CN110376231B 具有对光束发散度的混合控制的x射线分析装置及方法 （马尔文帕纳科公司）

具有对光束发散度的混合控制的X射线分析本申请涉及具有对光束发散度的混合控制可选地另一狭缝(220)。控制器(17)被配置成在从而限制样品的被照射区域；并且另一狭缝可调狭缝(210)不限制入射光束的发散度，并且另一狭缝(220)限制入射光束的发散度，从而限2得由所述X射线源生成的X射线限定照射所述另一狭缝（220所述另一狭缝在所述X射线源和所述可调狭缝之间，或者在所述可调其中，所述控制器被配置成在第一宽度、第二宽度和第三宽在所述第一宽度下：所述可调狭缝将所述入射光束的发散度在所述第二宽度下：所述可调狭缝将所述入射光束的发散度所述另一狭缝将所述入射光束的发散度限制在第三发散角，从而其中，所述第三发散角大于所述第二发散角，并且所述第二发6.根据权利要求5所述的X射线分析装置，其中，7.根据权利要求6所述的X射线分析装置，还包括X射线检测器（14所述X射线检测器38.根据权利要求7所述的X射线分析装置，其中得由所述X射线源生成的X射线限定照射所述另一狭缝（220所述另一狭缝在所述X射线源和所述可调狭缝之间，或者在所述可调通过所述控制器将所述可调狭缝设置为第一宽度，在所述第一宽度下通过所述控制器将所述可调狭缝设置为第二宽度，在所述第二宽度下通过所述控制器将所述可调狭缝设置为第三宽度，在所述第三宽度下其中，所述第三发散角大于所述第二发散角，并且所述第二发得由所述X射线源生成的X射线限定照射所述4其中，所述第三发散角大于所述第二发散角，并且所述第二发程序代码，所述计算机程序被配置成当在X射线分析装置的控制器上运行所述计算机程序样品台，其被配置成支撑样品，所述X射线源和所述样品台被布置其中，所述控制器被配置成在第一宽度、第二宽度和第三宽所述可调狭缝将所述入射光束的发散度限制在第一发散角，从而所述可调狭缝将所述入射光束的发散度限制在第二发散角，从而所述可调狭缝将所述入射光束的发散度限制在第三发散角，从而其中，所述第三发散角大于所述第二发散角，并且所述第二发5所述第四入射角大于所述第三入射角，所述第三入射角大于所述第二6伦塔诺(BraggBrentano)法。使用X射线分析物质的其他方法包括掠入射X射线衍射[0004]诸如发散狭缝、防散射狭缝和准直器(collimator)的X射线光学器件可以被设置7[0019]可调狭缝将入射光束的发散度限制在第一发散角，从而限制[0022]可调狭缝将入射光束的发散度限制在第二发散角，从而限制[0038]因为不可调狭缝不需要在可调狭缝的所有配置中都对光束无阻碍的(beclearof)，所以不可调狭缝可以具有比先前组合可编程发散狭缝和防散射狭缝的实例的更窄的8[0049]X射线分析装置还可以包括X射线检测器，该X射线检测器被布置成接收来自样品当可调狭缝被设置为第一宽度或第二宽度时，基于可调狭缝的宽度来执行第一归一化计[0054]根据本发明的另一方面，提供了一种使用装置进行X射线分析的方法，该装置包9[0070]根据本发明的又一方面，提供了一种使用装置进行X射线分析的方法，该装置包[0090]还提供了一种包括计算机程序代码的计算机程序，该计算机程序被配置成当在X[0101]可调狭缝将入射光束的发散度限制在第二发散角，从而[0111]X射线分析装置还可以包括X射线检测器，该X射线检测器被布置成接收来自样品[0114]图2是示出了图1的X射线衍射装置中的光束形成的简化示意图，其中可编程发散[0115]图3是示出了图1的X射线衍射装置中的光束形成的简化示意图，其中可编程发散[0116]图4是示出了图1的X射线衍射装置中的光束形成的简化示意图，其中可编程发散[0117]图5示出了通过结合入射角改变光束发散度来用入射光束照射样品的恒定区域的[0126]在图1示出的实施例中，第一支撑部件16支撑第一准直器18和第二准直器(未示[0127]通过提供其中控制器17使第一支撑部件16在第一配置和第二配置之间移动的布[0129]可编程防散射狭缝11被设置在从样品6到检测器14的检测区15的次级X射线光束平坦型梯度多层结构10的索勒狭缝(Sollerslit)准直器。平坦型梯度多层结构10反射入一掩模轮至少包括第一狭缝掩模和开口光束掩模。第一狭缝掩模用于限制光束的尺寸(可径中的可调狭缝210；以及在可调狭缝210和样品6之间的入射光束路径中的不可调的另一狭缝220。在控制器17的控制下(如图1中虚线所示)，可调狭缝210可以用作可编程发散狭[0134]根据本发明的实施例，图2-图4中的横截面图提供了狭缝210和220的操作原理的光束的被允许穿过两个遮光板之间的间隙的剩余部分12a的发散度。通过以这种方式限制[0136]图3示出了当控制器17已经将可调狭缝210设置为第二宽度(比第一宽度大)时的[0137]当可调狭缝210为第二宽度时，不可调狭缝220仍然不干扰入射光束的剩余部分[0138]图4示出了当控制器17已经将可调狭缝210设置为第三宽度(比第一宽度和第二宽度大)时的可调狭缝210。在该第三宽度下，可调狭缝210不干扰或阻挡入射光束的任何部而将入射光束的发散度限制在第三发散角α3，该第三发散角α3大于第一发散角α1和第二发被设置为第二、更高的入射角θ2时(如由X射线管4210的宽度，从而控制光束的发散角α,使得在两个入射角下照射样品的相调狭缝210可以被控制以在连续的入射角的范围内提供该恒定的角度)的范围内扫描样品6。由于狭缝210和220通过阻挡光束的一部分来控制光束的发散由检测器14接收到的X射线的强度。控制器可以被配置成根据针对其测量强度的入射角来可调狭缝210的宽度来归一化测量到的强度，并且当另一狭缝控制光束发散度时根据另一[0145]图6示出了使用如上所述的X射线分析装置，根据本发明的实施例可以被执行的X个入射角。方法现在处于恒定角发散度模式，其中入射光束的发散度由不可调狭缝220控[0150]使用这种方法可以允许在宽角度范围内并使用不同类型的发散度控制自动地进设置为恒定宽度(因此恒定发散度)的情况下，或者在可调狭缝210的宽度(因此发散度)根[0154]图7是示出根据另一示例性实施例的X射线衍射仪的示意图。这是图1示出的实施[0155]在图1中，另一狭缝(不可调狭缝220)位于可调狭缝210和样品6之间的光束路径入射角处下以其第三宽度被使用(如上已经讨论的)，这可以允许图7的装置提供对在高入[0159]在一个实施例中，控制器17预先配置有与不同类型的X射线测量的部件配置相关的部件配置(包括应该如何用可调狭缝以及可选地另一狭缝来控制入射光束发散度的定调狭缝可以控制来自(第一)可调狭缝的不同的从属权利要求中引用某些手段的不争事实并不指示这些手段的组合不能有利地被[0168]在本文中描述的实施例可以通过由装置的数据处理器(诸如，在处理器或控制器