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透射电镜分析透射电子显微镜在形貌分析上的应用基本知识透射电镜原理透射电镜的结构电子衍射原理高分辨透射电镜样品制备材料应用表面与材料实验室基础知识1924年,debroglie提出波粒二象性假说·1926年,Busch发现了不均匀的磁场可以聚焦电子束·1933年,柏林大学研制岀第一台电镜(点分辨率达到1939年,德国西门子公司生产出第一批商用透射电镜(点分辨率10nm)·1950年,开始生产高压电镜(点分辨率优于0.3nm晶格条纹分辨率由于0.14nm)·1956年,门特(Menter)发明了多束电子成像方法,开创了高分辨电子显微术,获得原子象。表面与材料实验室透射电镜的基本原理行射花样电子显微像(倒立像电子束(倒易空间)图1.1利用光学透镜表示电子显微像成像过程的光路图·阿贝光学显微镜衍射成像原理同样适合于透射电子显微镜。不仅可以在物镜的像平面获得放大的电子像,还可以在物镜的后焦面处获得晶体的电子衍射谱,其成像原理图见图表面与材料实验室阿贝光栅成像原理成像系统光路图如图所示。当来自照明系统的平行电子束投射到晶体样品上后,除产生透射束外还会产生各级衍射束,经物镜聚焦后在物镜背焦面上产生各级衍射振幅的极大值每一振幅极大值都可看作是次级相干波源,由它们发出的波在像平面上相成像,这就是阿贝光
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