集成电路制造工艺员（三级）考试真题及答案三

1、集成电路制造工艺员（三级）考试真题及答案三1、单选（江南博哥）早期，研究离子注入技术是用（）来进行的。A.重离子加速器B.热扩散炉C.质子分析仪D.轻离子分析器答案：A2、单选（）主要是以化学反应方式来进行薄膜沉积的。A.PVDB.CVDC.溅射D.蒸发答案：B3、单选铜互连金属多层布线中，磨料的粒径一般为（）。A.510nmB.2030nmC.5080nmD.100200nm答案：B4、单选降低靶的温度，有利于非晶层的形成，所以临界注入量随之（）。A.增大B.减小C.不变D.变为0答案：B5、单选dryvacuumpump的意思是（）。A.扩散泵B.谁循环泵C.干式真空泵D.路兹泵答案：C6

2、、单选我们可以从测量去离子水的酸度来判别阴阳树脂谁先失效，阴树脂先失效，水呈（）性。A.酸B.碱C.弱酸D.弱碱答案：A7、单选当注入剂量增加到某个值时，损伤量不再增加，趋于饱和。开始饱和的注入剂量称为（）。A.临界剂量B.饱和剂量C.无损伤剂量D.零点剂量答案：A8、单选如果固体中的原子排列情况是紊乱的，就称之为（）。A.单晶靶B.超晶靶C.多晶靶D.非晶靶答案：D9、单选检验水中是否有盐酸，可用（）溶液滴入水中，如果出现白色沉淀，就表示水中有盐酸。A.氧化铜B.硝酸镁C.硝酸银D.氯化铜答案：C10、多选直流二极管辉光放电系统是由（）构成。A.抽真空的玻璃管B.抽真空后再充入某种低压气体的

3、玻璃管C.两个电极D.加速器E.增益管答案：B,C11、单选ESD产生（）种不同的静电总类。A.1B.4C.3D.2答案：D12、单选局域网中使用中继器的作用是（）。A.可以实现两个以上同类网络的联接B.可以实现异种网络的互连C.实现信号的收集、缓冲及格式的变换D.实现传递信号的放大和整形答案：D13、单选（）是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积技术。A.蒸镀B.离子注入C.溅射D.沉积答案：C14、单选光刻工艺中，脱水烘焙的最初温度是（）。A.150200B.200左右C.250左右D.300左右答案：A15、单选干氧氧化中，氧化炉内的气体压力应（）一个大气压。A.稍高于B.大大于C.

4、等于D.没有要求答案：A16、单选静电偏转电极和静电扫描器都是（）电容器。A.片状B.针尖状C.圆筒状D.平行板答案：D17、单选在实际工作中，常常需要知道离子注入层内损伤量按（）的分布情况。A.长度B.深度C.宽度D.表面平整度答案：B18、多选扩散工艺使杂质由半导体晶片表面向内部扩散，改变了晶片（），所以晶片才能被人们所使用。A.内部的杂质分布B.表面的杂质分布C.整个晶体的杂质分布D.内部的导电类型E.表面的导电类型答案：A,E19、单选（）的气体源中一般包含H+，C+，B+，Cl+，O+等离子。A.Cl2B.BCl3C.CO2D.H2答案：B20、单选射程在垂直入射方向的平面内的投影长

5、度称之为（）。A.投影射程B.射程纵向分量C.射程横向分量D.有效射程答案：C21、单选扩散炉中的管道一般都是用（）制作。A.陶瓷B.玻璃C.石英D.金属答案：C22、单选在空位扩散中，如果迁移到空位的原子是基质原子，扩散属于（）。A.推挤扩散B.杂质扩散C.填隙扩散D.自扩散答案：D23、单选（）就是用功率密度很高的激光束照射半导体表面，使其中离子注入层在极短的时间内达到高温，消除损伤。A.热退火B.激光退火C.连续激光退火D.脉冲激光退火答案：B24、单选由于水中阴阳离子都有导电能力，所以水的（）越高，水中离子数就越少。A.电阻率B.电导率C.电阻D.电导答案：A25、单选离子散射方向与入

6、射方向的夹角，称为（）。A.渐近角B.偏折角C.散射角D.入射角答案：C26、单选半导体硅常用的受主杂质是（）。A.锡B.硫C.硼D.磷答案：C27、单选树脂的外形为（）的球状颗粒。A.淡黄色或褐色B.黑色或棕色C.淡红色或褐色D.淡蓝色或棕色答案：A28、单选以下属于口腔医务人员个人保护措施的是（）A.手套B.口罩C.防护镜D.保护性工作服E.以上均是答案：E29、单选有机性气体大多产生在下列哪道工艺（）。A.离子注入B.刻蚀C.扩散D.光刻答案：D30、单选溅镀法，因为其阶梯覆盖的能力不良，很容易造成因填缝不完全所留下的（）。A.鸟嘴B.空洞C.裂痕D.位错答案：B31、多选净化室里废气收

