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  • 2018-12-28 颁布
  • 2019-04-01 实施
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GB∕T 37049-2018 电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法_第1页
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文档简介

ICS7704030

H17..

中华人民共和国国家标准

GB/T37049—2018

电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定

电感耦合等离子体质谱法

Testmethodforthecontentofmetalimpurityinelectronicgradepolysilicon—

Inductivelycoupled-plasmamassspectrometrymethod

2018-12-28发布2019-04-01实施

国家市场监督管理总局发布

中国国家标准化管理委员会

GB/T37049—2018

前言

本标准按照给出的规则起草

GB/T1.1—2009。

本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会与全国半导体设备和材料标准

(SAC/TC203)

化技术委员会材料分会共同提出并归口

(SAC/TC203/SC2)。

本标准起草单位江苏中能硅业科技发展有限公司青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分

:、

公司有研半导体材料有限公司宜昌南玻硅材料有限公司新特能源股份有限公司洛阳中硅高科技有

、、、、

限公司

。

本标准主要起草人鲁文锋刘晓霞秦榕孙燕赵而敬王桃霞赵玉王忠慧柳德发张园园

:、、、、、、、、、、

银波邱艳梅刘强

、、。

Ⅰ

GB/T37049—2018

电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定

电感耦合等离子体质谱法

1范围

本标准规定了电感耦合等离子体质谱仪测定电子级多晶硅中痕量基体金属杂质含量的

(ICP-MS)

方法

。

本标准适用于中在基体金属杂质小于范围内铁铬镍铜锌钠含量的

GB/T129635ng/g、、、、、

测定

。

2规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的凡是注日期的引用文件仅注日期的版本适用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改单适用于本文件

。,()。

电子级多晶硅

GB/T12963

半导体材料术语

GB/T14264

洁净室及相关受控环境第部分空气洁净度等级

GB/T25915.1—20101:

四级杆电感耦合等离子体质谱仪校准规范

JJF1159

液体化学品分析指南

SEMIC1(Guidefortheanalysisofliquidchemicals)

半导体加工用超纯水指南

SEMIF63(Guideforultrapurewaterusedinsemiconductorprocess-

ing)

3术语和定义

及界定的以及下列术语和定义适用于本文件

GB/T14264JJF1159。

31

.

分辨率resolution

以某元素质量峰高处的峰宽表示

10%。

32

.

检出限detectionlimit

质谱仪在一定的置信度内所能测定的某元素的最低极限质量浓度

。

33

.

仪器检出限instrumentdetectionlimit

空白试剂纯水信号平均值的三倍标准偏差所对应的浓度值

()。

34

.

方法检出限定量下限mothoddetectionlimit

()

给定的分析方法在特定条件下能以合理的置信水平检出被测物的最小浓度

。

35

.

背景噪声backgroundnoise

未引入某元

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