精密玻璃件表面镀膜处理技师考试试卷及答案

精密玻璃件表面镀膜处理技师考试试卷及答案一、填空题（每题1分，共10分）1.精密玻璃件常用真空镀膜工艺包括蒸发镀膜、______和离子镀膜。2.玻璃镀膜前清洗常用有机溶剂有乙醇、______。3.镀膜层厚度检测常用仪器是______（或椭圆偏振仪）。4.亲水镀膜的核心功能是______（或自清洁）。5.铝靶材磁控溅射后，玻璃表面形成______膜。6.真空镀膜的真空度单位常用______（帕斯卡）。7.镀膜耐腐蚀性检测常用______溶液浸泡试验。8.PECVD工艺的核心是产生______。9.膜层结合力检测常用______法（或拉伸法）。10.防反射（AR）膜利用______干涉相消原理。二、单项选择题（每题2分，共20分）1.最适合制备超硬膜的工艺是？A.蒸发镀膜B.磁控溅射C.化学气相沉积D.电泳镀膜2.玻璃镀膜前关键清洗步骤是？A.晾干B.超声清洗C.浸泡D.擦拭3.磁控溅射靶基距一般控制在？A.1-5cmB.5-15cmC.15-30cmD.30-50cm4.以下不能作为镀膜基体的是？A.钠钙玻璃B.硼硅玻璃C.石英玻璃D.有机玻璃5.膜层针孔的主要原因是？A.真空度过高B.清洗不彻底C.沉积速率过快D.靶材纯度低6.亲水膜接触角一般小于？A.30°B.60°C.90°D.120°7.无需真空环境的镀膜工艺是？A.溶胶-凝胶B.磁控溅射C.蒸发镀膜D.PECVD8.AR膜常用层数是？A.1层B.2-4层C.5-8层D.10层以上9.检测可见光透过率主要针对哪种膜？A.AR膜B.亲水膜C.疏水膜D.导电膜10.磁控溅射常用工作气体是？A.氧气B.氮气C.氩气D.氢气三、多项选择题（每题2分，共20分）1.玻璃镀膜前清洗方法包括？A.超声清洗B.化学清洗C.等离子体清洗D.高压水射流清洗2.常用镀膜材料有？A.SiO₂B.TiO₂C.Al₂O₃D.金3.膜层质量检测指标包括？A.厚度B.结合力C.透过率D.耐候性4.磁控溅射优点是？A.沉积速率高B.膜层均匀C.靶材利用率高D.设备简单5.溶胶-凝胶镀膜步骤包括？A.溶胶制备B.涂覆C.干燥D.烧结6.影响膜基结合力的因素有？A.基体粗糙度B.清洗效果C.沉积温度D.靶材纯度7.防雾膜应用场景有？A.汽车玻璃B.眼镜片C.光学镜头D.建筑玻璃8.真空镀膜设备主要部件有？A.真空腔B.真空泵组C.电源D.基片架9.镀膜需控制的参数有？A.真空度B.沉积速率C.基片温度D.气体流量10.属于功能镀膜的是？A.导电膜B.AR膜C.疏水膜D.装饰膜四、判断题（每题2分，共20分）1.蒸发镀膜靶材利用率比磁控溅射高。（）2.镀膜前不清洗会直接影响膜层结合力。（）3.溶胶-凝胶可制备纳米级膜层。（）4.疏水膜接触角＞90°。（）5.磁控溅射气体压力越高，沉积速率越快。（）6.AR膜能提高玻璃透过率。（）7.等离子体清洗可去除有机污染物。（）8.膜层越厚，结合力越强。（）9.PECVD适合低温镀膜。（）10.有机玻璃可采用真空镀膜。（）五、简答题（每题5分，共20分）1.简述玻璃镀膜前清洗的重要性及流程。2.磁控溅射的核心原理是什么？3.AR膜的工作原理及应用场景？4.溶胶-凝胶镀膜的主要步骤及特点？六、讨论题（每题5分，共10分）1.分析膜层“脱落”的原因及解决措施。2.如何根据使用场景选择合适的镀膜工艺？举例说明。---答案一、填空题1.溅射镀膜2.丙酮3.台阶仪4.防雾5.氧化铝（Al₂O₃）6.Pa7.盐酸（或NaOH）8.等离子体9.划痕10.光的薄膜二、单项选择题1.B2.B3.B4.D5.B6.C7.A8.B9.A10.C三、多项选择题1.ABC2.ABCD3.ABCD4.ABC5.ABCD6.ABC7.ABCD8.ABCD9.ABCD10.ABC四、判断题1.×2.√3.√4.√5.×6.√7.√8.×9.√10.×五、简答题1.答案：清洗直接影响膜层结合力、均匀性。流程：①预清洗（去除可见杂质）；②化学清洗（丙酮/乙醇除油污）；③超声清洗（剥离微小颗粒）；④等离子体清洗（活化表面、去残留）；⑤干燥（真空/氮气吹干，避免水渍）。2.答案：磁控溅射利用磁场约束等离子体。原理：①氩气电离为等离子体；②氩离子轰击靶材，使原子溅射；③正交磁场延长电子轨迹，增加等离子体密度；④溅射原子沉积在玻璃表面成膜。3.答案：原理：膜层上下表面反射光干涉相消，降低反射率。应用：光学仪器镜头（显微镜、相机）、眼镜片、汽车前挡、显示器面板，减少反光干扰。4.答案：步骤：①溶胶制备（醇盐水解缩聚）；②涂覆（旋涂/浸涂）；③干燥（去溶剂）；④烧结（致密化）。特点：设备简单、成本低、膜层均匀、适合大面积，可掺杂改性。六、讨论题1.答案：原因：①清洗不彻底（残留油污/颗粒）；②膜基热膨胀不匹配；③沉积温度不当（应力过大）；④靶材纯度低。措施：①优化清洗（加等离子体）；②选过渡层改善匹配；③调整沉积温度；④用高纯度靶材（≥99.99%）。2.答案：需结合场景选：①