7、集管系统分为两类，分别是（）。A.一般排气系统B.特殊排气系统C.制程排气系统D.专用排气系统E.排气排水系统答案：A,C32、单选在确定扩散率的实验中，扩散层电阻的测量可以用（）测量。A.SIMS技术B.扩展电阻技术C.微分电导率技术D.四探针技术答案：D33、多选下列物质中是结晶形态二氧化硅的有（）。A.硅土B.石英C.磷石英D.玻璃E.水晶答案：B,C,E34、多选二氧化硅薄膜厚度的测量方法有（）。A.比色法B.双光干涉法C.椭圆偏振光法D.腐蚀法E.电容-电压法答案：A,B,C,D,E35、单选铜与氯形成的化合物挥发能力不好，因而铜的刻蚀无法以化学反应来进行，而必须施以（）。A.等离子

8、体刻蚀B.反应离子刻蚀C.湿法刻蚀D.溅射刻蚀答案：D36、单选分析器是一种（）分选器。A.电子B.中子C.离子D.质子答案：C37、单选危害半导体工艺的典型金属杂质是（）。A.2族金属B.碱金属C.合金金属D.稀有金属答案：B38、多选二氧化硅层中的钠离子可能来源于（）。A.玻璃器皿B.高温器材C.人体沾污D.化学试剂E.去离子水答案：A,B,C,D,E39、单选一般分析扩散系数，考虑两种条件，即恒定表面浓度条件和（）。A.恒定总掺杂剂量B.不恒定总掺杂剂量C.恒定杂志浓度D.不恒定杂志浓度答案：A40、单选请在下列选项中选出硅化金属的英文简称：（）。A.OxideB.NitrideC.Si

9、licideD.Polycide答案：C41、多选去正胶常用的溶剂有（）A.丙酮B.氢氧化钠溶液C.丁酮D.甲乙酮E.热的氯化碳氢化合物答案：A,B,C,D42、单选在刻蚀二氧化硅过程中假如我们在CF4的（）内加入适量的氢气，能够降低刻蚀的速率。A.气体B.等离子体C.固体D.液体答案：B43、单选硅-二氧化硅系统中含有的最主要而对器件稳定性影响最大的离子是（）。A.钠B.钾C.氢D.硼答案：A44、单选用电容电压技术来测量扩散剖面分布是用了（）的原理。A.pn结理论B.欧姆定律C.库仑定律D.四探针技术答案：A45、单选在热扩散工艺中的预淀积步骤中，硼在9501100的条件下，扩散时间大约（

10、）为宜。A.46hB.50min2hC.1040minD.510min答案：C46、单选由于离子交换树脂反应，它既可以去除水中杂质离子，又可以将失效树脂进行处理，恢复交换能力，所以称为（）反应。A.置换B.化学C.不可逆D.可逆答案：D47、单选真空蒸发又被人们称为（）。A.真空沉积B.真空镀膜C.真空外延D.真空答案：B48、单选损伤的分布与注入离子在在靶内的（）的分布密切相关。A.能量淀积B.动量淀积C.能量振荡D.动量振荡答案：A49、多选解决氧化层中的钠离子沾污的方法有（）。A.加强工艺操作B.加强人体和环境卫生C.使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备D.采用HCl氧化工艺E.硅片清洗后

11、，要充分烘干，表面无水迹答案：A,B,C,D,E50、单选引出系统要求能引出分散性较好的强束流，还希望具有较（）的气阻。A.无序B.稳定C.小D.大答案：D51、单选下列关于曝光后烘烤的说法正确的是（）。A.烘烤的目的是除去光刻胶中的水分B.烘烤可以减轻曝光中的驻波效应C.烘烤的温度一般在300左右D.烘烤的时间越长越好答案：B52、单选真空镀膜室内，在蒸发源加热器与衬底加热器之间装有活动挡板，用来（）。A.隔挡气体交换B.控制蒸发的过程C.辅助热量交换D.温度调节答案：B53、多选哪种方法可以增加缺陷的积累率而降低临界注入量：（）。A.低温注入B.常温注入C.高温注入D.分子注入E.双注入答

12、案：A,D,E54、多选超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。A.高分辨率B.高灵敏度C.精密的套刻对准D.大尺寸E.低缺陷答案：A,B,C,D,E55、单选在靶片前方设一抑制栅，作用是将（）抑制回去，从而保证测量的准确性。A.二次电子B.二次中子C.二次质子D.无序离子答案：A56、单选请在下列选项中选出多晶硅化金属的英文简称：（）。A.OxideB.NitrideC.SilicideD.Polycide答案：D57、多选下列扩散杂质源中，（）不仅是硅常用的施主杂质，也是锗常用的施主杂质。A.硼B.锡C.锑D.磷E.砷答案：C,D58、单选采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是（）

13、的。A.结晶形态B.非结晶形态C.可能是结晶形态的，也可能是非结晶形态的D.以上都不对答案：B59、单选在VLSI工艺中，常用的前烘方法是（）。A.热空气对流法B.真空热平板传导法C.红外线辐射法D.射频感应加热法答案：B60、单选在热扩散工艺中的预淀积步骤中，磷的扩散温度为（）。A.600750B.9001050C.11001250D.9501100答案：B61、多选对于非晶靶，离子注入的射程分布取决于（）。A.入射离子的能量B.入射离子的质量C.入射离子的原子序数D.靶原子的质量、原子序数、原子密度E.注入离子的总剂量答案：A,B,C,D,E62、多选有关光刻胶的显影下列说法错误的是（）。

