LED外延、芯片生产线项目环境影响报告书简本.doc

陕西新光源科技有限责任公司led外延、芯片生产线项目环境影响报告书（简 本）西安市环境保护科学研究院二一四年一月目 录1、建设项目概况11.1 项目概况11.2 项目建设内容11.3本项目与西安半导体产业园的依托关系41.4 与相关产业政策符合性分析41.5工业园规划相符性与项目选址可行性分析42 环境质量现状评价52.1空气环境质量现状监测与评价52.2 声环境质量现状监测与评价53 建设项目对环境可能造成的影响53.1施工期污染源分析53.2 环境影响预测分析64 环境风险评价85 公众参与96环评结论97 联系方式及公众参与91、建设项目概况1.1 项目概况项目名称：陕西新光源科技有限责任公司led外延、芯片生产线项目建设性质：新 建行业类别：c 3962半导体分立器件制造建设地点：西安高新区建设单位：陕西新光源科技有限责任公司1.2 项目建设内容1.2.1建设规模及内容项目总投资为1.5亿元，拟建设外延片生产线和大功率芯片生产线，同时将建设一个封装验证平台及配套的测试平台，以及相应的生产办公条件。项目年产垂直结构专用外延片13.5万片（2寸）和大功率垂直结构芯片180kk。外延片经过清洗、光刻、蚀刻等工艺制成芯片。同时将建设一个封装验证平台及配套的测试平台，以及相应的生产办公条件。现项目厂房部分已隔断、装修完毕，设备正在组装中。项目组成详见表1.2-1。表1.2-1 项目组成与工程建设内容项目组成主要建设内容主体工程项目租用西安半导体产业园已建的103号建筑一层，总建筑面积7209.3 m2。建设2套mocvd的外延片生产线和年产13.5万片的大功率芯片生产线，同时将建设一个封装验证平台及配套的测试平台。辅助工程办公区项目对厂房内部进行隔断设立办公区建筑面积873m2。设有技术部、会议室等办公用房。 动力区项目对厂房内部进行隔断设立动力区建筑面积1296m2。新建变配电室、氨气纯化间、氢氮纯化间、硅烷特气间、其它特气间、纯水站、空调机房等。公用工程给水依托于西安半导体产业园，产业园采用市政自来水作为水源排水排入产业园园区污水管道，进入园区污水处理站处理供电产业园统一供电，园区设变压器供热自建集中空调通风局部自建有排风风扇电讯电话、网络消防火灾自动报警系统和消防喷淋系统储运工程物料储存硅烷、氦气、一氧化二氮等特殊气体特气钢瓶临时储存于厂房内北侧自建特气库房内。待半导体产业园建筑面积588.54 m2的特气库房建成后存放于该库房内。氢气、氨气和氮气氢气临时储存于厂房内北侧自建特气库房内。待半导体产业园建筑面积370.14m2的氢氧站建成后存放于该站内。在103建筑西侧空地临时自建一20 m3液氮储罐，待半导体产业园建筑面积1010.78m2的氮气站建成后存放于该站内；液氨储罐临时储存于厂房北侧自建氨气储存区，待半导体产业园氨气储存区建成后，存放于园区，接管至103建筑一层氨气纯化间供本项目用气设备使用。酸碱等化学品酸碱等化学品临时存储于厂房内西侧自建库房内，待园区危险化学品库建成后放入其内。运输项目委托有资质的专业公司运输，采用全封闭式汽车运输。 环保工程废水厂房内自建废水收集系统，经收集后排入园区污水管网，污水收集后排入园区污水处理站处理后排入西安市第七污水处理厂。生活污水依托于园区化粪池处理，处理后排入西安市第七污水处理厂。废气酸碱废气通过收集装置进入自建的酸碱吸收塔，经喷淋装置收集，收集后剩余硫酸雾通过楼顶29米高排气筒外排。有机废气经自建活性炭吸附塔处理。氨气通过自建收集装置燃烧后经喷淋装置处理。固废废酸废碱、高浓度有机废水交有资质单位回收利用。废活性炭、废干燥剂、树脂、r/o膜交有资质单位回收。生活垃圾由环卫部门统一清运，卫生填埋。噪声生产过程中泵机等噪音使用减振底座、隔声罩。1.2.2产品性能主要技术经济指标见表1.2-2。表1.2-2 主要技术经济指标表序号名 称单位数量备 注1生产大纲外延片万片/年13.5大功率垂直结构芯片kk1802所需人员人141生产员工111人3项目总建筑面积m27209.3其中办公区建筑面积873 m24项目总投资万元150001.3本项目与西安半导体产业园的依托关系本项目所需能源有水、电、蒸汽。园区有配套的自来水管网、市政蒸汽管网及高压变配电站，可直接接入本项目厂房内使用。园区现污水处理厂一期日处理量830m3建设完成，正在进行二期建设。给水基础建设已经完成，接市政管网的自来水。供热基础建设已经完成，接高新区热力公司的蒸汽。 西安半导体产业园已做环评陕西电子信息集团半导体产业园基础设施建设项目环境影响报告书，取得环评批复，批复文号市环发【2009】299号，园区尚未完全建成，没有进行环保验收。