CN119486979A 生产光子晶体光纤的方法 （Asml荷兰有限公司）

2024.12.06PCT/EP2023/0618492023.05.04WO2023/237264EN2023.12.14特细管的圆周的至少一部分在一个或多个轴向位置处测量所述多个预成型毛细管中的每个预成将所选择的预成型毛细管放置在玻璃管（或套少一个环形布置的PCF预成型件；其中所选择的预成型毛细管被定向为使得所选择的预成型毛细管中的每个预成型毛细管的其中所测量的壁厚度相对于标称壁厚度的变化不超过所述最大2沿着预成型毛细管的圆周的至少一部分在一个或多个轴向位置处测量所述多个预成至少基于厚度准则从所述多个预成型毛细管中选择一些预成型毛细管是沿着预成型毛细管的至少圆周部分的所述壁厚度相对于标称壁厚度的变化不超过最大将所选择的预成型毛细管放置在玻璃管或套管中，以形成具有所选择预成型毛细管中的每个预成型毛细管的其中所测量的壁厚度相对于所述标称壁厚度的变组装所选择的预成型毛细管以获得堆叠组件，其中所选得所选择的预成型毛细管中的每个预成型毛细管的所述圆周部分面向所述堆叠组件的纵将所述堆叠组件插入到所述玻璃管中以形成所述PCF将所选择的预成型毛细管中的一个预成型毛细管插入到所述将所插入的预成型毛细管定向为使得所插入的预成型毛细管的其中所测量的壁厚度相对于所述标称壁厚度的变化不超过所述最大厚度变化的所述部分面向所述玻璃管的所4.根据任一前述权利要求所述的方法，其中，获得所述全长的至少一部分在多个轴向位置处测量所3毛细管中的每个预成型毛细管的其中所测量的壁厚度落在厚度范围内的所述圆周部分的述HC_PCF的所述多个玻璃毛细管的壁厚度的变化小于所述多个玻璃毛细管的平均壁厚度4[0002]本申请要求于2022年6月7日提交并且通过引用被全部并入本文的EP申请称为“光学和过程校正”）等设计布局的各种优化或者通常被定义为“分辨率增强技术”低k1下的图案的再现。的对准工具、用于测量衬底表面拓扑的校平工具、例如用于在过程控制中检查/测量曝光期望改进用于宽带辐射生成的现有装置。在用于白光生成的其他技术中，光子晶体光纤基于PCF的辐射源的输出性能对PCF的质量和特性有很强的依赖性，而PCF的质量和特性主5续的方式拉制光纤。这种常规的光纤制造方法通常会导致PCF的内部结构的一个或多个尺本发明的目的是提供一种用于生产PCF的PCF预成型件；其中所选择的预成型毛细管被定向为使得所选择的预成型毛细管中的每个预成型毛细管的其中所测量的壁厚度相对于标称壁厚度的变化不超过最大厚度变化的部[0010]根据本发明的第三方面，提供了一种使用本发明的第二方面的方法生产的PCF产于PCF的宽带光源装置包括由第一方面或第二方面[0015]图3描绘了整体光刻的示意性表示，表示了三种关键技术之间的协作以优化半导[0016]图4描绘了用作量测装置的散射测量设备的示意性概况，该散射测量设备可以包[0017]图5描绘了水平传感器设备的示意性概况，该水平传感器设备可以包括根据本发[0018]图6描绘了对准传感器设备的示意性概况，该对准传感器设备可以包括根据本发6[0025]图13示出了根据实施例的使用由例如如图12所示的方法生产的预成型件生产PCF反射镜阵列和可编程LCD阵列。[0032]光刻设备LA可以是其中衬底的至少一部分可以被具有相对较高的折射率的液体7制系统SCS控制，该监督控制系统SCS也可以(例如经由光刻控制单元LACU)控制光刻设备[0037]为了使由光刻设备LA曝光的衬底W正确且一致地曝光，期望检查衬底以测量图案8回路以确保由光刻设备LA执行的图案化停留在过程窗口内。过程窗口限定了过程参数范围能半导体器件典型地在该过程参数范围内，光刻过程或图案化过程中的过程参数被允许变化。全部内容并入本文中。上述散射仪可以使用来自软x射线并且对于近IR波长范围可见的光9[0046]在散射仪MT的一个实施例中，散射仪MT适于通过测量反射光谱和/或检测构造中且可以被形成在晶片上基本相同的位置处。