14、A.负胶受显影液的影响比较小B.正胶受显影液的影响比较小C.正胶的曝光区将会膨胀变形D.使用负胶可以得到更高的分辨率E.负胶的曝光区将会膨胀变形答案：A,C,D63、单选扩散工艺现在广泛应用于制作（）。A.晶振B.电容C.电感D.PN结答案：D64、单选下列哪些因素不会影响到显影效果的是（）。A.显影液的温度B.显影液的浓度C.显影液的溶解度D.显影液的化学成分答案：C65、单选（）是通过把被蒸物体加热，利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。A.蒸镀B.溅射C.离子注入D.CVD答案：A66、单选（）是因为吸附原子在晶片表面上彼此碰撞并结合所形成的。A.晶核B.晶粒C.核心D.核团答

15、案：A67、多选关于正胶和负胶在显影时的特点，下列说法正确的是（）。A.负胶的感光区域溶解B.正胶的感光区域溶解C.负胶的感光区域不溶解D.正胶的感光区域不溶解E.负胶的非感光区域溶解答案：B,C,E68、单选当二氧化硅膜很薄时，膜厚与时间（）。A.t2成正比B.t2成反比C.t成正比D.t成反比答案：C69、单选企业的战略一般由四个要素组成，即经营范围、资源配置、竞争优势以及协同合作，其中协同合作是指企业通过共同的努力达到（）。A.分力之和大于简单相加的结果B.分力之和等于简单相加C.共享开发工具、共享信息D.共同分担着开发失败的风险答案：A70、多选静电释放带来的问题有哪些（）。A.金属电

16、迁移B.金属尖刺现象C.芯片产生超过1A的峰值电流D.栅氧化层击穿E.吸引带电颗粒或极化并吸引中性颗粒到硅片表面答案：C,D,E71、单选半导体硅常用的施主杂质是（）。A.锡B.硫C.硼D.磷答案：D72、单选二氧化硅薄膜的折射率是表征其（）学性质的重要参数。A.电B.磁C.光D.热答案：C73、单选在刻蚀（）过程中假如我们在CF5的等离子体内加入适量的氧气，能够提高刻蚀的速率。A.铜B.铝C.金D.二氧化硅答案：D74、单选晶体中，每个原子在晶格中有一定的平衡位置，原子在此位置时其势能为（）。A.极大值B.极小值C.既不极大也不极小D.小于动能答案：B75、单选用真空蒸发与溅射法在硅片或二氧

17、化硅膜上涂敷金属材料，是形成电极的（）。A.重要步骤B.次要步骤C.首要步骤D.不一定答案：C76、单选目前，最广泛使用的退火方式是（）。A.热退火B.激光退火C.电子束退火D.离子束退火答案：A77、单选菲克一维扩散定律公式中的J是代表单位面积溶质（）。A.传输率B.载流子浓度C.扩散梯度D.扩散系数答案：A78、单选当注入剂量增加到某个值时，损伤量不再增加，趋于饱和。饱和正是对应连续（）的形成。A.非晶层B.单晶层C.多晶层D.超晶层答案：A79、多选离子注入的主要气体源中，易燃、易爆的有（）。A.砷化氢B.二硼化氢C.三氟化硼D.硅烷E.氧气答案：A,B,D80、单选电子束蒸发的设备中产

18、生电子束的装置称为（）。A.电子源B.电子泵C.电子管D.电子枪答案：D81、多选电气测量仪表若按照电流的种类来分，有（）。A.低压仪表B.高压仪表C.直流仪表D.交流仪表E.交直流仪表答案：C,D,E82、多选下列有关ARC工艺的说法正确的是（）。A.ARC可以是硅的氮化物B.可用干法刻蚀除去C.ARC膜可以通过PVD或者CVD的方法形成D.ARC在刻蚀中也可做为掩蔽层E.ARC膜也可以通过CVD的方法形成答案：A,B,C,D,E83、单选为了避免（）在经过氯化物等离子体刻蚀之后的残留物使其发生腐蚀，必须在刻蚀完毕之后再增加一道工序来除去这些表面残留物。A.多晶硅B.单晶硅C.铝硅铜合金D.

19、铜答案：C84、单选复合床和混合床可以串联使用。复合床就是指将阳树脂和阴树脂分别装在两个（）内串接起来。A.交换柱B.混合床C.混合柱D.复合柱答案：A85、单选将具有交换能力的阳树脂和阴树脂按一定比例混合后，装在聚氯乙稀或有机玻璃做的圆柱形交换柱内，自来水（）通过交换柱就能称为高纯度去离子水。A.自上而下B.自下而上C.自左而右D.自右而左答案：A86、单选激光退火目前有（）激光退火两种。A.一般和特殊B.脉冲和连续C.高温和低温D.快速和慢速答案：B87、多选在半导体制造中，熔断丝可以应用在（）。A.MOS栅极B.保护性元件C.电容器极板D.制造只读存储器PROME.晶圆背面电镀答案：B,

