2026秋招：北方华创笔试题及答案

2026秋招：北方华创笔试题及答案

单项选择题（每题2分，共20分）1.半导体制造中光刻工序的主要作用是（）A.去除杂质B.图案转移C.注入离子D.生长薄膜2.以下哪种气体常用于半导体刻蚀工艺（）A.氧气B.氮气C.氯气D.氢气3.北方华创主要业务不包括（）A.半导体装备B.真空装备C.新能源汽车D.锂电装备4.集成电路制造流程中，以下哪个工序在前（）A.封装B.测试C.光刻D.划片5.以下材料中，半导体常用衬底材料是（）A.陶瓷B.玻璃C.硅片D.塑料6.衡量半导体装备产能的指标通常是（）A.精度B.产量/小时C.稳定性D.分辨率7.刻蚀工艺按原理可分为干法和（）A.化学刻蚀B.物理刻蚀C.湿法刻蚀D.混合刻蚀8.北方华创旗下的真空装备可应用于（）A.食品加工B.半导体制造C.纺织业D.农业9.半导体清洗主要是为了去除（）A.静电B.灰尘和杂质C.多余热量D.颜色10.以下哪个不是半导体装备的性能要求（）A.高速度B.高价格C.高精度D.高稳定性答案：1.B2.C3.C4.C5.C6.B7.C8.B9.B10.B多项选择题（每题2分，共20分）1.北方华创的半导体装备主要涵盖（）A.刻蚀机B.光刻机C.薄膜沉积设备D.清洗设备2.半导体制造中常用的薄膜沉积方法有（）A.物理气相沉积B.化学气相沉积C.原子层沉积D.分子束外延3.刻蚀工艺的影响因素包括（）A.气体流量B.功率C.压力D.温度4.真空装备在半导体制造中的作用有（）A.避免氧化B.防止污染C.利于反应进行D.提高产量5.以下属于半导体测试类型的有（）A.功能测试B.性能测试C.老化测试D.外观测试6.北方华创产品的优势包括（）A.技术先进B.质量可靠C.服务完善D.价格低廉7.半导体光刻工艺需要的材料有（）A.光刻胶B.光掩膜版C.显影液D.蚀刻液8.影响半导体装备精度的因素有（）A.机械结构B.控制系统C.环境温度D.操作人员水平9.真空系统主要由以下部分组成（）A.真空泵B.真空腔室C.真空阀门D.真空测量仪表10.北方华创的锂电装备可用于锂电池的（）A.电极制造B.电芯组装C.电池检测D.电池回收答案：1.ACD2.ABCD3.ABCD4.ABC5.ABC6.ABC7.ABC8.ABC9.ABCD10.ABC判断题（每题2分，共20分）1.北方华创是一家专注于半导体装备制造的企业。（）2.光刻工艺中，曝光剂量越大越好。（）3.半导体制造中，刻蚀和沉积是两个相反的工艺。（）4.真空装备的真空度越高，对半导体制造越有利。（）5.北方华创的产品只应用于半导体行业。（）6.半导体测试可以在封装前和封装后进行。（）7.化学气相沉积只能沉积一种材料。（）8.刻蚀工艺不会对衬底材料造成损伤。（）9.北方华创注重研发投入以保持技术领先。（）10.半导体清洗过程中，水是唯一的清洗介质。（）答案：1.√2.×3.√4.√5.×6.√7.×8.×9.√10.×简答题（每题5分，共20分）1.简述北方华创在半导体装备领域的地位。答：北方华创是国内半导体装备的领军企业，技术先进。其产品种类多，覆盖刻蚀、薄膜沉积等多工艺装备，打破国外垄断，为国内半导体产业自主发展提供有力支持。2.半导体光刻工艺的主要步骤有哪些？答：主要步骤包括涂胶，在硅片上均匀涂光刻胶；曝光，用紫外光透过光掩膜版照射光刻胶；显影，去除曝光或未曝光部分光刻胶；坚膜，增强光刻胶与硅片结合力。3.真空装备在半导体制造中的重要性体现在哪里？答：可避免半导体材料氧化、污染，为反应提供纯净环境。利于一些特殊反应进行，如物理气相沉积等。还能提高工艺稳定性和产品质量。4.北方华创产品的质量控制措施有哪些？答：从研发设计就严格把关，采用先进技术和标准。生产中用高精度设备和工艺，进行严格质量检测。售后有完善服务，及时解决问题，持续改进产品。讨论题（每题5分，共20分）1.讨论半导体装备国产化对我国半导体产业发展的意义。答：可降低对国外依赖，保障产业安全稳定。推动国内技术进步，培养自主研发能力。降低成本，提高国内企业竞争力。带动上下游产业协同发展，促进整个半导体产业链完善。2.谈谈北方华创面临的竞争挑战及应对策略。答：挑战有国外企业技术领先、市场份额大等。可加大研发投入，提升技术水平；优化产品质量和服务，树立品牌形象；加强与国内企业合作，拓展市场；培养专业人才，增强创新能力。3.分析刻蚀工艺在半导体制造中不断发展的原因。答：随着芯片集成度提高，对图案精度要求更高，刻蚀需更精确。半导体材料不断更新，需适配新刻蚀技术。新应用领域如5G、AI等对芯片性能有新需