磁控溅射 气敏性质 光电性质论文

1、磁控溅射论文：磁控溅射法制备几种金属、金属氧化物薄膜及其性质研究【中文摘要】金属与金属氧化物在气敏、光催化与太阳能电池等方面有着极为重要的应用,通过磁控溅射法制备的金属氧化物薄膜,具有纯度高、致密性好、可控性强、与基底附着性好等优点,因此磁控溅射技术被广泛应用于工业化生产制备大面积、高质量的薄膜。我们通过磁控溅射法制备了氧化铜纳米线阵列薄膜,并研究了其气敏性质;除此之外,我们还通过磁控溅射法制备了TiO_2/WO_3复合薄膜,研究了两者之间的电荷传输性质:基于磁控溅射法,我们主要开展了以下三个方面的工作:(1)采用磁控溅射法在掺氟二氧化锡导电玻璃(FTO)衬底上溅射金属铜薄膜,所制备的Cu薄膜

2、通过在管式炉中退火氧化生长,可得到CuO纳米线阵列薄膜。用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)对其形貌和结构进行了表征,并研究了这种通过磁控溅射法得到的CuO纳米线阵列薄膜对CO和H_2S的气敏性质,研究结果表明:CuO纳米线阵列薄膜在250时对CO气体具有最强的气敏响应,并且当CO浓度增大时其气敏响应明显增强;而对于H_2S气体,在常温下CuO纳米线阵列薄膜能够对低浓度的H_2S气体响应,说明这种CuO纳米线阵列薄膜可以在常温、低浓度下.【英文摘要】Metal and metal oxide have important application

3、s in gas-sensing, photocatalyst and photovoltaics, etc. The metal oxide film prepared by magnetron sputtering technique possesses good qualities, such as high purity, good compactness, controllability and excellent adhesion. Therefore magnetron sputtering technique is widely used to prepare large ar

4、ea and high quality films in industrial production. In our work, CuO nanowires (NWs) array films were synthesized by magnetron sputtering. Their gas-sensing propert.【关键词】磁控溅射 气敏性质 光电性质【英文关键词】Magnetron Sputtering Photo-electric Properties Gas-sensing Properties【目录】磁控溅射法制备几种金属、金属氧化物薄膜及其性质研究中文摘要4-5Abst

5、ract5-6第一章：绪论9-251.1 引言91.2 纳米材料的基本效应9-111.3 金属氧化物纳米材料的制备方法11-121.4 金属氧化物纳米材料的研究现状及应用12-191.5 功能性薄膜目前存在的主要问题19-201.6 论文的研究思路及主要内容20-21参考文献21-25第二章 氧化铜纳米线阵列薄膜的制备及其气敏性质25-392.1 引言25-262.2 磁控溅射法制备薄膜的原理及操作规程26-292.3 实验部分29-30 材料制备29 材料表征29 气敏特性测试结构29-302.4 实验结果与讨论30-36 形貌与结构30-33 气敏性质表征33-362.5 本章小结36-37参考文献37-39第三章 Ti0_2/W0_3复合薄膜的动态电荷传输特性39-493.1 引言393.2 实验部分39-40 材料制备39-40 材料表征403.3 实验结果与讨论40-46 形貌、结构与I-V 特性40-42 紫外-可见吸收光谱42 Ti0_2/W0_3 复合薄膜的动态电荷分离与传输42-463.4 本章小结46-47参考文献47-49第四章 金属与金属氧化物超薄膜的制备49-594.1 引言494.2 实验部分49-50 材料制备49-50 材料表征504.3 实验结果与讨论50-56 薄膜的形成过程50-52 薄膜粗糙度的研究52-53 电压对粒径大小的影响53-5