20、D88、单选硅晶片上之所以可以产生薄膜，出始于布满在晶片表面的许多气体分子或其它粒子，它们主要是通过（）到达晶片表面的。A.粒子的扩散B.化学反应C.从气体源通过强迫性的对流传送D.被表面吸附答案：A89、单选在酸性浆料中，最常使用的氧化剂为（）。A.硝酸B.硝酸铜C.硫酸D.磺酸答案：A90、单选在将清洗完的硅片放进扩散炉扩散时，需要将硅片先装入（），然后再装入扩散炉。A.耐热陶瓷器皿B.金属器皿C.石英舟D.玻璃器皿答案：C91、多选在对层间绝缘膜进行CMP时，层间绝缘膜的表面会随下列那些因素产生变化（）。A.电路图形结构的凹凸B.尺寸大小C.位置分布D.高度E.密集程度答案：A,B,C,

21、D,E92、单选化合物半导体砷化镓常用的施主杂质是（）。A.锡B.硼C.磷D.锰答案：A93、单选（）方法是大规模集成电路生产中用来沉积不同金属的应用最为广泛的技术。A.蒸镀B.离子注入C.溅射D.沉积答案：C94、单选（）由钟罩、蒸气源加热器、衬底加热器、活动挡板和底盘构成。A.真空镀膜机B.真空镀膜室C.真空镀膜器D.真空镀膜仪答案：B95、单选大硅片上生长的（）的不均匀和各个部位刻蚀速率的不均匀会导致刻蚀图形转移的不均匀性。A.薄膜厚度B.图形宽度C.图形长度D.图形间隔答案：A96、单选离子从进入靶起到停止点所通过的总路程称作（）。A.离子距离B.靶厚C.射程D.注入深度答案：C97、

22、单选在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，CA的含义是（）。A.化学增强B.化学减弱C.厚度增加D.厚度减少答案：A98、多选为了满足半导体器件对金属材料的低电阻连接以及可靠的要求，金属材料应该满足（）。A.低电阻率B.易与p或n型硅形成欧姆接触C.可与硅或二氧化硅反应D.易于光刻E.便于进行键合答案：A,B,D,E99、单选离子源产生的离子在（）的加速电场作用下得到加速。A.分析器B.扫描器C.加速器D.偏转器答案：C100、多选在半导体工艺中，如果淀积的薄膜不是连续的，存在一些空隙，则（）。A.使薄膜的介电常数变大B.可能引入杂质C.可能使薄膜层间短路D.使薄膜介电常数变小E.可能使薄膜厚度

23、增加答案：B,C51、单选（）是指每个入射离子溅射出的靶原子数。A.溅射率B.溅射系数C.溅射效率D.溅射比答案：A52、单选在半导体器件制造中，对清洗用水的纯度有比较高的要求，要用经过纯化的（）作为清洁用水。A.蒸馏水B.自来水C.去离子水D.矿泉水答案：C53、多选解决氧化层中的钠离子沾污的方法有（）。A.加强工艺操作B.加强人体和环境卫生C.使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备D.采用HCl氧化工艺E.硅片清洗后，要充分烘干，表面无水迹答案：A,B,C,D,E54、单选晶体中，每个原子在晶格中有一定的平衡位置，原子在此位置时其势能为（）。A.极大值B.极小值C.既不极大也不极小D.小于动能

24、答案：B55、多选关于正胶和负胶在显影时的特点，下列说法正确的是（）。A.负胶的感光区域溶解B.正胶的感光区域溶解C.负胶的感光区域不溶解D.正胶的感光区域不溶解E.负胶的非感光区域溶解答案：B,C,E56、单选钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是（）杂质。A.替位式B.间隙式C.施主D.可能是替位式也可能是间隙式答案：B57、单选在各种离子源常用的放电方式中，EOS是指有（）。A.电子振荡放电B.离子自动放电C.低电压弧光放电D.双等离子电弧放电答案：A58、单选在酸性浆料中，最常使用的氧化剂为（）。A.硝酸B.硝酸铜C.硫酸D.磺酸答案：A59、单选下列哪些元素在硅中是快扩散元素：（）。A.N

25、aB.BC.PD.As答案：A60、单选我们可以从测量去离子水的酸度来判别阴阳树脂谁先失效，阴树脂先失效，水呈（）性。A.酸B.碱C.弱酸D.弱碱答案：A61、单选企业的战略一般由四个要素组成，即经营范围、资源配置、竞争优势以及协同合作，其中协同合作是指企业通过共同的努力达到（）。A.分力之和大于简单相加的结果B.分力之和等于简单相加C.共享开发工具、共享信息D.共同分担着开发失败的风险答案：A62、单选阳树脂用盐酸做再生液，浓度为（）溶液可用原水配制。A.5B.10%C.15%D.20%答案：B63、单选离子散射方向与入射方向的夹角，称为（）。A.渐近角B.偏折角C.散射角D.入射角答案：C

