CN119506797A 用于制备多层光学渐变结构的控制组件及方法 （上海大学）

用于制备多层光学渐变结构的控制组件及一种用于制备多层光学渐变结构的控制组个或多个光栅结构区域；提供至少两种靶源材述控制组件置于所述靶源材料和所述基板之间源材料相对于第一通孔和第二通孔的位置在所述光栅结构区域的任一区域上形成至少两层材料层，且每层材料层的厚度沿目标方向逐渐减一通孔指向形成所述材料层所采用的第二通孔2具有预设间距的第一控制板和第二控制板；所述第一控制板包括至少两个第一通孔，所述控制组件用于在所述第二通孔内沉积形成所述多层光学渐变结构为形成所述材料层所采用的第一通孔指向形成所述材料层所采用的第二3.如权利要求1或2所述的一种用于制备多层光学渐变结构的控制组件，其特征在于，所述多层光学渐变结构中第a层材料层的厚度T(x,y,ta)的计算公式被提供权利要求1~6任一项所述的控制组件，并将所述控制组件置于所述靶源材料和所通过调整所述靶源材料相对于第一通孔和第二通孔的位置在所述光栅结构区域的任3为形成所述材料层所采用的第一通孔指向形成所述材,x1提供权利要求1~6任一项所述的控制组件，并将其置于所述靶源材料和所述基板之间在所述光栅结构区域上形成第一层材料层，并基于所述第4[0002]衍射光波导作为增强现实技术领域重要的光学元件之一，具有较大的眼动范围、栅和/或所述耦出光栅的深度沿着光线传输的方向逐渐[0007]可选的，所述多层光学渐5为第a层材料层的沉积速率；所述控制组件用[0008]可选的，沿第二控制板表面的方向上所述第二通孔具有时形成对应所述转折光栅结构和所述耦出光栅结构的所述述目标方向为形成所述材料层所采用的第一通孔指向形成所述材料层所采用的第二通孔料中心至基板表面的距离；mx1为第一通孔区域第二通孔区域中在y轴的左侧临界坐标值;ux2为第二通孔区域中在y轴的右侧临界坐标值，uy2为第二通孔区域中在y轴的右侧临界坐标值。6第一层光栅结构表面形成第二层材料层，并基于所述第二层材料层形成第二层光栅结构，创建出一种厚度逐渐变化且相邻层折射率不同的光学渐变结构，以达到所预期的光学效来改善所形成的光学渐变结构的显示外观，并调制光学渐变结构在不同位置处的衍射效[0018]图1和图2是本发明一实施例中用于制备多层光学渐变结构的控制组件的结构示7图13和图14是本发明另一实施例中用于制备多层光学渐变结构的控制组件的结图17至图19是本发明另一实施例中用于制备多层光学渐变结构的控制组件的结结构的显示外观，尤其是在不同的光学渐变结构区域光栅结构区域间不易出现突变条纹，[0024]图1和图2是本发明一实施例中用于制备多层光学渐变结构的控制组件的结构示用于制备多层光学渐变结构的控制组件包括：具有预设间距的第一控制板101和第二控制8所述控制组件用于在所述第二通孔105内沉积形成光学渐变结构，所述光学渐变成所述材料层所采用的第一通孔指向形成所述材料层所采用的第二通孔105的方向，材料在沉积形成所述材料层时依次通过所述第一通孔和所述[0026]所述第一通孔的数量大于所述第二通孔105的数量。根据需要形成的材料层的层二通孔内同时形成对应所述转折光栅结构和所述耦出光栅结构的所[0030]在本实施例中，两个所述第一通孔分别标记为1041和1042，两个标记为1041和1042的第一通孔呈一行或一列排列，每一个第一通孔投影于所述第二控制板102上的投影孔105设置于所述两个第一通孔1041和1042之间的位置，以确保每一个第一通孔在第二控[0032]在本实施例中，标记为1041和1042的两个第一通孔分别具有第一中心线L11和制板101和所述第二控制板102，所述第一控制板101和所述第二控制板102通过连接部103[0036]在本实施例中，所述第一通孔投影于所述第二控制板102上的投影范围与所述第中心线与至少一个第二通孔105整体的中9任一个所述第一通孔的中心线与任一个所述第二通孔105的中心线L2不重合。