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文档简介
1、,使用VLS机制制造一维纳米材料,报告员: yue guangbing制作人:Li Jie,he xiali,王家之,yue guangbing,Chen bensong,1气-液之后,各种晶须利用此机制合成。纳米尺度物质研究的兴起开始了一维纳米材料的合成。目前,该方法包括元素半导体(Si,Ge)、-v半导体(GaN、GaAs、InAs等)、-v 半导体(ZnS、ZnSe、CdSe)、氧化物(ZnO、InAs等),2生长机制:催化剂纳米簇和生长物质的组分在适当的温度下相互溶解,形成纳米大小的空腔溶液滴。共晶液滴继续吸入生长物质的成分蒸汽,达到过饱和,生长物质的结晶核在液滴上生成。蒸汽继续吸入,
2、晶体继续从已经产生的固体-液体界面析出,固体-液体界面运动,生长一维纳米材料。利用VLS机制制造Ge-纳米线导图。I纳米球溶液滴形成,成核过程轴生长,原位TEM形状对Ge纳米线生长的催化作用。Au-Ge二元会计,制造特征1催化剂纳米簇的大小大大决定了生长中一维纳米材料的直径。可以利用两相映射选择合适的催化剂,制造温度的范围也可以根据相映射确定。 4种常用催化剂和可制备材料,au: si,Ge元素纳米线,ZnO,氧化镓氧化物等氧化物纳米线,CdS,ZnS纳米线Fe: si,Ge元素纳米线,SiC纳米线,GaN纳米线Ni: Si纳米线,5个准备的两个重要问题,b如何提供必要的蒸汽?如何获得a纳米大
3、小的催化簇?A1溶液干燥法:用柠檬酸钠Au纳米粒子溶液将溶液滴在基座上,干燥反复多次,A2模板限制法:通过AC电化学沉积法将金纳米粒子引入氧化铝模板底部,在氧化铝模板一侧采用金膜溶胶-凝胶法制备包含氧化铁纳米粒子的二氧化硅介孔系统,并还原氧化铁中的Fe纳米粒子。A3沉积方法:在基底上沉积金属催化纳米薄膜,在薄膜自组织Au薄膜GaAs基板上制造大量纳米大小的Au-As合金液滴生成Zn0纳米线时,将Au薄膜蒸发到蓝宝石基板上,使纳米大小的Au-Zn合金液滴,A4高温快速加热方法:激光去除Si-Fe靶,蒸汽生成,快速,B1激光去除:以包含少量Au、Fe或Ni的硅为目标,使用Ar气体作为保护气体,在硅
4、管中,可以在一定温度下通过激光去除以Si纳米线为目标制造Ge纳米线,激光去除可以形成直径只有几纳米的液体催化簇,这种制造技术具有一定的普遍性。B2热蒸发:金属Zn粉末蒸发,ZnO纳米线高温加热CdS或ZnS纳米粉通过Au薄膜电镀Si基板上的气相传输,CdS或ZnS纳米线通过Au薄膜电镀Si基板上的气相传输,B3化学气相沉积:以硅烷为硅,以Au或Fe或Ni或AuPd为催化剂准备Si纳米线,B4化学气相传输:Y.Wu等使用化学气相传输法和VLS生长机制出生。6个例子,(a)利用VLS机制制备一维ZnO纳米线,(b)利用VLS机制制备一维SiC纳米线,Zn0纳米线的制备,方法1:热蒸发ZnO和石墨的
5、混合物,通过气相转移硅衬底上的氧化锌纳米线(含Au催化剂)获得。方法2:以纳米Au粒子为催化剂,加热蒸发Zn粉末,通过含少量氧的氩,(a) Zn在Zn-Au合金液滴(b)中析出的Zn在高温下氧化成ZnO,形成氧化锌纳米线。SiC纳米线的制备,(a)包含氧化铁纳米粒子的氧化铁纳米粒子的制造复合,(2)将C/Si组成比与一定量的石墨粉末混合,以4: 1,(3) 500度通过氢气。还原氧化铁以获得铁纳米粒子,(4)继续通过Ar气体,快速加热到1400度等7种生长终止问题,1热减少,合金水滴凝固成固体粒子的反应终止,第二次原料消耗,生长材料组成要素的蒸汽浓度降低,合金液滴的过饱和率降低,相变驱动力不足,反应终止。iii随着结晶反应的进行,生长点处杂质不断积累,阻碍生长。8使用VLS机制生成的纳米线的形态特征,纳米线顶端包含催化成分的球形粒子,GaN纳米线,Si纳米线。通常纳米线的顶部会留下球形粒子,但对于球形粒子或没有中间的纳米线,甚至会发生分支生长或非直线生长。这与生长条件(温度、浓度等)的波动有关,使用9 VLS制造纳米线时如何有效地控制纳米线直径并确保均匀性?(a)严格保持纳米线
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