集成电路布图设计专员岗位招聘考试试卷及答案

集成电路布图设计专员岗位招聘考试试卷及答案集成电路布图设计专员岗位招聘考试试卷及答案一、填空题（共10题，每题1分）1.我国集成电路布图设计专有权的保护期限为______年，自登记申请日或者首次商业利用日起计算，以较前日期为准。2.集成电路布图设计登记的主管部门是______。3.布图设计必须具备______才能获得专有权保护。4.布图设计专有权的内容包括______权和______权。5.申请布图设计登记时，已投入商业利用的需提交含有该布图设计的______样品。6.布图设计专有权的取得方式是______。7.未经布图设计权利人许可，他人不得为商业目的______或者______受保护的布图设计。8.布图设计的复制是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的______的行为。9.布图设计登记申请经初步审查没有发现驳回理由的，由国务院知识产权行政部门予以______，发给登记证明文件，并予以公告。10.布图设计专有权的转让，当事人应当订立书面合同，并向______登记。二、单项选择题（共10题，每题2分）1.我国集成电路布图设计保护条例施行的时间是（）A.2001年10月1日B.2002年1月1日C.2003年3月1日D.2004年5月1日2.布图设计专有权的保护期限自（）起计算。A.设计完成日B.登记申请日C.首次商业利用日D.登记申请日或首次商业利用日，以较前为准3.下列哪项不属于布图设计专有权的内容？（）A.复制权B.商业利用权C.修改权D.许可权4.申请布图设计登记，应当向哪个部门提出？（）A.国家版权局B.国家知识产权局C.工信部D.科技部5.布图设计的独创性是指该布图设计是创作者（）的结果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。A.独立创作B.合作创作C.委托创作D.职务创作6.下列哪种行为不构成侵犯布图设计专有权？（）A.为个人学习使用而复制B.为商业目的复制C.为商业目的销售含有侵权布图设计的集成电路D.为商业目的进口含有侵权布图设计的集成电路7.布图设计登记申请的初步审查期限是自申请日起（）内。A.3个月B.6个月C.9个月D.12个月8.布图设计专有权人可以将其专有权（）。A.转让B.继承C.许可他人使用D.以上都是9.含有布图设计的集成电路产品首次商业利用的日期，应当在申请登记时（）。A.隐瞒B.如实说明C.无需提供D.以上都不对10.布图设计专有权的保护范围以（）为准。A.登记的布图设计的复制件或者图样B.设计人的口头说明C.产品实物D.申请文件中的描述三、多项选择题（共10题，每题2分）1.集成电路布图设计应当具备哪些条件才能获得保护？（）A.独创性B.实用性C.新颖性D.可复制性2.布图设计专有权的内容包括（）。A.复制权B.商业利用权C.出租权D.展览权3.下列哪些行为属于侵犯布图设计专有权的行为？（）A.未经许可复制受保护的布图设计B.未经许可销售含有受保护布图设计的集成电路C.未经许可进口含有受保护布图设计的集成电路D.为个人学习使用复制受保护的布图设计4.申请布图设计登记需要提交的文件包括（）。A.登记申请表B.布图设计的复制件或图样C.集成电路样品（如已商业利用）D.身份证明文件5.布图设计专有权的行使方式包括（）。A.自己实施B.许可他人实施C.转让D.质押6.下列关于布图设计登记的说法正确的是（）。A.登记是获得保护的前提B.初步审查合格后予以登记C.登记后予以公告D.登记后权利人可以获得专有权7.布图设计合理使用的情形包括（）。A.为个人学习、研究使用B.为教学目的少量复制C.在评价、分析布图设计的基础上，创作新的布图设计D.为商业目的复制8.布图设计专有权的主体可以是（）。A.自然人B.法人C.其他组织D.国家9.布图设计专有权的转让应当符合哪些条件？（）A.订立书面合同B.向国家知识产权局登记C.公告D.双方协商一致10.下列关于布图设计保护期限的说法正确的是（）。A.最长10年B.自登记申请日起计算C.自首次商业利用日起计算D.以登记申请日或首次商业利用日较前的为准四、判断题（共10题，每题2分）1.集成电路布图设计专有权的保护不需要登记，自动获得。（）2.布图设计的保护期限为20年。（）3.未经许可为商业目的复制受保护的布图设计属于侵权行为。（）4.布图设计专有权包括修改权。（）5.个人为学习目的复制受保护的布图设计不构成侵权。（）6.布图设计登记申请经初步审查合格后，由国家知识产权局予以登记。（）7.布图设计专有权可以继承。（）8.含有受保护布图设计的集成电路产品进口不需要经过权利人许可。（）9.布图设计的独创性是指该设计与现有设计完全不同。（）10.布图设计专有权的转让必须向国家知识产权局登记才生效。（）五、简答题（共4题，每题5分）1.简述集成电路布图设计专有权的内容。2.简述申请集成电路布图设计登记的流程。3.简述集成电路布图设计的合理使用情形。4.简述集成电路布图设计专有权的侵权行为类型。六、讨论题（共2题，每题5分）1.讨论集成电路布图设计保护对我国半导体产业发展的意义。2.讨论如何平衡集成电路布图设计权利人利益与公共利益。答案：一、填空题1.102.国家知识产权局3.独创性4.复制、商业利用5.集成电路6.登记制7.复制、商业利用8.集成电路9.登记10.国家知识产权局二、单项选择题1.A2.D3.C4.B5.A6.A7.B8.D9.B10.A三、多项选择题1.AD2.AB3.ABC4.ABCD5.ABCD6.ABCD7.ABC8.ABC9.ABCD10.AD四、判断题1.错2.错3.对4.错5.对6.对7.对8.错9.错10.对五、简答题1.集成电路布图设计专有权包括复制权和商业利用权。复制权指权利人有权重复制作布图设计或含有该布图设计的集成电路；商业利用权指权利人有权为商业目的销售、出租、进口或以其他方式提供含有该布图设计的集成电路或其产品。权利人可通过许可、转让等方式行使权利，未经许可实施上述行为构成侵权。2.申请流程：准备文件（申请表、复制件/图样、已商业利用的样品、身份证明）；向国家知识产权局提交申请；初步审查（文件齐全性、登记条件）；合格则登记公告并发放证明；不合格通知补正或驳回，申请人可复审。3.合理使用情形：个人学习研究复制；教学科研少量复制非商业用途；评价分析现有设计后创作新设计；国家机关公务使用；其他法定情形。合理使用无需许可，不侵权。4.侵权行为：未经许可商业复制；未经许可商业销售/出租/进口含侵权设计的产品；伪造登记证明；销售伪造证明；其他侵权行为。侵权需承担民事责任，严重者承担行政或刑事责任。六、讨论题1.布图设计保护推动半导体产业创新，激励研发投入提升设计水平；保护权利人权益，维