。本标准制定过程中充分考虑了磁光克尔显微镜最新的技术趋势

和发展方向,具有前瞻性。

c)全面性。本标准在编制过程中充分考虑到标准的全面性,保证能够覆盖

到磁光克尔显微镜设备中的各项指标,确保标准的完备性。

d)中立性。在本标准制定过程中,编制工作组对标准文本进行了充分讨论,

确保了中立性和客观性。

e)规范性。本标准的编写遵守国家标准GB/T1.1-2020《标准化工作指导

第一部分:标准化文件的结构和起草规则》。

2、标准主要内容

本文件规定了磁光克尔显微镜设备的术语和定义、结构、分类、基本参数、

工作条件、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和储存。其中基本参

数主要包括成像视野、磁成像分辨率、磁成像灵敏度、磁场强度范围以及磁场监

测精度等。

本文件适用于磁光克尔显微镜设备的设计、生产及测试。产品可以用于观察

磁性材料表面以及磁性薄膜材料的磁化状态并成像。

3、主要解决的问题

目前国内没有与磁光克尔显微镜设备相关的标准,本标准主要解决市场中不

同生产厂商所生产设备的差异化问题。本标准的制定有助于集成电路产业链的建

设,有效避免定制化产品导致的市场垄断局面。

三、主要试验[或验证]情况分析

在本文件编制过程中,多家行业内生产单位以及用户企业、科研院校积极参

与到编制工作当中,充分考虑当下科技发展现状及应用需求。从市场符合性角度

分析,标准中所涉及设备已经投入到实际生产与科研工作当中,所涉及的技术指

标均已经通过测试验证,所涉及的技术内容符合我国产业需求。

四、知识产权情况说明

无。

中国电子工业标准化技术协会

五、产业化情况、推广应用论证和预期达到的经济效果

本文件规定了磁光克尔显微镜设备的构成及技术指标,指导磁光克尔显微镜

设备的设计、制造、采购和评价活动,解决由于标准不统一所导致的同类产品之

间的差异,解决集成电路生态链不完整等问题。本标准的发布有助于打破磁光克

尔显微镜市场的国际垄断局面,推动集成电路产业链的国产化进程。

本文件的发布有助于磁光克尔显微镜设备的推广应用,推动磁光克尔显微镜

设备市场发展,进一步推动磁性芯片和集成电路制造领域的发展。

六、转化国际标准和国外先进标准情况

该项目不涉及国际标准或者国外先进标准的转化问题。

七、与现行相关法律、法规、规章及相关标准的协调性

该项目符合我国有关的现行法律、法规。

八、重大分歧意见的处理经过和依据

无重大分歧意见。

九、贯彻标准的要求和措施建议

通过文件的实施实现产业内的共识性规范,推动磁光克尔显微镜设备在磁性

芯片研发领域和集成电路制造领域的应用。

待文件正式发布后,可以通过各级组织和科研单位进一步贯彻和实施,推动

各级各类高校、科研机构、

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