标准解读

《GB/T 16600-1996 钨的发射光谱分析方法》是一项由中国国家标准化管理委员会发布的国家标准,旨在规定钨材料中各元素含量的发射光谱分析技术要求、操作步骤和结果判定方法。此标准适用于钨及其合金中微量元素和杂质元素的定量分析,对于保证钨材料的质量控制具有重要意义。以下是该标准的主要内容概述:

  1. 范围:明确了本标准适用的钨材料类型,包括纯钨及钨合金,规定了利用发射光谱法对其成分进行定性及定量分析的方法。

  2. 规范性引用文件:列出了实施本标准时所直接引用或参考的其他标准文件,这些文件对于理解和执行测试方法至关重要。

  3. 术语和定义:对在标准中使用的专业术语进行了定义,帮助读者准确理解相关概念。

  4. 原理:阐述了发射光谱分析的基本原理,即样品在高温条件下激发产生特征光谱,通过测量这些光谱线的强度来确定样品中各元素的含量。

  5. 试剂与材料:详细说明了实验所需化学试剂、标准物质及实验器材的具体要求和规格,确保分析的准确性和可重复性。

  6. 样品制备:规定了样品的取样方法、预处理(如粉碎、熔融、铸片等)及后续处理步骤,以保证样品适合光谱分析。

  7. 仪器调整与校准:介绍了用于分析的发射光谱仪应满足的技术条件及校准方法,包括波长校正、灵敏度校准等,确保测试结果的准确性。

  8. 分析步骤:详述了从样品激发到数据采集、处理的全过程,包括设定合适的分析条件、样品激发、光谱测量及数据读取等具体操作流程。

  9. 结果计算与表示:提供了计算元素含量的公式,以及如何根据测试数据进行结果处理和表达的方法,确保分析结果的科学性和规范性。

  10. 精密度与准确度:通过实验数据给出了方法的重复性限和再现性限,以及与认可标准方法比对的准确度评估,用以评价分析方法的可靠性和稳定性。

  11. 试验报告:规定了试验报告应包含的信息内容,如样品信息、测试条件、分析结果及必要的试验条件偏离说明等,以确保分析结果的透明度和可追溯性。


如需获取更多详尽信息,请直接参考下方经官方授权发布的权威标准文档。

....

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  • 废止转行标
  • 本标准已被废除、停止使用,转为行业标准
  • 1996-11-04 颁布
  • 1997-04-01 实施
©正版授权
GB-T16600-1996 钨的发射光谱分析方法_第1页
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文档简介

GB/T16600一1996

前言

我国目前钨的发射光谱分析尚无统一的方法标准,也无国际标准,已经收集到的前苏联国家标准

《钨光谱分析方法FOOT14339.5-82》和美国ASTM标准推荐方法《钨光谱分析方法E-2SM8-22》与我

国钨产品实际分析不尽适合。本标准无论从元素数量、分析含量下限和方法精度均优于以上两个国外标

准。

本标准方法一次摄谱同时测定”种杂质元素,方法测定下限低,分析结果准确可靠,操作简便可

行,完全能够满足钨产品中杂质元素分析要求。

本标准由中国有色金属工业总公司提出。

本标准由中国有色金属工业总公司标准计量研究所负责归口。

本标准由自贡硬质合金厂负责起草。

本标准主要起草人:谭泰章。

中华人民共和国国家标准

GB/T16600一1996

钨的发射光谱分析方法

MethodsforemissionspectrumanaIyslsOftungsten

1范围

本标准规定了钨及钨化合物中铁、硅、铝、锰、镁、镍、钦、钒、钻、福、砷、铅、秘、锡、锑、铜、铬、钙、钥含

量的测定方法。

本标准适用于钨及钨化合物中铁、硅、铝、锰、镁、镍、钦、钒、钻、锅、砷、铅、秘、锡、锑、铜、铬、钙、钥含

量的同时测定。测定范围见表1。

表1

元素

元素测定范围%

0.00005~0.020

}

000005~0.0024

铝一一

000005~00024

锰一

}

0.00005~0.0Q24

镁一一一。.o0。,一。。。}

0‘00025~0.010

镍。·。。。‘卜。·。‘。}}}

0.00003~0.0070

钦一10,00025一0.015

一铬

0.00025~0.015

}

钙0.0004~0.015

}

0.0010~0.050

}

本标准不适用于钨条中钻含量的测定。

2引用标准

下列标准包含的条文,通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。在标准出版时,所示版本均为

有效。所有标准都会被修订,使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性

GBI.488标准化工作导则化学分析方法标准编写规定

GB1467一78冶金产品化学分析方法标准的总则及一般规定

3方法原理

采用直流电弧粉末法,以△P一19。绘制标准曲线,进行光谱定量分析。

4试剂和材料

4.1三氧化钨,>99.995%。

国家技术监督局1996一11一04批准1997一04一01实施

cB/T16600一1996

4.2三氧化二铁,光谱纯。

4.3二氧化硅,光谱纯。

4.4三氧化二铝,光谱纯。

4.5二氧化锰,光谱纯。

4.6氧化镁,光谱纯。

4.7氧化镍,光谱纯。

4.8二氧化钦,光谱纯。

4.9五氧化二钒,光谱纯

4.10四氧化三钻,光谱纯。

4.11氧化锡,光谱纯。

4.12三氧化二砷,光谱纯。

4.13氧化铅,光谱纯。

4门4三氧化二秘,光谱纯。

4.15氧化锡,光谱纯。

4.16三氧化二锑,光谱纯

4.17氧化铜,光谱纯。

4.18三氧化二铬,光谱纯

4.19氧化钙,光谱纯。

4.20三氧化钥,光谱纯。

4.21光谱缓冲剂,按表2配备。

表2

试剂名称试剂纯度含量,%

石墨碳粉

}

)

i’

‘谱纯一

98.715

氟化钠0.50

碳酸钠0.50

氧化锌0.20

0.080

氧化嫁

氧化锗

0.0050

:.