26、64、多选下列有关ARC工艺的说法正确的是（）。A.ARC可以是硅的氮化物B.可用干法刻蚀除去C.ARC膜可以通过PVD或者CVD的方法形成D.ARC在刻蚀中也可做为掩蔽层E.ARC膜也可以通过CVD的方法形成答案：A,B,C,D,E65、单选降低靶的温度，有利于非晶层的形成，所以临界注入量随之（）。A.增大B.减小C.不变D.变为0答案：B66、多选下列物质的等离子体适合用以刻蚀铝合金中硅的有（）。A.CF4B.BCl3C.Cl2D.F2E.CHF3答案：B,C67、单选奉献社会的实质是（）。A.获得社会的好评B.尽社会义务C.不要回报的付出D.为人民服务答案：C68、单选在新一代的CMP中

27、，有使用（）磨料在金属表面上形成软质皮膜并加以去除的趋势。A.二氧化锰B.铝C.氧化铬D.金刚石答案：A69、多选薄膜沉积的机构包括那些步骤（）。A.形成晶核B.晶粒成长C.晶粒凝结D.缝道填补E.沉积膜成长答案：A,B,C,D,E70、多选沾污是指半导体制造过程中引入半导体硅片的任何危害微芯片（）的不希望有的物质。A.功能B.成品率C.物理性能D.电学性能E.外观答案：B,D71、多选树脂使用过程中需保持一定温度，阳树脂和阴树脂分别不能高于（）度，使用温度不能过低，低于0度会使树脂冻裂。A.80B.60C.40D.20E.10答案：A,C72、单选通常热扩散分为两个大步骤，其中第一个步骤是（

28、）。A.再分布B.等表面浓度扩散C.预淀积D.等总掺杂剂量扩散答案：C73、单选早期，研究离子注入技术是用（）来进行的。A.重离子加速器B.热扩散炉C.质子分析仪D.轻离子分析器答案：A74、单项选择题硅晶片上之所以可以产生薄膜，出始于布满在晶片表面的许多气体分子或其它粒子，它们主要是通过（）到达晶片表面的。A.粒子的扩散B.化学反应C.从气体源通过强迫性的对流传送D.被表面吸附答案：A75、单选将具有交换能力的阳树脂和阴树脂按一定比例混合后，装在聚氯乙稀或有机玻璃做的圆柱形交换柱内，自来水（）通过交换柱就能称为高纯度去离子水。A.自上而下B.自下而上C.自左而右D.自右而左答案：A76、单选

29、扩散工艺现在广泛应用于制作（）。A.晶振B.电容C.电感D.PN结答案：D77、单选买来的新树脂往往是Na型或Cl型，新树脂使用前必须分别用酸（阳树脂），碱（阴树脂）浸泡约（）个小时，把Na型或Cl型转换成H型或OH型。A.3B.4C.5D.6答案：B78、单选（）是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积技术。A.蒸镀B.离子注入C.溅射D.沉积答案：C79、多选对于非晶靶，离子注入的射程分布取决于（）。A.入射离子的能量B.入射离子的质量C.入射离子的原子序数D.靶原子的质量、原子序数、原子密度E.注入离子的总剂量答案：A,B,C,D,E80、单选离子注入装置的主要部件有（）、分析器、加速

30、聚焦系统等。A.中子源B.离子源C.电子源D.质子源答案：B81、单选复合床和混合床可以串联使用。复合床就是指将阳树脂和阴树脂分别装在两个（）内串接起来。A.交换柱B.混合床C.混合柱D.复合柱答案：A82、单选铜互连金属多层布线中，磨料的粒径一般为（）。A.510nmB.2030nmC.5080nmD.100200nm答案：B83、单选物理气相沉积简称（）。A.LVDB.PEDC.CVDD.PVD答案：D84、单选光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。A.涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶B.涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶C.涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶D.前烘、涂胶、曝光、坚膜、

31、显影、去胶答案：C85、单选请在下列选项中选出多晶硅化金属的英文简称：（）。A.OxideB.NitrideC.SilicideD.Polycide答案：D86、单选菲克一维扩散定律公式中的J是代表单位面积溶质（）。A.传输率B.载流子浓度C.扩散梯度D.扩散系数答案：A87、单选固体中的扩散模型主要有填隙机制和（）。A.自扩散机制B.杂质扩散机制C.空位机制D.菲克扩散方程机制答案：C88、单选TCP/IP协议中的TCP相当于OSI中的（）。A.应用层B.网络层C.物理层D.传输层答案：D89、单选多晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对（）的高选择性。超薄的栅氧化层使得在刻蚀多晶硅电极时对栅氧化层的

32、刻蚀要尽可能的小。A.二氧化硅B.氮化硅C.单晶硅D.多晶硅答案：A90、单选损伤的分布与注入离子在在靶内的（）的分布密切相关。A.能量淀积B.动量淀积C.能量振荡D.动量振荡答案：A91、单选（）的气体源中一般包含H+，C+，B+，Cl+，O+等离子。A.Cl2B.BCl3C.CO2D.H2答案：B92、单选溅镀法，因为其阶梯覆盖的能力不良，很容易造成因填缝不完全所留下的（）。A.鸟嘴B.空洞C.裂痕D.位错答案：B93、多选二氧化硅膜的质量要求有（）。A.薄膜表面无斑点B.薄膜中的带电离子含量符合要求C.薄膜表面无针孔D.薄膜的厚度达到规定指标E.薄膜厚度均匀，结构致密答案：A,B,C,D

