镭雕工艺简介ppt课件.ppt

1、昆山金利商标有限公司,镭射激光雕刻工艺简介,1,一、镭射激光雕刻机的种类及适用领域,镭射激光雕刻机按其发光的原理可分为CO2激光雕刻机和半导体激光雕刻机。 CO2激光雕刻机广泛适用于木器、五金、塑胶、通讯等行业；半导体激光雕刻机广泛适用于电子、电脑、五金、通讯等行业。,我司激光雕刻机为半导体激光雕刻机，其性能指数 如下：,最大输出功率为50KW，最大雕刻范围为100*100mm，最大雕刻深度为0.3mm，重复精度为0.001mm，雕刻速度3600mm/秒,2,二、硬件介绍,镭射激光雕刻机硬件包括计算机硬件和激光发光器硬件 计算机硬件包含电源、显示器、主板、机箱、硬盘、CPU、内存条、软驱等。

2、激光发光器硬件包含主控箱、冷却水系统、Q驱动器、振镜驱动器、电流控制器、激光聚光腔、镜头、作业平台、脚踏开关等。 三、软件介绍 镭射激光雕刻机软件包括计算机操作系统(Windows98和其它版本)和雕刻软件Hans laser2000。该雕刻软件可支持的文件格式有dwg、cdr等。,3,四、镭射激光雕刻机的调试,镭射激光雕刻机雕刻效果主要从以下几个方面进行调试： 电流强度 焦距 参数 电流强度对雕刻效果的影响 电流强度大，雕刻深度深、字体线条粗； 电流强度小，雕刻深度浅、字体线条细； 雕刻金属材料时，电流强度大，一般在10以上； 雕刻非金属材料时，电流强度小，一般在9.5-10左右，尢其是雕刻

3、透光按键时电流强度一般都在9.8左右。,4,电流强度对雕刻非金属材料有很大影响，电流太大会破坏产品表层如：烧焦、雕刻面起泡等；太小图案会不清晰、无深度。 焦距对雕刻效果的影响 焦距的定义：激光发光镜头与被雕刻面之间的垂直距离，一般为17.8-18cm之间。 被雕刻面离焦点近，激光能量大、雕刻深度深、字体线条细； 被雕刻面离焦点远，激光能量小、雕刻深度浅，字体线条粗； 雕刻金属材料时，一般离焦点要近 雕刻非金属材料时，一般可偏离焦点，尢其是雕刻透光按键时，一定要偏离焦点3-5mm 。,5,参数的调整对雕刻效果的影响 下图为激光雕刻软件中参数调整对话框，以下将重点描述参数的意义、作用及调整其相应的

4、参数对雕刻效果的影响。 有效矢量步长 太大：雕刻出的笔画不够精细、 稀疏、无深度、雕刻速度度快； 太小：雕刻出的笔画精细、致密、 有深度、雕刻速度慢； 默认值：0.01mm 使用范围：0.001-0.018mm 备注：调整该参数可以明显改变 雕刻的速度、精度和深度。,6,有效矢量步间延时 太大：雕刻出的笔画精细、致密、有深度、雕刻速度慢； 太小：雕刻出的笔画不够精细、稀疏、 无深度、雕刻速度快； 默认值：20us 建议值：8-40us跳转延时 跳转延时 太大：振镜已充分转到，并停滞一段时间后才处理下一个笔画，增加雕刻时间； 太小：振镜还未充分转到，PC就开始处理下一个笔画，笔画开始的地方会出现

5、散点； 默认值：2000us 使用范围：300-2000us 激光开延时 太大：振镜往前走得太多激光才打开，笔画的开始会不够长；,7,太小：振镜往前走得太少激光才打开，笔画开始点会出现重点； 默认值：2 step 使用范围：1-15 step 备注：调整该参数可以减小首发重点问题。 激光关延时 太大：振镜已充分转到，并停留一段时间后激光才关闭，笔画末尾 点会形成重点，增加打标时间。 太小：振镜还示充分转到，激光就关闭，笔画的末尾不够 默认值：1000us 使用范围：200-1000us 备注：高速该参数可以减小笔画末尾重点的问题。 拐弯延时： 太大：振镜已充分转到，并停留一段时间后PC才处理,

6、8,画的下一线段，拐弯点会形成重点， 增加打标时间； 太小：振镜还未充分椟到，PC就开 始处理笔画的下一线段，拐弯的地 方会出现圆弧； 默认值：5us 使用范围：3-6us 备注：该参数一般不作调整。 空矢量步长： 太大：空笔画处理时间短，雕刻时 间减少，但会出现笔画相连的情况； 太小：空笔画处理时间长，雕刻时 间增加； 默认值：0.03mm 使用范围：0.03-0.08mm 空矢量步间延时：,9,太大：空笔画处理时间长，雕刻时间增加； 太小：空笔画处理时间短，雕刻时间减少，但会出现笔画相连的情况； 默认值：20us 使用范围：6-20us Q频率： 太大：聚能时间短，能量弱，雕刻出的点致密； 太小：聚能时间长，能量强，雕刻出的点稀疏； 默认值：3KHZ 使用范围：2-20KHZ 备注：调整该参数可以明显改变精度和深度 Q释放时间 默认值：8us 使用范围：3-30us(一般效果的数值调整与Q频率的乘积为24左右),10,五、效果调试方法,提高精度 有效矢量步长减小 有效矢量步间延时增加 Q频率增加 增加深度 有效矢量步长减小 有效矢量步间延时增加 Q频率减小 电流增加 提高雕刻速度 有效矢量步长增加