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流行饰品材料及工艺教育部职业教育宝玉石鉴定与加工专业教学资源库GemsandJadeIdentificationandProcessingTeachingResourceLibrary物理气相沉积工艺的分类建设者姓名：尚颖丽物理气相沉积工艺物理气相沉积工艺的分类-磁控溅射镀磁控溅射镀在一定的真空条件下，用几十电子伏特或者更高动能的荷能粒子轰击材料

的表面，使被轰击材料的原子获得足够的能量，脱离原材料点阵的束缚，进入气相，这种技术就是溅射技术。利用溅射出的气相元素，进行沉积成膜，这种沉积过程被称为溅射镀膜。在沉积硬质涂层时，则工件需要接负偏压电源，称磁控溅射离子镀或偏压溅射。溅射镀膜是目前

PVD

技术中应用最广泛的一种镀膜技术,具有以下优点:

(1)溅射镀膜膜层质量较好，与基体的结合力非常强。

(2)溅射镀膜的应用范围广泛，适用于各种材料，高熔点材料也易进行溅射。

(3)溅射镀膜薄膜的厚度分布比较均匀。

(4)溅射镀膜工艺重复性好，易实现工艺控制自动化，可大规模连续生产。谢谢观看！

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