33、,E94、单选由于离子交换树脂反应，它既可以去除水中杂质离子，又可以将失效树脂进行处理，恢复交换能力，所以称为（）反应。A.置换B.化学C.不可逆D.可逆答案：D95、单选悬浮在空气中的颗粒称为（）。A.悬浮物B.尘埃C.污染颗粒D.浮质答案：D96、单选半导体硅常用的受主杂质是（）。A.锡B.硫C.硼D.磷答案：C97、单选刻蚀是把进行光刻前所沉积的薄膜厚度约在数千到数百A之间中没有被（）覆盖及保护的部分，以化学作用或是物理作用的方式加以去除，以完成转移掩膜图案到薄膜上面的目的。A.二氧化硅B.氮化硅C.光刻胶D.去离子水答案：C98、单选半导体硅常用的施主杂质是（）。A.锡B.硫C.硼D.

34、磷答案：D99、单选我们可以通过简单的结深测量和（）测量来获得扩散层的重要信息。A.横向电阻B.平均电阻率C.薄层电阻D.扩展电阻答案：C100、单选对于浓度覆盖很宽的杂质原子，可以采用（）方法引入到硅片中。A.离子注入B.溅射C.淀积D.扩散答案：D集成电路制造工艺员（三级）测试题1、单选在热扩散工艺中的预淀积步骤中，磷的扩散温度为（）。A.600750B.9001050C.11001250D.9501100答案：B2、多选在半导体工艺中，淀积的薄膜层应满足的参数包含有（）。A.均匀性B.表面平整度C.自由应力D.纯净度E.电容答案：A,B,C,D,E3、多选树脂使用过程中需保持一定温度，阳

35、树脂和阴树脂分别不能高于（）度，使用温度不能过低，低于0度会使树脂冻裂。A.80B.60C.40D.20E.10答案：A,C4、单选在各种离子源常用的放电方式中，EOS是指有（）。A.电子振荡放电B.离子自动放电C.低电压弧光放电D.双等离子电弧放电答案：A5、多选下列扩散杂质源中，（）不仅是硅常用的施主杂质，也是锗常用的施主杂质。A.硼B.锡C.锑D.磷E.砷答案：C,D6、单选用高能粒子从某种物质的表面撞击出原子的物理过程叫（）。A.蒸镀B.离子注入C.溅射D.沉积答案：C7、单选溅镀法，因为其阶梯覆盖的能力不良，很容易造成因填缝不完全所留下的（）。A.鸟嘴B.空洞C.裂痕D.位错答案：B

36、8、单选激光退火目前有（）激光退火两种。A.一般和特殊B.脉冲和连续C.高温和低温D.快速和慢速答案：B9、单选大硅片上生长的（）的不均匀和各个部位刻蚀速率的不均匀会导致刻蚀图形转移的不均匀性。A.薄膜厚度B.图形宽度C.图形长度D.图形间隔答案：A10、单选为了保证保护装置能可靠地动作，27.5A的接地电流只能保证断开动作电流不超过多少的继电保护装置。（）A.18.3AB.13.8AC.11AD.9.2A答案：A11、单选下列几种氧化方法相比，哪种方法制得的二氧化硅薄膜的电阻率会高些（）。A.干氧氧化B.湿氧氧化C.水汽氧化D.与氧化方法无关答案：A12、多选离子注入的主要气体源中，易燃、易

37、爆的有（）。A.砷化氢B.二硼化氢C.三氟化硼D.硅烷E.氧气答案：A,B,D13、单选（）方法是大规模集成电路生产中用来沉积不同金属的应用最为广泛的技术。A.蒸镀B.离子注入C.溅射D.沉积答案：C14、单选多晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对（）的高选择性。超薄的栅氧化层使得在刻蚀多晶硅电极时对栅氧化层的刻蚀要尽可能的小。A.二氧化硅B.氮化硅C.单晶硅D.多晶硅答案：A15、多选电气测量仪表若按照电流的种类来分，有（）。A.低压仪表B.高压仪表C.直流仪表D.交流仪表E.交直流仪表答案：C,D,E16、单选如果固体中的原子排列情况是紊乱的，就称之为（）。A.单晶靶B.超晶靶C.多晶靶D.非晶靶

38、答案：D17、多选为了满足半导体器件对金属材料的低电阻连接以及可靠的要求，金属材料应该满足（）。A.低电阻率B.易与p或n型硅形成欧姆接触C.可与硅或二氧化硅反应D.易于光刻E.便于进行键合答案：A,B,D,E18、单选阳树脂用盐酸做再生液，浓度为（）溶液可用原水配制。A.5B.10%C.15%D.20%答案：B19、单选目前，最广泛使用的退火方式是（）。A.热退火B.激光退火C.电子束退火D.离子束退火答案：A20、单选在空位扩散中，如果迁移的空位的原子是杂质原子，扩散称为（）。A.填隙扩散B.杂质扩散C.推挤扩散D.自扩散答案：B21、单选离子源腔体中的气体放电形成（）而引出正离子的。A.

