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文档简介
表面微细加工光刻技术这是奔腾IV的核心光刻工艺的基本步骤基片处理涂胶曝光前烘曝光曝光后烘显影清理处理显影后烘显影后检查刻蚀脱胶清洁处理边缘平整度抗反射涂层湿法刻蚀和干法刻蚀形成保护层提高分辨率减小光刻光源波长 深紫外光刻 极紫外光刻 准分子激光光刻 X射线光刻 电子束光刻 离子束光刻增大数值孔径光刻工艺的改进 化学机械研磨 “亮峰”技术的应用 光刻胶的发展与应用纳米压印技术 软压印工艺 微接触印刷法 毛细管微模制法 热压印工艺 分步式模压曝光毛细管微模制法分步式模压曝光工艺纳米压印技术的应用 软压印工艺生物医学领域 热压印工艺光学、微机电系统领域 分步式模压曝光工艺半导体领域Thank You !
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