下摆机工艺设计

1、下摆机工艺设计下摆高速精磨，抛光机(超小型)? 治工具设计要领?1.高品质高生产条件? 机械精度 + 精密治工具+ 作业条件+ 技术员技术(技能 )?2.高品质镜片生产条件? 1)镜片需高精密加工要求,须周期确认设备精度? 2)为了避免使用设备中发生异常和问题,保证设备清洁状态?3) 高品质镜片生产是从治工具设计和精密工具开始?3.设计基准?1)求 R 高度方法?-求 1 次 RING 值 AH RING: ? + 2X=?- 曲率 RXX = - H RING 值 = (-镜片曲率 )? 例：AH 1 次 RING : ? 20 +2X=100?镜片曲率 R 50 时 高度为 1.0102?

2、 2) 设定 TOOL 外径请参照后图表研磨 TOOL 及精磨 TOOL 外径设定基准? 3)有关镜片治工具TOOL 辅材料?(1) 适用 0.5T 氨基甲酸乙酯为最佳?(2) 使用 3T PALLET ,R 值小时,使用 DIA?(3) 使用PU 皿 3T PALLET?(4)使用HOLDER 用 POLY 0.5-0.8T? 4)设定 TOOL 曲率 (例: U , R30)?(1)定位皿 U 30R?(2) 氨基甲酸乙酯皿: 29.5R?(3) PALLET 皿:127R?(4) 修正氨基甲酸乙酯皿: U 29.5R?(5) PU 皿 : U 33.R? * 参考 : R 值为凸时 ,

3、相反设计1 / 11下摆机工艺设计18 / 11A L 的dxgLs1:5Hu.、4godxg 三ON。回-行eno工等7IE L 0ITcl量ss舞toL a位山0_|。工5、，弟岸耶珅理常出Kr&Hrb一&Lb(rlra1B 4 u. .a a i . i W w.Ugw吊亡）比（四帼入时(XVR E-Enl9 aH- - i3fk，需亡m*06 09 z S 00 ?OEV Liiip雷自 w rvoscAG iodl Fiif Ri2& ft ssru 用n中 nzr n a .同tfj CR.IT 申$明 口I二hh| 93日I *,-3*gS 3 rIJ *Kl 和 T二.few

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