39、等离子体B.不等离子体C.正离子体D.液电流答案：A22、多选静电释放带来的问题有哪些（）。A.金属电迁移B.金属尖刺现象C.芯片产生超过1A的峰值电流D.栅氧化层击穿E.吸引带电颗粒或极化并吸引中性颗粒到硅片表面答案：C,D,E23、单选dryvacuumpump的意思是（）。A.扩散泵B.谁循环泵C.干式真空泵D.路兹泵答案：C24、单选下列关于曝光后烘烤的说法正确的是（）。A.烘烤的目的是除去光刻胶中的水分B.烘烤可以减轻曝光中的驻波效应C.烘烤的温度一般在300左右D.烘烤的时间越长越好答案：B25、单选离子源的作用是使所需要的杂质原子电离成（）离子，并通过一个引出系统形成离子束。A.

40、正B.负C.中性D.以上答案都可以答案：A26、多选关于正胶和负胶在显影时的特点，下列说法正确的是（）。A.负胶的感光区域溶解B.正胶的感光区域溶解C.负胶的感光区域不溶解D.正胶的感光区域不溶解E.负胶的非感光区域溶解答案：B,C,E27、单选在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。A.DQNB.CAC.ARCD.PMMA答案：A28、单选通常选熔断器熔断电流为电路额定电流的（）。A.11.8倍B.1.31.8倍C.1.32.1倍D.1.52.3倍答案：C29、单选在生产过程中必须使用（）来完成浅沟槽隔离STI。A.单晶硅刻蚀B.多晶硅刻蚀C.二氧化硅刻蚀D.氮化硅刻蚀答案：A30、单选静电释放

41、的英文简述为（）。A.ESCB.SEDC.ESDD.SEM答案：C31、单选分析器是一种（）分选器。A.电子B.中子C.离子D.质子答案：C32、单选复合床和混合床可以串联使用。复合床就是指将阳树脂和阴树脂分别装在两个（）内串接起来。A.交换柱B.混合床C.混合柱D.复合柱答案：A33、单选在磁分析器中常用（）分析磁铁。A.柱形B.扇形C.方形D.圆形答案：B34、单选悬浮在空气中的颗粒称为（）。A.悬浮物B.尘埃C.污染颗粒D.浮质答案：D35、多选涂胶之前，要保证晶片的质量以及涂胶工序的顺利进行，下列操作正确的是（）。A.进行去水烘烤以保证晶片干燥B.在晶片表面涂上增粘剂以保证晶片黏附性好

42、C.刚刚处理好的晶片应立即涂胶D.贮存的晶片在涂胶前必须再次清洗及干燥E.也可以直接使用贮存的晶片答案：A,B,C,D36、单选检验水中是否有盐酸，可用（）溶液滴入水中，如果出现白色沉淀，就表示水中有盐酸。A.氧化铜B.硝酸镁C.硝酸银D.氯化铜答案：C37、单选通常热扩散分为两个大步骤，其中第一个步骤是（）。A.再分布B.等表面浓度扩散C.预淀积D.等总掺杂剂量扩散答案：C38、单选用电容电压技术来测量扩散剖面分布是用了（）的原理。A.pn结理论B.欧姆定律C.库仑定律D.四探针技术答案：A39、单选由静电释放产生的电流泄放最大电压可以达（）。A.几伏B.几十伏C.几百伏D.几万伏答案：D4

43、0、单选电离气体与普通气体的不同之处在于：后者是由电中性的分子或原子组成的，前者则是（）和中性粒子组成的集合体。A.离子B.原子团C.电子D.带电粒子答案：D41、多选下列物质中是结晶形态二氧化硅的有（）。A.硅土B.石英C.磷石英D.玻璃E.水晶答案：B,C,E42、单选物理气相沉积简称（）。A.LVDB.PEDC.CVDD.PVD答案：D43、单选钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是（）杂质。A.替位式B.间隙式C.施主D.可能是替位式也可能是间隙式答案：B44、单选由于干法刻蚀中是同时对晶片上的光刻胶及裸露出来的薄膜进行刻蚀的，所以其（）就比以化学反应的方式进行刻蚀的湿法还来得差。A.刻蚀速

44、率B.选择性C.各向同性D.各向异性答案：B45、单选光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。A.涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶B.涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶C.涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶D.前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶答案：C46、多选二氧化硅层中的钠离子可能来源于（）。A.玻璃器皿B.高温器材C.人体沾污D.化学试剂E.去离子水答案：A,B,C,D,E47、单选下列哪些因素不会影响到显影效果的是（）。A.显影液的温度B.显影液的浓度C.显影液的溶解度D.显影液的化学成分答案：C48、单选有机性气体大多产生在下列哪道工艺（）。A.离子注入B.刻蚀C.扩散D.光刻答案：

