CVD工艺原理及设备介绍

1、一、PECVD在阵列中的作用、阵列工艺配置、二、PECVD基本原理和功能、1 .介绍了CVD，利用化学反应方法将反应物(气体)生成为固体产物，并沉积在基板表面的薄膜沉积技术。例如，可以生成：导体： W(钨)；半导体：Poly-Si(多晶硅)、非晶硅等；绝缘体(介质材料): SiO2、Si3N4等。2 .PECVD利用等离子体活性促进反应，以便在低温下进行化学反应，这种CVD称为等离子体强化化学气相沉积(PECVD)。PECVD的基本原理和功能，3 .PECVD胶片的优点和注意事项，优点：均匀性和重复性好，可实现广泛的胶片。可以在低温下制作胶片。楼梯盖得很好。薄膜的成分和厚度容易控制。涵盖范围大

2、，设备简单，易于产业化，注意事项：需要更多底部真空。防止交叉污染；具有腐蚀性、易燃、爆炸性、易燃、毒性的原料气体，必须采取必要的保护措施。PECVD基本原理和功能，RF Power :是能源真空度(与压力相关)气体的种类和混合比温度Plasma的密度(通过Spacing调整)，4 .PECVD参数，PECVD基本原理和功能，5 .PECVD创建的每一层的摘要，PECVD基本原理和功能，6 .绝缘膜、活性膜形成机制、SiNX绝缘膜：使用SiH4和NH3混合气体作为反应气体，发光放电生成等离子体在基板上生成膜。a-Si:H活性层膜：SiH4气体在反应室通过辉光放电，经过一系列一次和二次反应，产生了

3、离子、次活性团等更复杂的反应产物，最终直接参与薄膜生长，主要是部分中性产品SiHn(n为0 3)，PECVD基本原理和功能，7。多个薄膜的性能要求，(1) a-Si:H低间隙密度，低能量级杂质，高迁移率，暗电阻率，(2)a-sinx 3360h I .介质和绝缘层，中等范围介电常数，中等电压，强电阻，高作为钝化层，密度高，针孔小，(3) n a-Si电导率高，电导激活能力低，生成微晶膜。，3，在PECVD设备、PECVD设备、真空状态下的设备内外大气压之间切换，Chamber通过Cassette传送到Loadlock Ch时，首先使用N2气体从真空切换到大气压，传输结束后使用Dry泵从大气压切

4、换到真空，冷却沉积完成的热的Glass，P /VentLoadlock Chamber，默认真空：500mTorr下，两个Loadlock Chamber公用Pump Loadlock Door由两个圆柱体组成。双向运动斜顶：由导轨和螺杆组成，由直流步进电动机驱动，PECVD设备、2、ACLs、automatic Cassette load station(ACLs)主要位于Cassette的放置位置，Cassette Stage:A白色：表示设备空闲。蓝色：表示设备正在等待。黄色：表示设备处于暂停或停止状态。红色：表示Alarm处于暂停或停止状态，因此设备具有Atm系统手： ATM机器人手共

5、4个方向，即T，X，R，Z轴。其中，x轴通过T、R轴的组合来实现。PECVD设备、3、Heat Chamber、Heat Ch中Glass的Preheating处理传递到Process Chamber本机真空3360500mTorr时，可以加热到400c，由13个Shelf组成，托架电阻14Ohms否则，沉积物将受到污染。PECVD P/Chamber内部清洁使用Dry Cleaning方法将外部形成的F-传递给Chamber，通过F和Chamber内的Film物质反应将固体变成气体。4、PROCESS CHAMBER中的备件、PROCESS CHAMBER中的备件、1。diffuser、fl

6、oating diffuser、diffuser使流程气体和RF能量均匀地扩散到process chamber。粒子和弧破坏表明必须更换diffuser。PROCESS CHAMBER内的备件，Diffuser均匀地在玻璃表面上传播工艺气体。Diffuser由铝构成，上升到process chamber盖，diffuser使用陶瓷固定架和RF绝缘体将其隔离，并卸下process chamber盖。(floating diffuser)、diffuser backing plate(bottom view)、backing plate、lid frame、lid cart、Process ccart所需材料附加在玻璃上，当susceptor根据需要的电极距离升高或降低时，process chamber内的备件、PROCESS CHAMBER内的备件和Susceptors将经常被替换。您多久能看到每个系统的程序和清洁要求？电弧破坏，变色斑点，操作错误。温度也包括是否应更换susceptor、PROCESS CHAMBER内的备件、所有程序的陶瓷设备腔和盖子的裂缝、扭曲、凹槽或其他变形、陶瓷检查、PROCESS CHAMBER内的备件、Lift pins和pin plate是分开的部分