激光制备薄膜技术学习教案_第1页
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文档简介

1、会计学1激光制备激光制备(zhbi)薄膜技术薄膜技术第一页，共16页。第1页/共15页第二页，共16页。第2页/共15页第三页，共16页。*如何制备的呢如何制备的呢四个典型的特征阶段来加四个典型的特征阶段来加以描述。以描述。第3页/共15页第四页，共16页。第4页/共15页第五页，共16页。第5页/共15页第六页，共16页。* *基片的表面状态基片的表面状态基片的表面状态对附着力的基片的表面状态对附着力的影响也很大。如果基片不经影响也很大。如果基片不经过清洁处理，将在其表面上过清洁处理，将在其表面上第6页/共15页第七页，共16页。第7页/共15页第八页，共16页。第8页/共15页第九页，共1

2、6页。第9页/共15页第十页，共16页。羽辉第10页/共15页第十一页，共16页。过渡(gud)层（氧化物）第11页/共15页第十二页，共16页。可能(knng)形成盲区第12页/共15页第十三页，共16页。第13页/共15页第十四页，共16页。基片的表面状态基片的表面状态妨碍妨碍沉积沉积(chnj)(chnj)消除消除基片材质基片材质 界面特性界面特性择优择优基片温度基片温度 沉积沉积(chnj)(chnj)速度速度合理合理入射角度入射角度 盲区盲区 消除消除第14页/共15页第十五页，共16页。NoImage内容(nirng)总结会计学。*如何制备的呢四个典型的特征阶段来加以描述。关键点：在薄膜对基片的附着中，普遍存在着范德华力，但这种力较弱。要形成牢固的附着，需要在薄膜和基片间形成化学键。因此在制膜工艺中，为了提高附着性能，必须先对基片进行清洁和活化(huhu)处理。频率太低时,间隔时间长杂质就会进入薄膜,

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