集成电路设计课件

1、第四章集成电路设计第四章集成电路是由元、器件组成。元、器件分为两大类： 无源元件 电阻、电容、电感、互连线、传输线等有源器件 各类晶体管 集成电路中的无源源件占的面积一般都比有源器件大。所以设计时尽可能少用无源元件，尤其是电容、电感和大阻值的电阻。IC中有多种电容结构 MOS 电容结构 PN结电容结构 金属叉指电容结构 多晶硅/金属-绝缘体-多晶硅电容 I C中主要电容器 MOS 电容 PN结电容 4.1 集成电路电容器 MOS电容器与平板电容和PN结电容都不相同。 因为金属-氧化物-半导体层结构的电容具有独特的性质。 电容电压特性取决于半导体表面的状态, 随栅极电压变化，表面可处于： 积累；

2、耗尽; 反型. 一、MOS电容器1. MOS 电容结构金属sio2半导体diVGC= Ci CsCi +Cs串联PN+sio2金属金属ToxN+Psio2纵向结构横向结构MOS 电容电容量Cox= A0 sio2ToxTox: 薄氧化层厚度；A: 薄氧化层上 金属电极的面积。一般在集成电路中Tox 不能做的太薄，所以要想提高电容量，只能增加面积。 N+层为了减小串联电阻及防止表面出现耗尽层。 集成电路中要制作一个30 pF的MOS电容器，所用面积相当于25个晶体管的面积。AlSiO2ALP+P-SUBN-epiP+N+N+ MOS电容P N+PN外延NN+P PN结电容 在PN结反偏时的势垒电

3、容构成的电容器 PN结电容与 MOS电容的数量级相当。P衬+-二、PN结电容突变PN结电容计算公式： PN结电容与杂质浓度有关 ，若考虑横向扩散 ： 总结面积 = 底面积 + 4个侧面积A=xjW 2 + 4W2W: 正方形pn 结扩散区的边长。 参考P45 2.42发射区扩散层隔离层隐埋层扩散层PN结电容P衬底SiO2-P+隔离+N+埋层N+ 发射区P+ N-+CjsP 基区三、 平板电容 4.2 集成电阻器及版图设计集成电路中的电阻 无源电阻 通常是合金材料或采用掺杂半导体制作的电阻薄膜电阻扩散电阻沟道电阻有源电阻将晶体管进行适当的连接和偏置，利用晶体管的不同的工作区所表现出来的不同的电阻

4、特性来做电阻1、合金薄膜电阻 掺杂多晶硅薄膜也是一个很好的电阻材料，广泛应用于硅基集成电路的制造。 采用一些合金材料沉积在二氧化硅或其它介电材料表面，通过光刻形成电阻条。常用的合金材料有：钽 Ta 镍铬Ni-Cr 氧化锌 ZnO 铬硅氧 CrSiO薄层电阻不同掺杂浓度的半导体具有不同的电阻率，利用掺杂半导体的电阻特性，可以制造电路所需的电阻器。 2、多晶硅薄膜电阻3、掺杂半导体电阻方块电阻的几何图形 R设计时只需考虑电阻的长宽比即可，R 根据工艺调整例：设计一个2k基区电阻。一般基区扩散的方块电阻为200/，所以只要构造长宽比为10的图形即可。根据掺杂工艺来分类扩散电阻 对半导体进行热扩散掺杂

5、而构成的电阻，精度较难控制离子注入电阻 离子注入方式形成的电阻，阻值容易控制，精度较高利用与集成电路兼容的扩散工艺构成的电阻器利用与集成电路兼容的扩散层构成，主要根据掺入杂质浓度和扩散形成的结深决定阻值。 发射区的掺杂浓度高，电阻最小基区电阻相对大，集电区的最大 扩散电阻N集电区扩散电阻N+ N+ 基区扩散电阻N PN+发射区SiO2RP+衬底RN+ 埋层N外延集电区P+P基区外延层扩散电阻N发射区扩散电阻(发射区扩散层) 沟道电阻（夹层电阻）利用不同掺杂层之间的沟道形成的电阻器沟道电阻RR=减小结深，增加方块电阻的阻值；沟道电阻制作大阻值电阻的基本思想。即两扩散层之间的沟道因结深难以精确控制

6、，所以沟道电阻的阻值也不能精确控制，精度要求高的电路不能采用沟道电阻。 PN+ NINPI外延层沟道电阻基区沟道电阻P电阻取决于夹层电阻率和结深MOS多晶硅电阻栅氧化层多晶硅场氧化层RR 集成电路中几种扩散电阻器的比较电阻类型方块电阻/口相对误差%温度系数10-6/基区100-2002015002000发射区2-1020+6000集电区100-10003可控基区沟道21010350+2500外延层25 10330+3000外延层沟道4101037+3000薄膜3+200扩散电阻的功耗限制单位电阻面积的功耗 PAR单位电阻条宽的工作电流IW(PA/ R)1/2单位电阻条宽的最大工作电流IW ma

7、x(PA max/ R)1/2(PA max/ R)1/2R越大，R越小， 扩散电阻的最小条宽版图设计规则所决定的最小扩散条宽工艺水平和扩散电阻精度要求所决定的最小扩散条宽电阻最大允许功耗所决定的最小扩散条宽在设计时应取最大的一种扩散电阻的最小条宽WRmin受三种因素的限制： b.基区电阻等效模型 c.衬底电位与分布电容 集成电路中电阻模型集成电路中电阻基本是由各扩散层形成，除了电阻本身，有反偏的PN结特性，带来附加的电阻和电容(寄生参数)衬底s，n端接最高电位防止电阻器的pn结正偏使电阻失效晶体管有源电阻采用晶体管进行适当连接并使其工作在一定的状态，利用它的导通电阻作为电路中的电阻元件使用

