半导体封装制程及其设备介绍_第1页
半导体封装制程及其设备介绍_第2页
半导体封装制程及其设备介绍_第3页
半导体封装制程及其设备介绍_第4页
半导体封装制程及其设备介绍_第5页
已阅读5页,还剩67页未读 继续免费阅读

下载本文档

版权说明:本文档由用户提供并上传,收益归属内容提供方,若内容存在侵权,请进行举报或认领

文档简介

1、半导体封装制程与设备材料知识简介 Prepare By:William Guo 2007 . 11 Update,半导体封装制程概述,半导体前段晶圆wafer制程 半导体后段封装测试 封装前段(B/G-MOLD)封装后段(MARK-PLANT)测试 封装就是將前製程加工完成後所提供晶圓中之每一顆IC晶粒獨立分離,並外接信號線至導線架上分离而予以包覆包装测试直至IC成品。,半 导 体 制 程,封 裝 型 式 (PACKAGE),封 裝 型 式,封 裝 型 式,封 裝 型 式,封 裝 型 式,封 裝 型 式,Assembly Main Process,Die Cure (Optional),Die

2、 Bond,Die Saw,Plasma,Card Asy,Memory Test,Cleaner,Card Test,Packing for Outgoing,Detaping (Optional),Grinding (Optional),Taping (Optional),Wafer Mount,UV Cure (Optional),Laser mark,Post Mold Cure,Molding,Laser Cut,Package Saw,Wire Bond,SMT (Optional),半导体设备供应商介绍-前道部分,半导体设备供应商介绍-前道部分,常用术语介绍,SOP-Standa

3、rd Operation Procedure 标准操作手册 WI Working Instruction 作业指导书 PM Preventive Maintenance 预防性维护 FMEA- Failure Mode Effect Analysis 失效模式影响分析 SPC- Statistical Process Control 统计制程控制 DOE- Design Of Experiment 工程试验设计 IQC/OQC-Incoming/Outing Quality Control 来料/出货质量检验 MTBA/MTBF-Mean Time between assist/Failure

4、 平均无故障工作时间 CPK-品质参数 UPH-Units Per Hour 每小时产出 QC 7 Tools ( Quality Control 品管七工具 ) OCAP ( Out of Control Action Plan 异常改善计划 ) 8D ( 问题解决八大步骤 ) ECN Engineering Change Notice ( 制程变更通知 ) ISO9001, 14001 质量管理体系,前道 ,后道 EOL,Wire Bond 引线键合,Mold 模塑,Laser Mark 激光印字,Laser Cutting 激光切割,EVI 产品目检,SanDisk Assembly P

5、rocess Flow SanDisk 封装工艺流程,Die Prepare 芯片预处理,ie Attach 芯片粘贴,Wafer IQC 来料检验,Plasma Clean 清洗,Plasma Clean 清洗,Saw Singulation 切割成型,SMT 表面贴装,PMC 模塑后烘烤,SMT(表面贴装) -包括锡膏印刷(Solder paste printing),置件(Chip shooting),回流焊(Reflow),DI水清洗(DI water cleaning),自动光学检查(Automatic optical inspection),使贴片零件牢固焊接在substrate上

6、,Die Prepare(芯片预处理) To Grind the wafer to target thickness then separate to single chip -包括来片目检(Wafer Incoming), 贴膜(Wafer Tape),磨片(Back Grind),剥膜(Detape),贴片(Wafer Mount),切割(Wafer Saw)等系列工序,使芯片达到工艺所要求的形状,厚度和尺寸,并经过芯片目检(DVI)检测出所有由于芯片生产,分类或处理不当造成的废品.,Wafer tape,Back Grind,Wafer Detape,Wafer Saw,Inline G

7、rinding Ball Size = y; Area = (y/2) x/(y/2) = z g/mil,等离子工艺 Plasma Process,气相-固相表面相互作用 Gas Phase - Solid Phase Interaction Physical and Chemical 分子级污染物去除 Molecular Level Removal of Contaminants 30 to 300 Angstroms 可去除污染物包括 Contaminants Removed 难去除污染物包括 Difficult Contaminants Finger Prints Flux Gross

8、 Contaminants,Oxides Epoxy Solder Mask,Organic Residue Photoresist Metal Salts (Nickel Hydroxide),Plasma Clean March AP1000,Key Technology:,1. Argon Condition, No oxidation. 2. Vacuum Pump dust collector. 3. Clean Level : blob Test Angle 8 Degree.,Plasma,PCB Substrate,Die,+,+,+,+,+,+,+,+,+,+,+,Elect

9、rode,+,Ar,Well Cleaned with Plasma, 80 o, 8 o,Organic Contamination vs Contact Angle,Water Drop,Chip,Chip,Mold(模塑) To mold strip with plastic compound then protect the chip to prevent from damaged -塑封元件的线路,以保护元件免受外力损坏,同时加强元件的物理特性,便于使用.在模塑前要经过等离子清洗(Pre-Mold Plasma Clean),以确保模塑质量.在模塑后要经过模塑后固化(Post Mol

10、d Cure),以固化模塑料.,塑封 (Molding),Molding设备 A TOWA YPS & Y-Series B ASA OMEGA 3.8,机器上指示灯的说明: 1、绿灯机器处于正常工作状态; 2、黄灯机器在自动运行过程中出现了报警提示,但机器不会立即停机; 3、红灯机器在自动运行过程中出现了故障,会立即停机,需要马上处理。,机器结构了解正面,机器结构了解背面,CULL BOX 用来装切下来的料饼; OUT MG 用来装封装好的L/F; 配电柜用来安装整个模机的电源和PLC,以及伺服电机的SERVO PACK。,塑封 (Molding),2. Molding相关材料 A Compound 塑封胶 B Mold Chase 塑封模具,模具介绍:,模具是由硬而脆的钢材加工而成的。所有的清洁模具的工具必须为铜制品,以免对模具表面产生损

温馨提示

  • 1. 本站所有资源如无特殊说明,都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
  • 2. 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等,如果需要附件,请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
  • 3. 本站RAR压缩包中若带图纸,网页内容里面会有图纸预览,若没有图纸预览就没有图纸。
  • 4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
  • 5. 人人文库网仅提供信息存储空间,仅对用户上传内容的表现方式做保护处理,对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑,并不能对任何下载内容负责。
  • 6. 下载文件中如有侵权或不适当内容,请与我们联系,我们立即纠正。
  • 7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。

评论

0/150

提交评论