园区环评批复主要环保要求如下：须自建污水处理站，对项目运行后的含氟污水、酸碱污水及高浓度有机污水进行预处理达标后，再排入高新区市政污水管网。水处理站应加装污水排放在线监测装置，确保生产废水经处理后稳定达标排放。污水处理站产生的含氟污泥必须按照国家及陕西省有关危险废物处置规定，收集后送厂区危险废物贮存设施临时贮存，危险废物贮存设施必须采取防渗、防雨和防散失措施，最终送有资质单位进行安全处置。产业园污水处理站边界距距居民居住区的大气环境防护距离大于150m，在此范围内禁止新建居民区、医院等大气环境敏感建筑。按环评要求制定可操作性强的事故应急预案并定期演练。应建设污水处理应急池300m3和氨气间独立排水系统，一旦发生氨气泄漏事故，必须及时、有效的处置事故，减轻事故对外环境的影响。1.4 与相关产业政策符合性分析拟建项目年产垂直结构专用外延片13.5万片（2寸）和大功率垂直结构芯片180kk。属于发改委发布的产业结构调整指导目录2011年的鼓励类项目名录（第二十八项：信息产业，42条，半导体照明衬底、外延、芯片、封装机材料；），不属于陕西省工业结构调整指导目录的限制发展的名录。1.5工业园规划相符性与项目选址可行性分析本项目位于西安高新区西安半导体产业园，该园区环评已获得批复（市环发【2012】120号），尚未进行环保验收。环评批复主要要求为：所有入区项目，要在规划的的功能区内建设，并符合国家产业政策、工业园区的行业准入和环保准入条件；园区应以发展高新技术产业为主，鼓励发展信息产业、电子及通信设备制造业等水污染物排放量小的行业。园区引进项目须对酸碱废气、有机废气分类收集并设置酸碱废气及有机废气处理系统，减少无组织排放，使工艺废气达标排放；对引进企业采取合理的隔声、减震、消声、吸声措施做好防治并合理布置厂区平面布置图，是企业噪声满足3类区标准要求；要加强风险防范，做好污水池、污水管网、固体废物贮存场地等防渗工作，防止地下水污染。本项目为led外延、芯片生产，项目拟建地供水、供电设施齐备，废水经园区污水处理站处理达标后排入西安市第七污水厂集中处理；厂界噪声达标；所有固废均得到有效处置。项目符合园区环保规划要求，从环保角度考虑，该项目选址是合理的。2 环境质量现状评价2.1空气环境质量现状监测与评价评价区内各监测点的二氧化硫so2（小时浓度值、日均值）、二氧化氮no2（小时浓度值、日均值）现状监测值均符合环境空气质量标准（gb3095-2012）中的二级标准；可吸入颗粒pm10（日均值）均超过环境空气质量标准（gb3095-2012）中的二级标准，超标率达到100%；氯化氢hci、氯气ci2、硫酸雾h2so4和氟化物日均值，氨的一次值均符合工业企业设计卫生标准（tj36-79）居住区大气中有害物质的最高容许浓度；总挥发性有机物的8小时均值小于室内空气质量标准（gb/t1883-2002）表1中的室内空气质量标准。综上所述，项目评价范围内环境空气质量较好。2.2 声环境质量现状监测与评价根据监测结果，监测点除西三环x5外，其余4个监测点昼、夜间现状监测值均符合声环境质量标准（gb3096-2008）中3类标准。由于x5点紧邻西三环，受交通噪声影响较大，导致昼夜噪声均超标。3 建设项目对环境可能造成的影响3.1施工期污染源分析 项目使用西安半导体产业园已建成厂房，对内部进行了隔断装修。施工期工程现已建成，现主要为设备装配，施工期污染源主要为噪声影响。3.2 环境影响预测分析3.2.1空气环境影响预测与评价(1) 最大浓度和距离分析由表7.1-3可知，本项目排放的各类污染物最大占标率均小于10%，酸雾中氟化物最大占标率为0.62%，最大浓度出现约在142m（最大落地浓度0.00000492mg/m3）；外延废气中的氨最大占标率为0.18%，最大浓度出现约在446m（最大落地浓度0.0003548mg/m3）；vocs最大占标率0.09%，最大浓度出现约在413m（最大落地浓度0.000554mg/m3）。其余点源排放的污染物远小于标准要求。无组织排放的氨最大占标率分别为0.22%。无组织排放污染物最大浓度出现距离约在102m 左右。项目所排废气污染物对当地大气污染物浓度贡献值非常小，满足标准要求，对周围环境的影响均较小。(2) 对各敏感点的影响分析项目有组织排放的污染物最大落地点浓度分别位于142m、142m、142m、446m、413m，无组织排放最大落地点浓度分别位于102m，占标率及浓度均较小，氟化物远小于gb30952012环境空气质量标准中附录a标准要求；其它特征污染物远小于tj3679工业企业设计卫生标准表1居住区大气中有害物最高允许浓度标准要求。