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文档简介
脑机接口电极制备技师考试试卷及答案填空题(10题,每题1分)1.脑机接口电极常用的惰性金属材料包括金、铂和______。2.光刻工艺中,去除未曝光光刻胶的步骤是______。3.柔性电极常用基底材料是聚酰亚胺和______。4.电极阻抗测试常用频率是______kHz。5.微电极阵列(MEA)图案转移的核心工艺是______。6.PDMS的中文名称是______。7.电镀可在电极表面沉积______以降低阻抗。8.电极脱水干燥常用试剂是______。9.Utah阵列电极的基底材料主要是______。10.影响电极空间分辨率的关键参数是______。单项选择题(10题,每题2分)1.下列哪种材料不适合作为电极基底?A.硅B.玻璃C.铝D.聚酰亚胺2.电极阻抗过高会直接导致:A.信号失真B.生物相容性提高C.寿命延长D.串扰增加3.沉积金属电极层的常用工艺是:A.光刻B.溅射C.刻蚀D.旋涂4.植入式电极合格阻抗标准(@1kHz)是:A.<1kΩB.<1MΩC.<10MΩD.<100MΩ5.提高电极生物相容性的方法是:A.电镀铂黑B.等离子体改性C.增加厚度D.提高阻抗6.Michigan阵列属于:A.柔性表面电极B.刚性植入电极C.无线电极D.光电极7.去除未被光刻胶覆盖金属层的工艺是:A.显影B.刻蚀C.前烘D.后烘8.下列哪种不是常用绝缘层材料?A.聚酰亚胺B.环氧树脂C.铜D.paryleneC9.微电极直径越小,空间分辨率:A.越高B.越低C.不变D.不确定10.电极封装的目的不包括:A.防体液侵蚀B.隔离串扰C.提高相容性D.增加重量多项选择题(10题,每题2分,多选/少选不得分)1.电极常用金属材料包括:A.金B.铂C.钨D.钛2.常用绝缘层材料有:A.聚酰亚胺B.PDMSC.环氧树脂D.玻璃3.影响生物相容性的因素包括:A.表面粗糙度B.材料种类C.封装完整性D.阻抗大小4.光刻关键步骤包括:A.旋涂光刻胶B.曝光C.显影D.电镀5.电极类型包括:A.Utah阵列B.Michigan阵列C.柔性表面电极D.光电极6.降低阻抗的方法包括:A.电镀铂黑B.减小直径C.修饰导电聚合物D.增加绝缘层厚度7.电极清洗步骤包括:A.超声清洗B.乙醇脱水C.等离子体处理D.电镀8.柔性电极关键技术包括:A.薄基底制备B.波浪形结构C.刚性封装D.厚金属层沉积9.电极测试内容包括:A.阻抗测试B.生物相容性测试C.机械稳定性测试D.重量测试10.电极表面修饰方法包括:A.接枝RGD肽B.涂覆PEGC.电镀铂黑D.光刻判断题(10题,每题2分,√/×)1.聚酰亚胺是柔性电极常用基底。()2.电极阻抗越低,信号质量越好。()3.电镀可制备电极表面修饰层。()4.微电极直径越大,分辨率越高。()5.PDMS生物相容性优于环氧树脂。()6.光刻不需要掩模。()7.Utah阵列是柔性电极。()8.等离子体改性提高表面亲水性。()9.封装越厚,机械稳定性越好。()10.银是电极常用材料。()简答题(4题,每题5分)1.简述光刻工艺的主要步骤。答案:光刻是图案转移核心步骤,流程为:①基底清洗(超声+乙醇脱水除杂);②旋涂光刻胶(控制转速得均匀胶层,厚度1-5μm);③前烘(80-100℃除溶剂固化);④曝光(掩模紫外曝光,使曝光区胶交联/溶解);⑤显影(显影液去除未曝光/曝光区胶,得目标图案);⑥后烘(120-150℃增强胶层附着力)。需严格控制曝光剂量、显影时间,避免图案变形。2.电极生物相容性处理的常见方法?答案:常见方法:①等离子体改性(氧等离子体引入-OH、-COOH,提高亲水性);②表面修饰(接枝胶原蛋白、RGD肽,促进神经细胞黏附);③聚合物涂层(涂覆PEG减少炎症);④钝化处理(金/铂覆盖活性金属,降低毒性)。需平衡相容性与电学性能,避免修饰层影响阻抗。3.MEA封装的目的及常用材料?答案:封装目的:①保护内部结构防体液侵蚀;②隔离串扰提高信号特异性;③增强机械稳定性适配植入环境。常用材料:①刚性材料(环氧树脂、玻璃,部分植入电极);②柔性材料(聚酰亚胺、PDMS,柔性电极);③生物相容性材料(paryleneC,薄涂层兼具绝缘与柔性)。4.电极阻抗测试方法及合格标准?答案:常用方法:电化学阻抗谱(EIS)或阻抗分析仪,测试频率1kHz。合格标准:植入式电极<1MΩ@1kHz,柔性表面电极<10kΩ@1kHz。阻抗过高需电镀铂黑/修饰导电聚合物;过低需检查绝缘层破损。讨论题(2题,每题5分)1.如何平衡电极的机械稳定性与柔性?答案:脑组织模量~1kPa,电极需适配柔性同时稳定。策略:①基底复合(聚酰亚胺+PDMS,厚度10-50μm);②结构设计(波浪形、网格状分散应力);③薄封装(paryleneC<1μm,绝缘不增刚性);④阵列优化(微电极间距避免应力集中)。需通过拉伸(断裂应变>20%)、弯曲测试验证,确保长期植入不损伤脑组织。2.电镀铂黑对电极性能的影响及注意事项?答案:影响:①降低阻抗(1-2个数量级),提高信噪比;②增加粗糙度促进细胞黏附;③提高电流承载能力。注意事项:①参数控制(电流密度0.5-2mA/cm²,时间30-60s,避免颗粒脱落);②基底兼容(仅适用于铂/金,活性金属需钝化);③相容性(铂黑易吸附蛋白,需等离子体改性);④长期稳定(加添加剂提高附着力)。---答案汇总填空题1.钨2.显影3.PDMS4.15.光刻6.聚二甲基硅氧烷7.铂黑8.乙醇9.硅10.电极直径单项选择
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