光谱感光板,紫外I型。

石墨电极,光谱纯,如mm,

2223

5仪器、装里

5.1平面光栅摄谱仪:线色散率倒数不大于。.4nm/mm,

5.2光源:直流电弧装置,电压220^380V,电流0^-20A,

5.3测微光度计。

5.4电极:下电极"Xh,mm,4X7;上电极平顶锥形,锥顶截面02.5mm,

5.5分样筛,。.1s一。.10mm尼龙筛网。

6试样

6.1钨酸镶、蓝色氧化钨试样处理:取3g试样置入瓷钳祸中再放入箱形电阻炉内从低温升至6501C,

保温一定时间至转化完全,取出冷却搅匀。

GB/T16600一1996

6.2钨粉试样处理:取19试样置入瓷增锅中再放人箱形电阻炉内从低温升至780℃,保温一定时间至

转化完全,取出冷却搅匀。

6.3钨条、钨丝及板材试样处理:先取试样4~69置入合金研钵中捣碎研细过筛(5.5),将筛下粉末再

按(6.2)处理。

了分析步骤

了.1试料

准确称取。.4009试样(6)

7.2光谱分析试样配制

取试料(7,1)和0.2009缓冲剂(4.21)研匀。

7.3标样配制

采用行业级或国家级三氧化钨光谱分析标准样品,或者按表3计算量在三氧化钨中加入各元素氧

化物.配制成主标样,再用三氧化钨(41)稀释配制成一套标样,经校正后分别称取各号标样。.4。。9与

0.2009缓冲剂(4.21)研匀

表3

标徉号

元素含量,%

MO

Fe、51、Ti、V、CO、

As、Cr、Ca、Sb

}

AI、Mn、Mg、Ni

Cd

}

」Cu

rD、01、乃n尸一

}

一I妞

一号标徉.

10‘0006

〔).000251

10‘00015110·00003

、门一

000002510·000O9

000001

二号标样0.0018

{

{

0.000450.00009

0.000075

卜~一.

0‘00027000003

三号标样

l

0.0054000225

,}

0.00135

一{

0.00027

l

0.000225

卜-一

1〕000810.00009

四号标样

L

001620.00675

{

Ot000810.0006750.00243

}

000027

五号标样

0.04860.02025

}

0.012150.002430.002250.007290000名1

主标样0.486020250.12150t024300225007艺9

{

l

注:Cu元素含量配制时可选择‘或1

7.4测定

了.4.1测定条件

测定条件见表4

表4

摄谱仪

摄潜仪伟月),二透镜照明系统,中间光栏smm,狭缝宽度1勺Inl,中心波长邹。.onm

光源一直流电弧肠·2),电压不低于300V,工作电流SA起弧·55自动升至14A,阳极激发,极距4mm

{

曝光时间预僻6、,曝光155

感光板紫外1型(4·22),短波225.0一248,onm,中波248.0一32O0nm,氏波3200一330.0om

l

7.4.2摄谱

557

GB/T16600一1996

将光谱分析试样(7.2)及标样(7.3)均匀地填满电极(5.4)孔穴中,压下。.smm,刮洁表面,烘烤、

摄谱于同一块感光板上。每份试样、标样分装不得少于3支电极。

注:电极装样前10A直流电弧空烧155。

7.43谱板处理

显影:在20士IC温度下,短波谱板显影

定影、水洗、干燥。

测量

4min,中波谱板显影3mm,长波谱板显影Zmm。

采用测微光度计(5.3),P标尺.狭缝宽度为。2~o4mm,测量各元素分析线对谱线黑度。

分析线对及测定范围见表5。

7.43174.327447.44.17442

表5

元素

分析线,nm内标元素2内标线,nm

测定范围,%

〔二u

327,396

l

Ge/326.9490.00003~00005

282.437

Ge/259.2540.0005~0.0070

Sn

317.5061

0‘00005~0.0020

M0313。259

0.0010一0.050

V

310.230

000025~0.015

Ti一

}

一0.00025~0.015

Bi「306.7720.00005~0.0020

Co306‘182

0.00025~0.015

Cai

51300686

X1

300.3630.00015~0,010

Mn

2夕330600002~0。010

Cr

284325

Ge/259,254

000025~0.015

Pb283、307

0.00005一0.0020

Mg

278,142

0.00015~0,010

Fe259‘957

0.0003~0.020

.259‘8061

0,00025~0,010

Al

257、51000002~0010

Sl

243.516

(奋a/241.869

00004~0.020

As

234,984

0.0005~0.020

Cd

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