45、D49、单选（）是通过把被蒸物体加热，利用被蒸物在高温时的饱和蒸汽压来进行薄膜沉积的。A.蒸镀B.溅射C.离子注入D.CVD答案：A50、单选在刻蚀二氧化硅过程中假如我们在CF4的（）内加入适量的氢气，能够降低刻蚀的速率。A.气体B.等离子体C.固体D.液体答案：B51、单选当二氧化硅膜很薄时，膜厚与时间（）。A.t2成正比B.t2成反比C.t成正比D.t成反比答案：C52、单选（）是与气体辉光放电现象密切想关的一种薄膜淀积技术。A.蒸镀B.离子注入C.溅射D.沉积答案：C53、单选决定吸附原子彼此间能否形成一个稳定的核团，以便于进行凝结的主要因素主宰于所形成的核团是否（）而定。A.动能最低B

46、.稳定C.运动D.静止答案：B54、单选不可以对SiO2进行干法刻蚀所使用的气体是（）。A.CHF3B.C2F6C.C3F8D.HF答案：D55、单选硅-二氧化硅系统中含有的最主要而对器件稳定性影响最大的离子是（）。A.钠B.钾C.氢D.硼答案：A56、单选为了避免（）在经过氯化物等离子体刻蚀之后的残留物使其发生腐蚀，必须在刻蚀完毕之后再增加一道工序来除去这些表面残留物。A.多晶硅B.单晶硅C.铝硅铜合金D.铜答案：C57、单选刻蚀是把进行光刻前所沉积的薄膜厚度约在数千到数百A之间中没有被（）覆盖及保护的部分，以化学作用或是物理作用的方式加以去除，以完成转移掩膜图案到薄膜上面的目的。A.二氧化

47、硅B.氮化硅C.光刻胶D.去离子水答案：C58、单选硅晶片上之所以可以产生薄膜，出始于布满在晶片表面的许多气体分子或其它粒子，它们主要是通过（）到达晶片表面的。A.粒子的扩散B.化学反应C.从气体源通过强迫性的对流传送D.被表面吸附答案：A59、多选扩散工艺使杂质由半导体晶片表面向内部扩散，改变了晶片（），所以晶片才能被人们所使用。A.内部的杂质分布B.表面的杂质分布C.整个晶体的杂质分布D.内部的导电类型E.表面的导电类型答案：A,E60、单选当热氧化的最初阶段，（）为限制反应速率的主要原因。A.温度B.硅-二氧化硅界面处的化学反应C.氧的扩散速率D.压力答案：B61、多选去正胶常用的溶剂有

48、（）A.丙酮B.氢氧化钠溶液C.丁酮D.甲乙酮E.热的氯化碳氢化合物答案：A,B,C,D62、多选干氧氧化法具备以下一系列的优点（）。A.生长的二氧化硅薄膜均匀性好B.生长的二氧化硅干燥C.生长的二氧化硅结构致密D.生长的二氧化硅是很理想的钝化膜E.生长的二氧化硅掩蔽能力强答案：A,B,C,D,E63、单选沾污引起的电学缺陷引起（），硅片上的管芯报废以及很高的芯片制造成本。A.不会影响成品率B.晶圆缺陷C.成品率损失D.晶圆损失答案：C64、多选净化室将硅片制造设备与外部环境隔离，免受诸如（）的沾污。A.颗粒B.金属C.有机分子D.静电释放（ESD）E.水答案：A,B,C,D65、单选在集成电

49、路工艺中，光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是（）。A.刻蚀B.氧化C.淀积D.光刻答案：D66、单选（）是测量在刻蚀过程中物质被移除的速率有多快的一种参数。A.刻蚀速率B.刻蚀深度C.移除速率D.刻蚀时间答案：A67、单选为了解决中性束对注入均匀性的影响，可在系统中设有（），使离子束偏转后再达到靶室。A.磁分析器B.正交电磁场分析器C.静电偏转电极D.束流分析仪答案：C68、多选下列有关曝光系统的说法正确的是（）。A.投影式同接触式相比，掩模版的利用率比较高B.接触式的分辨率优于接近式C.接近式的分辨率受到衍射的影响D.投影式曝光系统中不会产生衍射现象E.投影式曝光是目前采用的主要曝光系统

50、答案：A,B,C,E69、单选买来的新树脂往往是Na型或Cl型，新树脂使用前必须分别用酸（阳树脂），碱（阴树脂）浸泡约（）个小时，把Na型或Cl型转换成H型或OH型。A.3B.4C.5D.6答案：B70、单选树脂的外形为（）的球状颗粒。A.淡黄色或褐色B.黑色或棕色C.淡红色或褐色D.淡蓝色或棕色答案：A71、单选晶体中，每个原子在晶格中有一定的平衡位置，原子在此位置时其势能为（）。A.极大值B.极小值C.既不极大也不极小D.小于动能答案：B72、单选损伤的分布与注入离子在在靶内的（）的分布密切相关。A.能量淀积B.动量淀积C.能量振荡D.动量振荡答案：A73、单选在刻蚀（）过程中假如我们在CF5的等离子体内加入适量的氧气，能够提高刻蚀的速率。A.铜B.铝C.金D.二氧化硅答案：D74、单选下列哪些元素在硅中是快扩散元素：（）。A.NaB.BC.PD.As答案：A75、多选在半导体工艺中，如果淀积的薄膜不是连续的，存在一些空隙，则（）。A.使薄膜的介电常数变大B.可能引入杂质C.可能使薄膜层间短路D.使薄膜