刻蚀工序培训.pptx

1、,全球领先的光伏一体化产品制造商和服务商,浙江晶科能源有限公司 电池制造部 培训内容：刻蚀工序 讲师：刘自龙 2010年9月9日,晶科能源有限公司,多晶电池片生产过程,原硅片,制绒,扩散,刻蚀和去磷硅玻璃,PECVD,分类检测,包装,丝网印刷 背电极,丝网印刷 背电场,丝网印刷正电极,刻蚀的目的和原理,刻蚀原理： 4HNO3+3Si=3SiO2+4NO+2H2O SiO2+6HF=H2SiF6+2H2O 去PSG（磷硅玻璃）原理：,刻蚀目的：去除边缘PN结，防止短路,什么是磷硅玻璃,在扩散过程中发生如下反应： POCl3分解产生的P2O5淀积在硅片表面， P2O5与Si反应生成SiO2和磷原子

2、。 这样就在硅片表面形成一层含有磷元素的SiO2，称之为磷硅玻璃。,Rena水平刻蚀机,1.冷水机； 5.上料台； 2.控制电脑； 6.rena柱式指示灯及其急停开关; 3.抽风管及其调节阀； 7.前玻璃窗. 4.集中供液柱式指示灯及其急停开关;,1,5,3,2,6,7,4,Rena水平刻蚀机,8.电柜； 12.排放管道； 9.后玻璃盖板； 13.自动补液槽； 10.下料台； 14.集中供液管路 ； 11.供气，供水管道； 15.传送滚轴.,8,9,10,11,12,13,14,15,生产流程,注意事项,1全过程戴口罩，完全遮住口鼻；必须戴乳胶手套或一次性手套进行操作；整个操作过程中衣服，皮肤

3、不可接触硅片。 2 每次只从传递窗里取一批片子，传递窗两 侧的门不能同时打开 3 扩散面朝上，千万不要放反 4 控制放片间距和角度，防置卡片 5 下料要挑出色差片，水痕片等,注意事项,6 发现问题要快速上报，不得私自处理 7 刻蚀后的硅片留存不能超过1h 8 必须按时还液；配液之前要把槽里的碎片清理干净，槽内严禁有锈迹和有机物 9 严禁有金属及其他杂质进入各槽内,否则更换槽液 10 及时清理地面的碱液或酸液 11 提高安全意意识,注意事项,12 NaOH、HCl、HF都是强腐蚀性的化学药品，其溶液、蒸汽会伤害到人的皮肤、眼睛、呼吸道，所以操作人员要按照规定穿戴防护服、防护面具、防护眼镜、长袖胶

4、皮手套。一旦有化学试剂伤害了员工的身体，马上用纯水冲洗30分钟，送医院就医。,1 刻蚀液不能上涌过多 检测方法：目视，刻蚀完毕不能有黑边,工艺控制指标,发现黑边片必须挑出做返工处理 通知工艺人员解决,2 减重量符合工艺要求,检测方法： 每批取5片，分别测试刻蚀前和刻蚀后的重量并记录。 刻蚀减重量须在0.04-0.09g范围内。,工艺控制指标,发现不符合要求的硅片时： 必须马上停止该台设备的生产； 正在生产的硅片不能流入下工序； 通知工艺人员处理。,3 冷热探针测试边缘PN结去除干净,检测方法： 确认万用表工作正常，量程置于200mV。 冷探针连接电压表的负电极，热探针与电压表的正极相连。 万用

5、表显示数值小于“-30”即认为去除干净,工艺控制指标,发现不符合要求的硅片时： 必须马上停止该台设备的生产； 正在生产的硅片不能流入下工序； 通知工艺人员处理。,4 方阻上升复合工艺要求,检测方法： 每批取5片，分别测试刻蚀前和刻蚀后中心点的方阻并记录。 方阻上升必须小于6。,工艺控制指标,发现不符合要求的硅片时： 必须马上停止该台设备的生产； 正在生产的硅片不能流入下工序； 通知工艺人员处理。,刻蚀间化学品的种类,刻蚀间主要使用的化学的种类有：,HF(氢氟酸）,HNO3（硝酸）,NaOH（氢氧化钠）,H2SO4（硫酸）,氢氟酸 HF,特性： 无色透明至淡黄色冒烟液体、有刺激性、挥发性气味。弱

6、酸。 危害： 对皮肤和呼吸道有强烈的刺激性和腐蚀性。溅入眼内会迅速形成白色假膜样混浊，处理不及时可引起角膜穿孔。皮肤接触会造成表皮、真皮、皮下组织乃至肌层液化坏死。吸入1.5g可导致立即死亡。吸入高浓度HF酸雾，引起支气管和出血性肺水肿。 防护措施： 生产过程中应密闭，全面通风。手动添加时需佩戴防毒面具、长橡胶手套以及防护服。并确保该产品附近有安全淋浴及洗眼器。,特性： 无色透明至淡黄色冒烟液体、有刺激性、挥发性气味。 危害： 其蒸汽有刺激作用，引起眼和上呼吸道刺激症状，如流泪、咽喉刺激感、呛咳，并伴有头痛、胸闷等。口服引起腹部剧痛，严重者可有胃穿孔、腹膜炎、喉痉挛、肾损害、休克以及窒息。皮肤接触引起灼伤。 防护措施： 生产过程中应密闭，全面通风。手动添加时需佩戴防毒面具、长橡胶手套以及防护服。并确保该产品附近有安全淋浴及洗眼器。,硝酸 HNO3,氢氧化钠 NaOH,特性： 白色固体，强吸湿性。溶于水，并能放出大量热使可燃物着火。有强腐蚀性。 危害： 遇潮时对铝、锌、锡有腐蚀性，并放出易燃的氢气