CN119491194A 一种改善靶材磁控溅射厚度和均匀性方法的设备 （芯微半导体(南宁)有限公司）

一种改善靶材磁控溅射厚度和均匀性方法一种改善靶材磁控溅射厚度和均匀性方法的设2相配合的定位孔。34[0002]磁控溅射镀膜技术凭借其高速、低温两大优点在真空镀[0004]为解决上述问题，本发明提出了一种改善靶材磁控溅射厚度和均匀性方法的设内转动连接有旋转盘,真空腔体内设置有与旋转盘相配合的第一旋转机构；旋转盘上固接有多个固定控制块,固定控制块上均设置有基板,固定控制块上均设置有与相对应基板相配合的角度调节机构；真空腔体内设置有靶材固定盘,靶材固定盘位于其中一个基板上方接有一对与靶材安装槽相配合的靶材定位块,靶材定位块内设置有与靶材固定盘相配合的一同轴齿轮,固定控制块内转动连接有多个第二主动齿轮,第二主动齿轮分别于相对应的5轮和第一内齿轮,第一内齿轮与第一主动齿轮相啮合；连接防护腔内转动连接有一对第一旋转小齿轮,第一旋转小齿轮均与第一内齿轮相啮合，第一旋转小齿轮均同轴固接有应的靶材安装槽相配合；当同一个靶材固定盘上的靶材限位块与靶材安装槽侧面贴合时，两个靶材限位块另一端靶材安装槽圆心之间的夹角不大于180°。1、角度调节机构的设置有效解决了现有技术中因为靶材或者基片平整度导致的[0015]3、溅射腔的直径不小于基板的直径的设置保证了轰击的直线运行分子可覆盖整6[0029]一种改善靶材磁控溅射厚度和均匀性方法的设备；包括真空腔体1和连接防护腔接有多个固定控制块10,固定控制块10上均设置有基板9,固定控制块10上均设置有与相对应基板9相配合的角度调节机构；真空腔体1内设置有靶材固定盘21,靶材固定盘21位于其中一个基板9上方并与其同心对应；连接防护腔2内设置有与靶材固定盘21相配合的第一[0030]角度调节机构包括固定控制块10内多个同轴转动连接的第一同轴齿轮19,固定控制块10内转动连接有多个第二主动齿轮20,第二主动齿轮20分别于相对应的第一同轴齿轮15,基板9下方同轴固接有连接固定块1[0031]第一升降机构包括连接防护腔2内转动连接的第一主动齿轮8和第一内齿轮7,第一内齿轮7与第一主动齿轮8相啮合；连接防护腔2内转动连接有一对第一旋转小齿轮6,第一旋转小齿轮6均与第一内齿轮7相啮合，第一旋转小齿轮6均同轴固接有升降螺柱5,连接小齿轮6转动可通过升降螺柱5带动磁控控制器3和固定螺套4进行滑动，磁控控制器3滑动7[0033]一种改善靶材磁控溅射厚度和均匀性方法的设备；包括真空腔体1和连接防护腔置有与旋转盘11相配合的第一旋转机构；旋转盘11上固接有多个固定控制块10,固定控制块10上均设置有基板9,固定控制块10上均设置有与相对应基板9相配合的角度调节机构；真空腔体1内设置有靶材固定盘21,靶材固定盘21位于其中一个基板9上方并与其同心对[0034]角度调节机构包括固定控制块10内多个同轴转动连接的第一同轴齿轮19,固定控制块10内转动连接有多个第二主动齿轮20,第二主动齿轮20分别于相对应的第一同轴齿轮15,基板9下方同轴固接有连接固定块1[0035]第一升降机构包括连接防护腔2内转动连接的第一主动齿轮8和第一内齿轮7,第一内齿轮7与第一主动齿轮8相啮合；连接防护腔2内转动连接有一对第一旋转小齿轮6,第一旋转小齿轮6均与第一内齿轮7相啮合，第一旋转小齿轮6均同轴固接有升降螺柱5,连接[0037]第一旋转机构包括真空腔体1内转动连接的第一旋转蜗杆13和第一旋转蜗轮12,第一滑动盘25两侧；活动拉杆27外套接有复位弹簧26,复位弹簧26一端与第一滑动盘25固8间的夹角不大于180°。便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、9