制药废水处理工程师岗位招聘考试试卷及答案

制药废水处理工程师岗位招聘考试试卷及答案一、填空题（共10题，每题1分）1.制药废水中最核心的污染物指标是______答案：COD2.发酵类制药废水常含较高的______答案：BOD（或有机物）3.产酸菌适宜的pH范围是______答案：5.5~6.54.常用混凝剂除PAC外，还有______答案：聚合硫酸铁（或硫酸铝）5.气浮工艺主要去除______污染物答案：悬浮固体（或油类）6.制药废水一级排放标准COD限值约为______mg/L答案：1007.MBR工艺全称是______答案：膜生物反应器8.调节池的核心作用是______答案：均质均量9.污泥脱水常用设备是______答案：带式压滤机（或板框压滤机）10.化学合成制药废水常含______答案：难降解有机物（或有毒物质）二、单项选择题（共10题，每题2分）1.制药废水最突出的特征是（）A.高CODB.高重金属C.高放射性D.高病原体答案：A2.中温厌氧处理的适宜温度是（）A.10~20℃B.25~35℃C.35~40℃D.45~55℃答案：B3.不适合高浓度制药废水的工艺是（）A.UASBB.IC反应器C.普通活性污泥法D.厌氧折流板答案：C4.制药废水消毒常用药剂不包括（）A.次氯酸钠B.臭氧C.氯气D.石灰答案：D5.混凝沉淀效果影响因素不包括（）A.药剂投量B.pHC.搅拌强度D.废水温度答案：D6.发酵制药废水不具备的特点是（）A.高B/C比B.含菌丝体C.难降解D.高有机物答案：C7.MBR工艺常用的膜是（）A.微滤膜B.超滤膜C.纳滤膜D.反渗透膜答案：B8.污泥浓缩的目的是（）A.减少体积B.降低含水率C.杀灭病菌D.稳定污泥答案：A9.化学合成废水预处理常用（）A.格栅B.芬顿氧化C.调节池D.气浮答案：B10.属于深度处理的工艺是（）A.活性污泥法B.芬顿氧化C.MBRD.砂滤答案：D三、多项选择题（共10题，每题2分）1.制药废水主要分类包括（）A.化学合成类B.发酵类C.提取类D.中药类答案：ABCD2.厌氧处理的优点有（）A.能耗低B.产泥少C.回收甲烷D.处理高浓度废水答案：ABCD3.常用预处理工艺有（）A.格栅B.调节池C.混凝沉淀D.气浮答案：ABCD4.好氧处理影响因素有（）A.DO浓度B.pHC.温度D.有毒物质答案：ABCD5.污泥处置方式包括（）A.填埋B.焚烧C.堆肥D.资源化利用答案：ABCD6.高浓度难降解废水组合工艺可能是（）A.芬顿+UASB+MBRB.调节+气浮+活性污泥C.臭氧+厌氧+好氧D.混凝+吸附+反渗透答案：ACD7.常用消毒剂有（）A.次氯酸钠B.二氧化氯C.臭氧D.紫外线答案：ABCD8.膜分离技术包括（）A.MBRB.纳滤C.反渗透D.微滤答案：ABCD9.发酵废水处理难点有（）A.菌丝体难沉降B.高氨氮C.难降解D.高色度答案：ABD10.化学合成废水特点有（）A.高CODB.难降解C.有毒性D.高B/C比答案：ABC四、判断题（共10题，每题2分）1.所有制药废水均难降解（×）2.混凝沉淀可去除悬浮固体和胶体（√）3.厌氧处理无需曝气（√）4.发酵废水B/C比低（×）5.MBR出水优于普通活性污泥法（√）6.调节池仅起均质作用（×）7.污泥脱水后含水率≤80%（√）8.芬顿氧化属于化学氧化（√）9.化学合成废水不含氨氮（×）10.好氧处理DO越高越好（×）五、简答题（共4题，每题5分）1.简述制药废水主要特点答：①水质波动大，受生产批次、工艺影响显著；②污染物浓度高，COD、氨氮远超生活污水；③成分复杂，含抗生素、中间体等难降解有毒物质；④色度高，部分呈深褐/黑色；⑤污泥产率高，生物处理后剩余污泥多。2.厌氧处理适用条件答：①废水COD≥1000mg/L，降低运行成本；②含难降解/有毒有机物，厌氧微生物适应性强；③温度稳定（中温25~35℃、高温45~55℃）；④pH控制6.5~7.5（产甲烷菌适宜范围）；⑤无大量抑制性物质（如高浓度重金属）。3.混凝剂选择原则答：①针对性：匹配污染物类型（如PAC适多数废水，聚合硫酸铁适高浊度）；②效果好：降低浊度、COD达标；③成本低：药剂及投加成本合理；④环保安全：无二次污染，不抑制后续生物处理；⑤操作方便：溶解投加简单。4.制药污泥处置方式答：①填埋：脱水稳定后填埋；②焚烧：干化后焚烧，灰渣资源化；③堆肥：发酵类污泥经堆肥用于绿化；④资源化：提取菌丝体蛋白、制砖或作燃料。六、讨论题（共2题，每题5分）1.高浓度难降解制药废水工艺选择答：需组合工艺：①预处理：芬顿/臭氧氧化去除难降解物，提高可生化性；②厌氧：UASB/IC降解大部分有机物并产甲烷；③好氧：MBR/SBR进一步去除残留有机物；④深度处理：活性炭吸附/纳滤反渗透，确保达标。需根据废水浓度、可生化性调整组合。2.污泥膨胀控制措施答：①调整参数：DO控制2~4mg