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文档简介

自由贸易试验区临港新片区鸿音路一种薄膜沉积系统和薄膜沉积的前置结构本发明公开了一种薄膜沉积系统和薄膜沉汽钢瓶,其内部装有用以薄膜沉积的前驱体蒸2压力测试薄膜规支路,设置于所述第一通路的支路上,通过压吹扫支路,一端连接所述压力测试薄膜规支路,另一端之间的所述第一通路中设有可拆卸的第一阀门以调整所述第一通路的所述前驱体蒸汽的述第一手阀在所述第一阀门即将拆卸之前处5.如权利要求3所述的前置结构,其特征在于,所述吹扫气体包括流动相为气体的载如权利要求1~9中任一项所述的薄膜沉积的前置结构,以向反应腔通入前驱体蒸汽;3至少关闭如权利要求1~9中任一项所述的薄膜沉积的前置结构中蒸汽钢瓶和压力测及4[0001]本发明涉及半导体加工设备的技术领域,具体涉及了一种薄膜沉积的前置结构、5间的所述第一通路中设有可拆卸的第一阀门以调整所述第一通路的所述前驱体蒸汽的流6[0022]图2示出了根据本发明的一些实施例所提供的薄膜沉积的前置结构的部分结构示[0023]图3示出了根据本发明的一些实施例所提供的一种薄膜沉积的前置结构的吹扫路[0024]图4示出了根据本发明的一些实施例所提供的薄膜沉积的前置结构的吹扫方法的7[0058]为了解决现有技术中存在的上述问题,本发明提供了一种薄膜沉积的前置装置、能够对存储容器的进出口管路的吹扫洁净度进行精准监控,不仅提升了管路的吹扫效率,8的上述薄膜沉积的前置装置的吹扫方法可以由本发明的第一方面提供的上述薄膜沉积的[0060]以下将结合一些薄膜沉积的前置装置的吹扫方法的实施例来描述上述薄膜沉积积的前置装置的吹扫、以及薄膜沉积系统也只是本发明提供的一种非限制性的实施方式,不对这些薄膜沉积的前置装置的吹扫方法中各步骤的实施主应腔110可以通过前驱体蒸汽对其内部的晶圆进行薄膜沉积反应。例如,原子层沉积2示出了根据本发明的一些实施例所提供的薄膜沉积[0064]如图1和图2所示,在一些实施例中,薄膜沉积的前置结构200可以包括蒸汽钢瓶[0065]由于反应前驱体通常具有可自挥发性,容易发生相变,因而可以选用蒸汽钢瓶210,将反应前驱体长时间保持在压力下,有助于在反应前驱体在存储过程中均保持代表9进行的蒸汽钢瓶210的直线管路的吹扫过程更新为完整的回路吹扫,实现了对压力测试薄谱检测器,例如傅立叶变换红外光谱检测仪器(Fourier_transforminfrared瓶210之间的第一通路240中还可以设有第一手阀242,用以控制蒸汽钢瓶210向第一通路由于第二通路260中最终连通到第一通路240,并且第二阀门261也可以定期拆卸下来进行且,吹扫回路232中的检测器231也可以间接地监控蒸汽钢瓶210进口管路中前驱体化学源[0085]可选地,如图1所示,第三通路280中的其他位置也可以分布若干个流量控制阀[0091]如图4所示,在一些实施例中,薄膜沉积的前置结构的吹扫方法可以包括步骤应于第一阀门241和第二阀门261的第一手阀242,第二支路270中对应于第三阀门271的第240完整地流经吹扫回路232,尤其是针对图2中的压力测试薄膜规支路220与第一通路240可以以8000标准毫升/分钟(standardcubiccentimeterperminute,sccm)的气流量进试薄膜规支路220内残留的前驱体蒸汽的光谱特性的化学图像,用以实时监测前驱体蒸汽学源小于一定工业数量级的检测阈值时,可以认定压力测试薄膜规支路220内吹扫干净并管路暴露大气的标准达标信号反馈到控制器中,控制器可以自动控制气体流通开关阀门[0101]尽管为使解释简单化将上述方法图示并描述为一系列动和/或与来自本文中图示和描述或本文中未图示和描述但本领域技术人员可以理解的其他[0104]

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