CN119422108A 抗蚀剂组合物和使用其的抗蚀剂膜形成方法 （三菱瓦斯化学株式会社）

2025.01.07PCT/JP2023/0245432023.07.03WO2024/014329JA2024.01.18抗蚀剂组合物和使用其的抗蚀剂膜形成方法2所述抗蚀剂组合物的总量基准计的有效成分的含量为45质量1为氢原子或碳原子数1～10的烷基。3工序（1将权利要求1～15中任一项所述的抗蚀剂组合物涂布在基板上而形成涂膜的4本发明提供含有树脂和包含具有特定结构的化合物的溶剂并将有效成分的含量上述抗蚀剂组合物的总量基准计的有效成分的含量为45（B2包含选自α-羟基异丁酸甲酯和α-羟基异丁酸中的一种以上。[0017]＜8＞如上述＜6＞或＜7＞所述的抗蚀剂组合物，其中，以抗蚀剂组合物的总量工序（1将上述＜115＞中任一项所述的抗蚀剂组合物涂布在基板上而形6本发明优选的一个方式的抗蚀剂组合物尽管将包含树脂的有效成分的含量限制[0035]其中，有效成分的含量可以从上述的上限值和下限值各物所含的有效成分的总量（100质量优选为50～100质量更优选为60～100质量%,进一步优选为70～100质量更进一步优选为75～100质量特别优选为80～100质7量进一步优选为60～100质量更进一步优选为80～100质量特别优选为90～100[0045]例如在制成用于制造g线或i线等紫外线曝光用的液晶元件的光致抗蚀剂材料等金刚烷结构的结构单元和具有内酯结构的结构单元中的任意2种以上的结构单元的树脂8合计含有比例相对于树脂（A）的总量（100质量优选为6100质量进一步优选为80～100质量更进一步优选为90～100质量特别优选为95作为本发明的一个方式中所使用的酚醛清漆--们与甲醛和多聚甲醛中的至少一者进行缩合反应而成的9们的α-甲基取代体等。-乙烯基己内酰胺等含杂原子的脂环式乙烯基单以及分子中具有2个以上的氨基的化合物与（甲基）丙烯酸的缩合物类中的单体的结构单（100摩尔优选小于50摩尔更优选小于44摩尔进一步优选小于39摩尔更进一步优选小于34摩尔％。-6的亚烷基或下述式中任意个所示的二价的连接基。-~100摩尔进一步优选为70～100摩尔更进一步优选为80～100摩尔特别优选为[0127]另外，在本发明的一个方式的抗蚀剂组合物中，作为溶剂（B2例如可以列举：虑，优选为66.67质量％以上，从抗蚀剂膜的面内均匀性提高的观点考虑，更优选为合物的产酸剂的溶解性的观点考虑，优选含有3－羟基异丁酸甲酯和1－甲氧基－2－丙醇本发明的一个方式的抗蚀剂组合物优选含有选自感光剂和产酸剂中的至少1种添[0147]另外，本发明的一个方式中所使用的感光剂也可以使用“DTEP－350力（Daito苯磺酸盐、二苯基碘鎓10－樟脑磺酸盐、二苯基碘鎓－2－三氟甲基苯磺酸盐、二苯基碘至少1种。15为烷基二羧酰亚胺、N4－三氟甲基苯磺酰氧基）萘基酰亚胺、N全氟苯磺酰氧基）二环[乙腈、α-（三氟甲基磺酰氧基亚氨基4－甲氧基4－溴苯乙腈中的至少1种。18分别独立地为具有1个以上的氯原子和1个以上的溴原子的卤[0164]L19和L20分别独（4－甲氧基苯基4,6双三氯甲基1,3,5－三嗪、24－甲氧基萘基4,6双酸酯等含有卤素的三嗪衍生物等。酸扩散控制剂是具有通过照射辐射线来控制由产酸剂产生的酸在抗蚀剂膜中的[0184]作为本发明的一个方式中所使用的溶解控制剂，没有机羧酸或磷的含氧酸或其衍生物是具有防止灵敏度变差或提高抗蚀剂图案形使用预湿剂的表面处理方法没有特别限制，例如可以列举日本特开2004－39828号公报所[0215]作为显影方法，例如可以列举在充满显影液的槽中将基板浸渍一定时间的方法一边以一定速度扫描显影液涂布喷嘴一边持续涂布显影液的方法（动态分配（Dynamic[0219]作为显影后的冲洗工序中所使用的冲洗液，只要不使所0为乙酰基并且R1为甲基的根据表1可知，实施例1a～4a中所制备的抗蚀剂组合物与同等程度的树脂成分浓中所制备的抗蚀剂组合物与同等程度的树脂成分浓度的比较例1a～3a的抗蚀剂组合物相~30质量也能够形成厚膜的抗蚀剂膜。根据表2可知，实施例1b～7b中所制备的抗蚀剂组合物与相同树脂成分浓度的比以表3和表4所示的配比制备实施例A1－1～2－3和比较例A1－1～2－1的抗蚀剂<树脂＞（iii）具有MADM（甲基丙烯酸－2－甲基－2－金刚烷酯G