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文档简介
光刻胶配套试剂检测技师(中级)考试试卷及答案一、填空题(每题1分,共10分)1.光刻胶显影常用碱性试剂是______水溶液。2.丙二醇甲醚醋酸酯的缩写是______。3.试剂水分检测常用______滴定法。4.检测金属杂质常用______光谱仪(ppb级)。5.光刻胶溶剂储存温度一般≤______℃。6.显影液pH值通常控制在______(TMAH型)。7.试剂过滤常用滤膜孔径为______μm(常规)。8.剥离液主要成分是有机溶剂和______。9.HPLC级试剂适用于______分析。10.试剂挥发度常用______点衡量。二、单项选择题(每题2分,共20分)1.光刻胶显影剂是?A.TMAHB.PGMEAC.IPAD.丙酮2.纯度最高的试剂等级是?A.分析纯B.电子级C.化学纯D.HPLC级3.卡尔费休法检测试剂的______。A.金属杂质B.水分C.纯度D.颗粒4.试剂储存应避免______。A.阴凉B.密封C.高温D.避光5.检测颗粒污染物用______。A.激光颗粒计数器B.GC-MSC.HPLCD.ICP-MS6.光刻胶常用溶剂是?A.乙醇B.PGMEAC.甲醇D.乙酸乙酯7.显影液浓度检测常用______。A.滴定法B.气相色谱C.折光率法D.原子吸收8.试剂保质期一般为______。A.6-12个月B.1-2年C.2-3年D.3-5年9.剥离液含______+胺类。A.TMAHB.IPAC.PGMEAD.DMSO10.检测有机物杂质用______。A.ICP-MSB.GC-MSC.紫外分光光度计D.卡尔费休仪三、多项选择题(每题2分,共20分)1.光刻胶配套试剂包括______。A.显影液B.剥离液C.溶剂D.清洗液2.水分检测方法有______。A.卡尔费休法B.气相色谱法C.滴定法D.原子吸收3.试剂储存注意事项______。A.密封B.避光C.远离火源D.低温4.金属杂质检测方法______。A.ICP-MSB.原子吸收C.HPLCD.GC-MS5.显影液要求______。A.高纯度B.低金属杂质C.稳定pHD.低颗粒6.溶剂作用______。A.溶解树脂B.调节粘度C.改善涂布性D.显影7.过滤目的______。A.除颗粒B.提纯度C.防堵塞D.工艺一致8.质量控制指标______。A.纯度B.水分C.金属杂质D.颗粒数9.电子级试剂要求______。A.极低金属杂质B.低水分C.低颗粒D.高纯度10.颗粒检测方法______。A.激光计数B.膜过滤法C.HPLCD.GC-MS四、判断题(每题2分,共20分)1.TMAH浓度越高,显影速度越快。(√)2.HPLC级试剂可直接用于光刻工艺。(×)3.PGMEA挥发度比IPA低。(√)4.水分越高,对光刻胶影响越小。(×)5.ICP-MS可检测ppb级金属。(√)6.试剂储存无需避光。(×)7.显影液pH需控制12-14。(√)8.滤膜孔径越小越好。(×)9.剥离液去除残留光刻胶。(√)10.GC可检测有机物杂质。(√)五、简答题(每题5分,共20分)1.显影液主要质量指标及检测方法?答案:指标含浓度(折光率/滴定)、pH(pH计)、金属杂质(ICP-MS)、水分(卡尔费休)、颗粒数(激光计数)、有机物(GC-MS)。这些指标直接影响显影分辨率,需严格符合工艺要求。2.卡尔费休水分滴定原理及注意事项?答案:原理:试剂(碘、SO₂、吡啶、甲醇)与水定量反应,通过滴定体积算水分。注意:试剂密封防潮、样品量适配、终点准确(电流突变)、避环境湿度、定期校准仪器。3.试剂储存关键要求?答案:密封防挥发污染、避光防光反应、低温(≤25℃)、远离火源(易燃)、分类存放(酸碱/氧化剂还原剂分开)、标注有效期、干燥环境防吸潮。4.ICP-MS检测金属杂质的优势?答案:高灵敏度(ppb/ppt级)、多元素同时检测、宽线性范围、低干扰(碰撞反应池)、快速分析(批量样品适配),满足光刻试剂低金属要求。六、讨论题(每题5分,共10分)1.颗粒污染物对工艺的影响及控制措施?答案:颗粒导致图案缺陷(针孔、短路),降低良率。控制:生产用0.02μm超纯过滤、洁净车间(Class10);储存密封防震动;检测用激光计数(<10个/100ml@0.1μm);使用前二次过滤;设备定期清洗防颗粒脱落。需结合试剂类型(显影液/溶剂)调整参数。2.不同纯度试剂的工艺适用性及选择原则?答案:高端芯片(5nm以下)用ULSI级(金属<1ppb),中端用EL级;分析纯/HPLC仅用于实验室。选择原则:满足工艺需求、成本平衡、批次稳定性、小试验证。误用低纯度试剂会导致缺陷、设备腐蚀,需严格按规范选。答案汇总一、填空1.四甲基氢氧化铵(TMAH)2.PGMEA3.卡尔费休4.电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)5.256.12-147.0.28.胺类9.高效液相色谱10.沸二、单选1.A2.B3.B4.C5.A6.B7.C8.A9.D10.B三、
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