半导体真空设备

1、半导体真空设备 气体导论 气体导论，气体方程式 理想气体(Ideal Gas)在不考虑分子间的作用力下,气体分子在一体积 为V的容器内部的行为，将满足气体方程式 PV=nRT P：容器内的压力 n:气体分子数量(莫耳数) T:温度 R:气体常数 气体的移动 自由径(Free Path)-气体分子与另一气体分子发生撞击前所移动的距离 平均自由径(Mean Free Path)-气体分子发生撞击前所移动的平均距离 (MFP) = 0.05/P(压力)室温下 气体的流动-当气体分子移动的平均自由径不同时，亦反应整体(巨观) 的运动行为，造成气体有不同的流动 1. 黏性流动(Viscous Flow)

2、 dn(dn:容器的直径)时，气体分子的运动易受其它气体分子的影响； 又可细分为层流(laminar flow) 与扰流(turbulent flow),两者以雷诺数值 (Reynold number)区分 2. 分子流动(Molecular Flow) dn时，气体分子的运动多为与容器壁的接触；可见于SEM, Impla ntatio n 等制程 3. K nu dsen 流动 dn时,气体分子的运动介于(i)与(ii)间的过渡性流动；可见于 Sputteri ng. Dry etchi ng等制程 真空邦浦简介 真空的建立 真空邦浦(Vacuum Pump)是建立真空环境的主要工具，而所获

3、得的真空品 质则取决定于所选取pump的种类 真空度一般可分为： 粗空度(Rough vacuum, ATM 1 torr) 中空度(Media vacuum, 1 10-3 torr) 高空度(High vacuum, 10 -3 10 -7 torr) 11 超高空度(Ultra-high vacuum, 10 -7 torr) 各类邦浦之工作范围 10UU-1 中喪巽空 zb 高空 10沪 基冠料浦 滑片弍料浦 施w柱星邦福 着贰邦禰 式/爪式邦浦 喘輔那浦 威邦褲 擴敵殯鼾邦滝 啥凍和濮 吸附邦浦 蛙昇華邦满 1. 活塞式回转邦浦 活塞式回转邦浦(Rotary Piston Pump)

4、 Ultimate pressure: 10 mtorr FUMF EXHAUST 5 Lalt LEVEL FLI 林F lNLFl J &TW0J1 G5M PLSTOM SLIDE PtSTOH SHAFT niscuoe 311PE FIN MiuaL -SSPA NATOR WATEricon mn JACKET III VAC VJkLW mrrusioH pUmp VAWT= 2. 翼式回转邦浦 翼式回转邦浦(Rotary Vane Pump) 抽气速率：1 cfm 15 cfm 转速: 1700 rpm ZU皿MN朗 HOIAHY D5tfcLCG 朋ECHliiHKi加L PUMf IWODUL : d i n In n dWWl “* -t- GHA m q ep HIUAG Y/WE F0HV-1IME 一 3兰.J兰 上工些 严聖色也世昨归申网尸員中？岬1* NI斤呛11 Compound =i J._J 9jrr4 Lrr*r 駅IMlu ldnr CdrbMtii Dissolved Compcund 硒顾痴琨段祁碑似鑽照蕪取觀除试 OomtjH VUI