8、双极晶体管和MOS晶体管都可用作有源电阻MOS管有源电阻器MOS有源电阻及其I-V曲线 晶体管有源寄生电阻N+PN+ P衬底IcR1R2R3R4R5R c= R 1 +R 2+ R 3+ R 4+ R 5双极晶体管集电区电阻 集成电路中集电区电阻Rc要比分立管的大。Rc的增大 会影响高频特性和开关性能。R 1 长方体电阻 R 2 埋层拐角体电阻R 3 梯形电阻 R 4 埋层拐角体电阻 R 5 长方体电阻 分别计算出各区的电阻后相加 参看书：P.152为方便起见常将集电极电流流经的区域划分为五个区 4.3 集成电路的互连技术和电感互连线 单片芯片上器件之间互连：金属化工艺，金属铝薄膜 电路芯片与

9、外引线之间的连接(电路芯片与系统的互联)：引线键合工艺为保证模型的精确性和信号的完整性，需要对互连线的版图结构加以约束和进行规整。 在连接线传输大电流时，应估计其电流容量 并保留足够裕量。 各种互连线设计应注意的问题为减少信号或电源引起的损耗及减少芯片面积，连线应尽量短。 为提高集成度，在传输电流非常弱时如： MOS栅极，大多数互连线应以制造工艺 提供的最小宽度来布线。 集成电路总电感可以有两种形式 单匝线圈 多匝线圈 多匝螺旋型线圈 三. 集成电路的电感多匝直角型线圈 单匝线圈4. 4 集成器件和电路版图设计一. 版图设计方式主要规定了掩模版各层图形的宽度、间隔、重叠和两个独立的层间距离等的

10、最小允许值。版图设计规则是连接电路设计者和电路生产者之间的桥梁 PN+ N - Si集电区基区发射区集电极引线基极引线 发射极 引线P N+PN外延NN+P+-PN结电容微米设计规则 以微米为尺度表示版图最小允许值得大小。设计规则 以为基本单位的几何设计规则。 将版图规定尺寸均取为的整数倍来表示。 有两种设计规则：微米设计规则，设计规则控制掩模版各层图形的宽度、间隔和两个独立的层间距离实际工艺中，值不能简单的按比例压缩，仍然保留微米设计规则按比例缩小原则CV规则是在保持器件和电路中各点电位不变的条件下，尽量来缩小尺寸，以提高器件和电路的有关性能 。CE缩小规则基本指导思想是在MOSFET内部电

11、场不变的条件下，通过按比例缩小器件的纵向和横向尺寸（与此同时，电源电压和阈值电压也要与器件尺寸缩小相同的倍数），以提高跨导和减小负载电容，从而达到增强集成电路性能的目的 为了提高器件和IC的频率、速度性能，就需要缩小器件的特征尺寸。按比例缩小规则（scaling law）就是为了方便设计集成电路(IC)所采取的一种规则 N 外延 集电区 N +埋层 p - Si P 基区N+N+集成电路工艺流程针对大量应用的NPN管设计的PNP晶体管制作需要采用与NPN管兼容的技术衬底PNP管 发射区是利用NPN晶体管的基区兼容而成的 基区就是原来的外延层 集电区为衬底NPN晶体管横向PNP管P型发射区和集电

12、区是在标准基区P扩散流程中形成的N型基区就是外延层，基极的引线区是在标准发射区N+ 扩散形成N 外延 集电区 N +埋层 p - Si P 基区N+N+多极NPN管电流大，使电流均匀分布。将集电极、基极、发射极分为多个电极，电极用金属电极连 接在一起。集电区用一个埋层，集电极引线孔处要加N+扩散。p159 图4.11和图4.12双极型集成电路基本制造工艺相应的版图 第一次光刻N+埋层扩散孔光刻埋层氧化外延 第二次光刻P+隔离扩散孔光刻 第三次光刻P型基区扩散孔光刻 第四次光刻 N+发射区扩散孔、集电极引线扩散孔光刻 第五次光刻引线接触孔光刻 第六次光刻金属化内连线光刻- 反刻铝 栅压为零时，沟

13、道不存在，加上一个正的栅压才能形成N型沟道栅压为零时，沟道已存在，加上一个负的栅压才能使N型沟道消失栅压为零时，沟道不存在，加上一个负的栅压才能形成P型沟道。 栅压为零时，沟道已存在，加上一个正的栅压可以使P型沟道消失硅栅CMOS器件(反相器)一个增强型nMOS和增强型PMOS组成CMOS反相器工作原理输入端高电平时：nMOS管导通，pMOS截止，输出端通过导通的nMOS管接地，输出端呈低电平输入端低电平时：pMOS管导通，nMOS截止，输出端通过导通的pMOS管接到VDD上，呈现高电平N阱CMOS设计规则表4.7列出的最小分辨率的微米规则与 规则工艺的特征尺寸，版图基本几何图形及间隔MOS自隔离，P型衬底接地(Vss)，N阱区接VDD多晶硅作引线，为降低电阻，减小功耗，提高速度。多晶硅要重掺杂N+减小接触电阻，金属与N+和P+接触连接(欧姆接触)；金属与多晶硅和衬底接触，需增大接触面积N阱硅栅CMOS工艺流程CMOS反相器 版图设计主要规定了掩模版各层图形的宽度、间隔、重叠和两个独立的层间距离等的最小允许值六. 双极和MOS集成电路的比较制造工艺 MOS电路的源、漏极可同时扩散，只需1次扩散就形成。 一般双极电路至少需5次。工序和时间多，所以引入缺陷多，成品率低。互连线 IC中互连线占的面积非常大。因双极电路输入阻抗低，要比MOS互连线多许