散射仪可以具有例如在共同拥有的专利申请目标的周期性结构的两个层之间的重叠误差的其他示例可以在PCT专利申请公布号WO2011/012624或美国专利申请US20160161863中被找到，通过引用将所述专利申请的全部设计布局的功能部分更加类似，使得总体过程参数测量更好地类似于设计布局的功能部[0049]使用具体目标的光刻参数的总体测量质量至少部分地由用于测量该光刻参数的和公开的美国专利申请US2016/0370717A1中描述了更多示例，通过引用将所述美国专利[0050]在图4中描绘了诸如散射仪之类的量测设备的一个示例。它包括将辐射投影到衬例如通过严格耦合波分析和非线性回归或通过与图3的底部所示的模拟光谱库进行比较，[0051]经由量测目标进行的测量而对光刻参数的总体测量质量至少部分地由用于测量一个准则可以是例如测量参数中的一个测量参数对处理变化的灵敏度。在美国专利申请US2016_0161863和公开的美国专利申请US2016/0370717A1中描述了更多示例，通过引用[0052]用于IC制造的另一类型的量测工具为形貌测量系统、水平传感器或高度传感[0053]在图5中示意性地示出了本领域中已知的水平或高度传感器LS的示例，其仅图示外地或替代地涵盖UV和/或IR辐射和适于从衬底的表面反射的任何波[0054]投影光栅PGR为包括周期性结构的周期性光栅，所述周期性结构产生具有周期性[0057]投影单元LSP和/或检测单元LSD可以包括沿着投影光栅PGR与检测光栅DGR之间的[0060]例如在都以引用的方式并入的US7265364和US7646471中公开了一般类型的各种器来检测和辨别光栅图像的位置而无需检测光栅的紧当前光刻设备中的对准传感器的示例基于如在US6961116中所描述的自参考干涉仪。已开[0063]图6是诸如例如US6961116中所描述的且以引用的方式并入的已知对准传感器AS光电探测器可以包括传感器阵列。[0065]在这个示例中包括点反射镜SM的转向光学器件也可以用于阻挡从标记反射的零[0066]强度信号SI被供应给处理单元PU。通过对在块SRI中进行的光学处理与在单元PU[0067]所图示的类型的单个测量仅将标记的位置固定在对应于所述标记的一个节距的稳固地且准确地安装至参考框架，同时在与衬底W的移动方向相对的方向上有效地扫描标记AM。通过将衬底W安装于衬底支撑件以及通过控制所述衬底支撑件的移动的衬底定位系支撑件上的标记的位置的测量允许对如由位置传感器所确定的衬底支撑件的位置进行校用于通过提供合适的非线性介质来实现和/或改[0074]可以设计多种类型的HC_PCF，其各自基于不同的物理引导机制。这样的两种HC_HC_PCF的设计和制造上的细节可以在以引用的方式并入本文中的美国专利US2004/地，多个反谐振元件被布置成将传播通过光纤OF的辐射主要限制在中中空芯部部HC内部，使得光纤OF的轴线也可以限定光纤OF的中中空芯部分布在内支撑部分SP的内表面周围。六个毛细管CAP可以被描述为以大致六边形的形式设PRS或能够产生期望的长度和能量水平的短脉冲的任何其它类型的源；具有中中空芯部部明窗口TW2至少对于设备120的宽带输出辐射O纤OF可以包括配置成接收输入辐射IRD的第一端部区段和用于输出宽带输出辐射ORD的第被配置成对于宽带输出宽带辐射ORD为透明的。第一贮存器和第二贮存器也可以包括可可的一个或更多个特征）视为提供用于提供光纤OF的中中空芯部部HC内的工作介质WM的设[0096]第一透明窗口TW1和第二透明窗口TW2两者可以在贮存器RSV的壁内形成气密密同于贮存器RSV的环境压力的压力被容纳在贮存[0098]在一个实施方案中，工作介质WM可以至少在接收用于产生宽带输出辐射ORD的输化辐射强度。光纤OF内部的辐射强度可以例如归因于所接收的高输入辐射强度和/或归因[0100]使用中中空芯部部HC光纤OF的优势可以是在光纤OF内部引导的大部分辐射受限[0101]所接收的输入辐射IRD可以是电磁辐射。输入辐射IRD可以作为脉冲辐射被接[0103]输出辐射ORD的宽带范围可以是连续范围，包括辐射频率的连续范围。