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TP模块的版图设计与验证分析案例TP模块的版图设计与验证分析案例 11OTP模块的版图设计 11.1版图设计规则 11.2匹配问题 21.3OTP模块各个单元组成部分的版图设计 31.3.1电流镜版图设计 31.3.2比较器版图设计 41.4整体版图的布局 52OTP模块的版图验证 7 7 81OTP模块的版图设计本设计使用华虹宏力GSMC-L018S4G9工艺。在版图设计时产生了相对应的几何控制要求和电学控制要求,这二项要求也同时对版图人们归纳出了版画的工程设计规律。这些几何以使用的几何图形长度宽度的范围、器件长度和能够叠加范围等在现的最小值。尽管存在着各种各样的特征尺寸,但各个版图设计准则也不相同,而最小长度、最小宽度、(1)常用的设计规则:有源区(Active):NMOS管之间或者PMOS管之间的最小间距为0.28μm。化层时两个Poly的最小间距为0.24μm。通孔(Contact):通孔于通孔之间最小间距为0.28μm;被Poly覆盖的通孔2与有源区之间的最小间距为0.17μm;在有源区内的通孔与Poly之间的最小间距(2)最小包围规则:绘制好版图后,后续的工艺制作会在很大程度上影响在刻蚀的时候,不在相同方向上的晶体管会发生刻蚀上的误子注入以及扩散等工艺,由这些工艺导致的问(2)考虑周围器件的影响;(3)匹配的器件应该彼此靠近。按照上面三个匹配规则就可以在版图设计中实现简单的下图1.1所示,下面针对整体电路图进行各部分版图设计,最终形成完整的设计如图1.2所示为电流镜的电路图通过此电路图完成电流镜的版图设计。(2)然后用快捷键“C”将NMOS管进行多次复制,得到8个NMOS管。(3)最后根据电路图将这些MOS管连接起来得到电流镜的版图如下图1.34如图1.4所示,为比较器电路图,根据此线路图进行版图设计。(2)把NMOS管和PMOS管的漏极通过金属1(metal1)连在一起。结合差分对的匹配设计,最终生成如下图1.5及图1.6的版图设计。图1.6比较器版图部分设计当我们把过温保护电路版图的各个单元模块设计出来之后,就该规划整个OTP版图的布局了,每个单元模块摆放的位置都应该考虑清太长。同时布局的时候应该先找到版图中有哪些敏感单元6整体版图已经再第四章进行展示,接下来对版图图的物理验证在集成电路中可以查找出版图设计中的所有错误、为集成降低设计成本,规避风险等作用,正因为如此,版图的验证检查在集成电路的制造中尤为重要。版图的检测验证类型也相当多,有版图与电路一致性的检测LVS等,有版图与设计准则错误的检测DRC等。据技术工艺厂家所给出的产品设计规范文档(Designrule)进行我们的版图设计工作,在版图之前,必须通过设计规范文档按照该工间的最小长度、最小厚度以及对各个单元器件的基本形状检查以后,才能对版图的或者是制造出来芯片的集成电路性能会产生严重的影响,无法实现集成电路的功能16。所以该规则文件保证了集成电路的成品率完成后,一定要使用设计验证软件对版图进行DRC检查。DRC验证的步骤如下所述:(1)点击版图编辑界面工具栏中的“Calibre”下的“nmDRC”,系统弹出在进行DRC检查后,出现了各层次之间的终出现了4个警告,并且通过了DRC验证,如下图2.1所示。8CumulativeMISCELLANEOUSCumulativeCONNECTTime:CPU=0RECunulativeRDBTime:CPU=0REALDRCRESULTSDATABASEFILE=OTP_A.drc.resultsCALIBRE::DRC-HCOMPLETED-SatMar中可能会出现各种问题,比如导线连接错误,忘记加通孔等对版图和电路的一致性检查,发现版图与电路不匹配的所有问题,所以经过LVS验证之后,我们就可以发现我们的版图是否和电路图是匹配的,这样才能保证我(3)打开LVS验证对话框,在Rules(规则)一栏添加LVS验证文件。(4)点击“RunLVS”系统将自动运行,进行版图的LVS验证。经过对版图的LVS验证后发现了一些导线接错的问题,经过改正后,出现如图2.2中的笑脸图标,说明OTP模块版图的LVS验证通过。Navigator]×XERCPathch

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