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流行饰品材料及工艺教育部职业教育宝玉石鉴定与加工专业教学资源库GemsandJadeIdentificationandProcessingTeachingResourceLibrary物理气相沉积工艺的分类建设者姓名：尚颖丽物理气相沉积工艺物理气相沉积工艺的分类-真空蒸发镀物理气相沉积工艺分为真空蒸发镀、离子镀、磁控溅射镀等几种，后两种属

于等离子体气相沉积范围。膜层的沉积是在低气压等离子体气体放电条件下进

行的，膜层粒子在电场中获得了较高的能量，使膜层的组织、结构和附着力都比真空蒸发镀有很大的改进。伴随高科技的发展，各种离子镀、磁控溅射镀新技术逐渐成熟，在各个领域不断得到推广应用。

真空蒸发镀真空蒸发镀膜（简称蒸镀），是指在真空条件下，通过高温加热使膜材气化蒸发，并沉积在基体表面形成固态薄膜。蒸镀技术是真空镀膜技术中发展比较早的一门技术，与溅射和离子镀相比，蒸镀方法比较简单，但是在适当的工艺条件下，它能够制备非常纯净的、具有特定结构和性能的薄膜涂层。所以蒸镀技术在光学、半导体器件、塑料金属化等领域至今仍发挥着重要作用。真空蒸发镀具有如下技术特点：

(1)真空蒸发镀过程包括镀材物质蒸发、蒸汽原子传输和蒸汽原子在基片表

面形核、成长的成膜过程组成，即包括蒸发、输运与沉积过程。

(2)真空蒸发镀膜的沉积真空度高，一般为10-3~

10-5

Pa。膜层粒子几乎

不与气体分子、其他金属蒸汽原子发生碰撞，径直达到工件。(3)膜层粒子到达工件的能量是蒸发时所携带的热能。真空蒸发镀膜由于

工件不加偏压，金属原子只是靠蒸发时的气化热，大约为0.1~0.

2eV。因此膜层粒子的能量低，膜层和基体结合力小，很难形成化合物涂层。

(4)真空蒸发镀膜层是在高真空下形成的，蒸汽中的膜层粒子基本上是原子态，在工件表面形成细小的核心，生长成细密的组织。(5)真空蒸发镀膜膜层在高真空度下获得，一般只在工件面向

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