输出辐射和/或消除所测量的性质的频率依赖性。超连续谱输出辐射ORD可以包括例如在100nm至4000nm的波长范围内的电磁辐射。宽带输出辐射ORD频率范围可以是例如400nm至900[0104]由脉冲式泵浦辐射源PRS提供的输入辐射IRD可以是脉冲式的。输入辐射IRD可以包括在200nm与2μm之间的一个或更多个频率的电磁辐射。输入辐射IRD可以例如包括具[0106]由辐射源RDS提供的宽带输出辐射ORD可以具有至少1W的平均输出功率。平均输化硅）预成型毛细管和间隔件首先被堆叠在一起以形成堆叠组件。将堆叠组件插入到大的如约1m。图10的(b)示出了从图10的(a)所示的示例预成型件拉制的示例坯棒的横截面图以被以连续的方式拉制为100米的光纤。在其最终形式中，HC_PCF的外径可以减小到例如显而易见的，其中在图10的(c)中所示的拉制光纤的每个毛细管CAP_3的外径与支撑部分gggg[0118]具有厚度不同或不均匀的毛细管壁部WP的HC_PCF会导致谐振峰变宽，而不是尖光谱延伸到UV（例如200nm至900nm宽谐振会对从输入辐射IRD到谐振以下的波长区域外径和中空芯部直径之间的比率确定了光纤个预成型毛细管的直径可以例如在0.5mm和20mm之间，并且壁厚度可以例如在50μm和的每个预成型毛细管的壁厚度。毛细管的圆周的至少一部分可以是例如所述圆周的至少[0125]在实施例中，可以借助于干涉式光学传感器（例如诸如由Nirox销售的管测量系度准则是沿着预成型毛细管的至少圆周部分的壁厚度相对于标称壁厚度的变化不超过最变化和为200μm的标称壁厚度限定了一个壁厚度范围，该壁厚度范围的最大厚度值通过[0130]在实施例中，可以基于多个预成型毛细管的所测量的壁厚度来确定标称壁厚个预成型毛细管确定所识别的壁部是否涵盖了对应的预成型毛细管的圆周的期望百分比。管的其中所测量的壁厚度相对于标称壁厚度的变化不超过最大厚度变化的部分面向玻璃所选择的预成型毛细管被定向为使得所选择的预成型毛细管中的每个预成型毛细管的其中所测量的壁厚度相对于标称壁厚度的变化不超过最大厚度变化的所述部分面向堆叠组的壁厚度相对于标称壁厚度的变化不超过最大厚度变化的所述部分面向玻璃管的纵向轴细管的其中所测量的壁厚度相对于标称壁厚度的变化不超过最大厚度变化的所述部分的度并且面向玻璃管的纵向轴线的壁部的外表面雕的单环布置（例如如图7所示其中光纤的毛细管壁厚度的变化可以例如小于总平均壁厚处理信息的处理器1404（或多个处理器1404和1405）。计算机系统1400还包括主存储器者平板或触摸板显示器，以用于向计算机用户显示信息。包括字母数字键和其他键的输入装置1414被耦合至总线1402，以用于将信息和命令选择传递给处理器1404。另一类型的用[0145]响应于处理器1404执行主存储器1406中所包含的一个或多个指令的一个或多个[0147]在将一个或多个指令的一个或多个序列携带到处理器1404以供执行时可以涉及[0148]优选地，计算机系统1400还包括被耦合至总线1402的通信接口1418。通信接口1418提供到网络链路1420的双向数据通信耦合，该网络链路1420被连接至本地网络14以提供本文描述的一种或多种技术。接收到的代码可以在被接收到时由处理器1404执行，计算机系统1400可以获得载波形式的应[0154]沿着预成型毛细管的圆周的至少一部分在一个或多个轴向位置处测量所述多个是沿着预成型毛细管的至少圆周部分的壁厚度相对于标称壁厚度的变化不超过最大厚度毛细管的至少一个环形布置的PCF预成型件；其中所选择的预成型毛细管被定向为使得所选择的预成型毛细管中的每个预成型毛细管的其中所测量的壁厚度相对于标称壁厚度的毛细管的其中所测量的壁厚度相对于标称壁厚度的变化不超过所述最大厚度变化的所述[0160]将所插入的预成型毛细管定向为使得所插入的预成型毛细管的其中所测量的壁厚度相对于标称壁厚度的变化不超过所述最大厚度变化的所述部分面向所述玻璃管的纵[0170]10.根据任一前述条项所述的方法，其中，所述圆周部