以精确控制述第二通孔105内形成所预设的厚度变化的控制组件，将所述控制组件设置于所述靶源材料和所述基板200之间，所述第二控制板102与所述基板200邻近；通过调整所述靶源材料相对于第一通孔和第二通孔105的位置在所述光栅结构区域的任一区域上形成至少两层厚度依次增加或减少[0057]所述第一孔径R1为所述第一通孔的最大尺寸，所述第二孔径R2为所述第二通孔[0063]所述第二控制板102与所述基板200邻近，所述第一通孔与所述靶源材料202相对所述第二通孔105与单个的所述光栅结构区域2[0068]所述第二通孔105与所述光栅结构区域201相对应，所述第二通孔105的形状和面[0069]所述材料层的材料包括无机介质材料或金属材料，所述无机介质材料包括氧化形成所述第一层材料层2031所采用的第一通孔1041指向形成所述第一层材料层2031所采形成所述第二层材料层2032所采用的第一通孔1042指向形成所述第二层材料层2032所采述第一层材料层2031和第二层材料层2032构成的光学渐变结构材料层的厚[0082]在本实施例中，所述第一层材料层2031和第二层材料层2032材料的折射率不的相对位置，调整所述光栅结构区域201上各个位置的材料层的厚度的具体过程请参考图述坐标系（x,y）的纵坐标y为所述材料层表面任一点在垂直于基板200表面的方向上的厚[0089]在本实施例中，所述靶源材料202中心至基板200表面的距离h=H+d1+靶源材料与为第a层材料层的沉积速率；所述控制组件用[0094]具体地，材料层的厚度变化趋势为沿第一通孔中心线L1到第二通孔105中心线L2界坐标值，my2为第一通孔区域中在y轴的右的左侧临界坐标值，uy1为第二通孔105区域中在y轴的左侧临界坐标值;ux2为第二通孔105够保证在第二通孔105内形成所需要的厚度连续变化的[0100]在沿第一通孔中心线到第二通孔105中心线L2的方向，所述材料层的厚度逐渐减[0102]请参考图12，以所述图形化的掩膜层210为掩膜刻蚀所述第二层材料层2032和第一层材料层2031，在基板200上形成光学渐变结构，所述光学渐变结构包括第一层光学层料层的过程在基板200上形成光学渐变结构，所述光学渐变结构具有两层不同折射率的光[0106]图13和图14是本发明另一实施例中用于制备多层光学渐变结构的控制组件的结[0108]在本实施例中，三个所述第一通孔分别标记为1041、1042和1043，三个标记为二通孔内同时形成对应所述转折光栅结构和所述耦出光栅结构的所[0112]在本实施例中，每一个第一通孔投影于所述第二控制板102上的投影范围与所述第二通孔105投影于所述第二控制板102上的投影范围部分重合。即所述第二通孔105设置通孔在第二控制板102上的投影都能与部分第二通孔[0119]请参考图15，采用图13和图14中的控制组件在基板200上形成光学渐变结构材料[0120]所述光学渐变结构材料层的形成过程请参考图5和至图10中所描述的工艺步骤，[0126]请参考图16，刻蚀所述第三层材料层2033、第二层材料层2032和第一层材料层一层光学层2061上的第二层光学层2062以及位于第二层光学层2062上的第三层光学层[0129]图17至图19是本发明另一实施例中用于制备多层光学渐变结构的控制组件的结二通孔内同时形成对应所述转折光栅结构和所述耦出光栅结构的所[0135]在本实施例中，每一个第一通孔投影于所述第二控制板102上的投影范围与所述第二通孔105投影于所述第二控制板102上的投影范围部分重合。即所述第二通孔105设置一通孔在第二控制板102上的投影都能与部分第[0142]请参考图20，采用图17至图19中的控制组件在基板200上形成光学渐变结构材料[0143]所述光学渐变结构材料层的形成过程请参考图5和至图10中的工艺步骤，在此不厚度连续变化趋势相反，第三层材料层2033和第四层材料层2034的厚度连续变化趋势相料层2033和第四层材料层2034的厚度连续变化趋势料层的过程在基板200上形成光学渐变结构，所述光学渐变结构具有四层不同折射率的光表面和顶部表面的材料层的厚度逐渐增大或逐于所述光栅结构侧壁表面和顶部表面的材料层的厚度逐渐增大