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文档简介
1、3.4双极晶体管的DC电流-电压方程。本节以基极区缓慢变化的NPN晶体管为例,推导了晶体管在发射极结和集电极结上施加任意电压时的DC电流-电压方程。e,b,c,ie,IB,IC,VCE,vbe,vbc,n,n,p,-,-,-,参考电流方向和参考电压极性如下图所示。在推导电流-电压方程时,扩散方程的解具有线性叠加的特性:边界条件1的解n1(x)和边界条件2的解n2(x)的和n1(x) n2(x)等于边界条件2的解n(x)。,3.4.1集电极结短路时的电流,其中IES表示发射极结反向偏置且集电极结零偏置时的发射极电流,相当于单发射极结构形成的PN结二极管的反向饱和电流。因此,当发射极结处于随机偏置
2、,集电极结处于零偏置时,我们可以得到晶体管三个电极的电流。3.4.2发射极结短路时的电流。如果晶体管的发射极区域被认为是“集电极区域”,我们可以得到反向应用的晶体管,这被称为反向晶体管。发射极结短路相当于反相晶体管集电极结短路,因此本节晶体管的偏置状态相当于前一节反相晶体管的偏置状态。因此,可以得到,在公式中,当集电极结被反向偏置并且发射极结被零偏置时,ICS表示集电极电流,这相当于由单个集电极结组成的PN结二极管的反向饱和电流。代表倒相管的共基DC短路电流的放大系数,它通常比。3.4.3晶体管的DC电流-电压方程,因为在三个电流中满足IE=ic1b,所以三个电流中只有两个是独立的。如果选择I
3、E和IC,则在上述两种偏置条件下,通过将电流相加,可以得到共基DC电流-电压方程,也称为“埃尔伯莫尔方程”,并且当任何电压施加到发射极结和集电极结时,可以得到晶体管的DC电流-电压方程。(3-59b)、(3-59a),如果选择IB和IC,则得到共发射极DC电流和电压的方程。前向管和后向管之间有一个互易关系,即(3-60),3.4.4晶体管的输出特性,共基极输出特性:以输入端的IE为参数,集成电路和VBat输出。可以通过从共基DC电流-电压方程中消除VBE来获得共基输出特性方程、E、B、C、IE、ic、VBC、N、N、P、-、B,当VBC=0时,在放大区域中,VBC为0,并且当、其中、共基输出特
4、性曲线、共发射极输出特性:在输出端的IC和VCE之间的关系,其中在输入端的IB作为参数变量。共发射极输出特性方程可以通过从共发射极DC电流电压方程中消除VBE来获得、E、C、B、P、IB、ic、N、E、VCE、N,其中,或,当VBC=0或VBE VCE时,当放大时,ICEO代表当基极开路(IB=0)且集电极反向偏置(VBC 0)时从发射极穿透到集电极的电流,这被称为共发射极反向截止电流或共发射极穿透电流。共发射极输出特性曲线,在图中,虚线表示VBC=0,或VCE=VBE,即放大区和饱和区之间的边界。在虚线的右侧,VBC VBE是放大区域;在虚线的左侧,VBC 0或VCE VBE是饱和区域。3.
5、4.5基极宽度调制效应,在共发射极放大区,理论上,集成电路与VCE无关。然而,在实际的晶体管中,集成电路会随着VCE的增加而略有增加。原因是当VCE增加时,集电极结反向偏压(VBC=VBE VCE)增加,集电极结耗尽区变宽,中性基极区宽度变窄,基极区少子浓度分布梯度增加,从而增加了集成电路。这种现象被称为基底宽度调制效应,也称为早期效应。,WB,WB,WB,x,n,n,p,0,0,nb (x),当忽略基区中的少数重组和ICEO时,输入基区中的部分,即xp。其中,称为早期电压;称为共发射极增量输出电阻;是集电极结耗尽区。对于均匀的基区、或,为了减少早期效应,基区的宽度WB应该增加,并且基区中的集电
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