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文档简介

形变的散斑测量,丛妍,实验目的,了解散斑的性质及特点；进行形变的散斑测量。,实验原理,测量形变的原理见图。M1是被测面，M2是参考面。M1和M2在像面PP1上形成散斑干涉图。令A1为M1所产生的图象在P点的振幅，A2为M2所产生的图象在P点的振幅。因为实验进行时相干，所以P点的强度取决于A1，A2以及它们之间的相位差。（合强度A的公式为A2=A12+A22+2A1A2cos）。,当物体M1发生变形的时候，两个散斑场的光程差即位相差发生改变，从而P点的强度发生改变。若位相差的改变为2，4，程差的改变为，2，则变形后的散斑强度与原来的一样，称为相关。若程差改变为/2，3/2，则亮散斑变为暗散斑，暗散斑变为亮散斑，称为不相关。根据M1位置形状改变后散斑干涉图上干涉条纹的改变量，定量出M1的变形量的大小。,实验光路,实验步骤,组合工作台16，18的试件夹装入平面反射镜，调整工作台上调向螺钉，使反射回的两束平行光经透镜20会聚后焦斑重合在可调光阑22之通光孔，调节光电接收器CMOS23在导轨上的位置使干涉条纹清晰，并让镜面和CMOS接收面尽量满足物象共扼关系。然后将工作台16试件夹的平面反射镜换成光学粗糙表面试件如薄铜板，调节薄铜板，使之通过透镜20会聚的最强光通过可调光阑22，微调CMOS23，让试件面和CMOS接收面恢复物象共扼关系。微调试件面和参考面在像面上形成散斑干涉条纹。启动散斑干涉计量程序（WAVE），驱动PZT，得到薄铜板表面位相图，保存。将工作台16试件夹上试件用螺钉压紧作微小变形，运行散斑干涉计量程序，得到形变后的薄铜板表面位相图，与步骤4得到的图相减得到变形量，显示面形有关参数，三维立体图形，干涉图等。,实验记录,思考题,1散斑干涉测量与数字干涉测量有什么
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