第三章-真空蒸镀

1、加热器高阀AB挡板蒸发源支架加热源衬底真空室加热器扩散泵高阀AB挡板蒸发源支架加热源衬底真空室往机械泵扩散泵机械泵磁力充气阀低真空磁力阀AC高真空阀机械泵低真空磁力阀BAnswer 2Answer 12) (1rrnr2) (rrPkTr工 件2) (rrPkTrLrrPkTr10) (22) (10rrLkTPr22PkT/0 xxeNN/011xxeNNf lgTBAp）柱（蒸汽压，单位：微米汞）绝对温度（mHg K TpABABAB10.998.0710310.717.8310312.722.1310410.725.4910310.708.7610312.502.3210410.284.

2、4810311.636.5410312.333.031049.913.8010311.565.7210312.522.8410411.961.69810413.072.96210411.71 1.80310411.851.42710411.791.59410410.88 1.48710411.891.75810411.602.08510410.779.7110312.011.64710411.411.38410411.158.6310311.647.6510311.231.24810411.189.5310311.228.9410315.73410412.942.010411.643.0851

3、0412.702.11110413.593.710412.404.06810412.752.09610413.07 3.12310411.592.33110413.503.3810412.53 2.72810412.141.37410412.942.77210413.07 2.57210412.441.99710411.781.97110413.04 4.021104 2 mkTpJ 2 mkTpJvcm分子质量；T绝对温度；k玻耳兹曼常数冷凝系数 ( 1 ）；pv饱和蒸汽压； 2)(mkTppAdtdNJhvee式中，dN为蒸发分子（原子）数；A为蒸发表面积；e为蒸发系数 ；t为时间（秒）

4、；pv和ph分别为饱和蒸汽压和液相静压（Pa）。 )scm( 21 -2-个mkTpJvm 2vmpkTmmJG )3020(TdTGdGGO )scm( 2 1 -2-个由mkTpJvm、反射镜反射镜GOMoreMoreMoreMoreMoreMoreMoreMoreGOv镀膜之前应对基材做预处理，以获得薄膜与基材较好的粘结性能。铜板镀膜之前应对基材做预处理，以获得薄膜与基材较好的粘结性能。铜板和不锈钢板先用细砂纸和不锈钢板先用细砂纸(600#) 打磨平整打磨平整,然后依次用丙酮、无水乙醇、去然后依次用丙酮、无水乙醇、去离子水清洗；玻璃板直接用丙酮、无水乙醇、去离子水清洗。本文使用离子水清洗

5、；玻璃板直接用丙酮、无水乙醇、去离子水清洗。本文使用兰州交通大学光电技术与智能控制教育部重点实验室的大型真空蒸发镀兰州交通大学光电技术与智能控制教育部重点实验室的大型真空蒸发镀膜机制备膜机制备TiO2 薄膜。其镀膜工艺流程为：商品薄膜。其镀膜工艺流程为：商品TiO2涂敷在蒸发源上涂敷在蒸发源上抽抽真空真空离子清洗离子清洗延时延时60s镀膜。离子清洗是通过镀膜。离子清洗是通过N2气等离子体轰击气等离子体轰击镀膜基材，去除污染物，保证表面清洁，获得最佳的粘结效果。本试验镀膜基材，去除污染物，保证表面清洁，获得最佳的粘结效果。本试验中离子清洗条件是：电压中离子清洗条件是：电压14001500V，电流，电流1.952.04A，压力，压力3.010-23.210- 2 Pa；镀膜机内预镀材料的转速；镀膜机内预镀材料的转速4r/min，运行时间，运行时间120s。镀膜时：电压。镀膜时