根据调查距离本项目最近的敏感点是里花水村，距离本项目东厂界约120m。根据表7.1-3预测，最大落地点位置之前及之后的浓度均比最大落地点小，因此敏感点里花水村的污染物浓度更低，对敏感点花水村影响较小。 (3) 无组织排放污染物厂界达标排放分析根据估算模式本项目无组织排放的氨气和cl2浓度分别为0.000251mg/m3 和1.1810-7mg/m3，根据恶臭污染物排放标准（gb14554-93）和大气污染物综合排放标准（gb16297-1996），氨气和cl2无组织排放浓度厂界浓度限值分别为1.5 mg/m3和0.4 mg/m3，本项目无组织排放污染物预测浓度均远远小于标准值要求，因此本项目厂界可以做到达标排放。3.2.2水环境影响预测与评价西安市第七污水处理厂服务面积为19.7km2。主要为规划的高新技术产业开发区中的一部分。近期污水排放量预计为8万m3/d。项目生产废水、生活污水经处理后，西安半导体产业园废水总排口的排放浓度可达到污水处理厂进水水质的相应要求，可纳入污水处理厂进行处理。根据西安市的排水规划，拟建项目排水在西安市高新区污水处理厂的收水范围，污水排放量符合西安市高新区污水处理厂接纳能力，拟建项目建成后污水经总排污口进市政污水管网，汇入西安市高新区污水处理厂。3.2.3固体废物预测分析拟建项目固体废物按其来源主要分为三大类，即生产过程中产生的废液和固体废物和生活办公区产生的生活垃圾。根据工程分析，本项目固废产生量合计为111.44t/a，其中危险废物27.44t/a。危废临时存放于厂房建筑东北侧的单独房间内，由回收单位提供塑料桶（50kg装）。危废分类存放在桶内，每满25桶，由回收公司回收一次。危险废物中，废酸回用于氨气吸收塔，废boe液由厂家回收；废光刻胶、废显影液、废去胶液由厂家回收；一些废有机溶剂、废化学品包装等交由有资质的单位安全处置。办公、生活垃圾实行袋装化，由环卫部门负责统一清运。经采取以上处理措施妥善处理处置，可有效减缓项目固体废物对周围环境的不利影响。3.2.4声环境影响预测与评价本项目生产工艺设备均置于洁净厂房内，且噪声级较小。其噪声源主要是冷冻机组、空压机、真空泵、风机、水泵以及应急发电机组等辅助动力设备。工程在平面布局时充分考虑到高噪声设备的影响，将噪声源强较高的动力厂房布置于各生产厂房所围成的空间中，有效地阻碍动力厂房中噪声的传播，工程建设尽量优先选择低噪声设备，对噪声较大的房间的墙、门窗采取隔音措施，以减少室内噪声和震动的传递等措施。本项目生产线虽有部分噪声源设备，但噪声源强均较低，设备均置于室内，生产车间的通风系统通过专设屋顶风机房可使风机噪声在风机房外降至60db以下。项目厂界噪声符合gb123482008工业企业厂界环境噪声排放标准3类区标准要求，项目距离最近的环境敏感点里花水小区在项目南侧边界约120m，项目噪声源对其基本不产生影响，因此，项目设备噪声对厂界外声环境影响很小。4 环境风险评价本项目生产过程中涉及的主要易燃易爆物质为丙酮、异丙醇，有毒有害气体为氨气、三氯化硼、氯气等。在事故情况下，泄漏全部处理完毕时刻下风向近距离污染物浓度最高，污染物在泄漏点附近形成较高浓度富集区。随着时间的推移，污染物逐渐向下风向扩散，污染物影响区域向下风向推进，同时最大污染物浓度迅速下降。污染物烟团在向下风向扩散过程中，污染物浓度不断降低，随着稳定度由不稳定到稳定，污染物影响范围将逐步增大。静风时液氨泄漏10min，氨气最大落地浓度为88.5401mg/m3，最大浓度出现距离2.4m，未达到半致死浓度；10min后，最大落地浓度逐渐减小。有风时，液氨泄漏5min，最大落地浓度为233.0069mg/m3，最大浓度出现距离33.1m，未达到半致死浓度；5min后，最大落地浓度逐渐减小。静风时液氯泄漏10min，最大落地浓度为646.9642mg/m3，最大浓度出现距离2.3m，未达到半致死浓度；10min后，最大落地浓度逐渐减小。有风时液氯泄漏5min，最大落地浓度为3841.5353mg/m3，最大浓度出现距离22m，未达到半致死浓度；5min后，最大落地浓度逐渐减小。对酸、碱等腐蚀性物质容器定期进行检查，防止泄漏；按规定穿戴劳动防护用品；严格执行操作规程；严格操作规程；加强对危险化学品的使用管理；定期对作业场所的通风设备进行检修；执行危险作业时，佩戴必要的安全防护用品。储存容器质量合格；严格控制阀门、输气管道焊接质量；严格烟火管理；易燃介质储存场所选用防爆型电气设施，敷设防静电、不发火地面；储存区设置导静电措施；储存区装设可燃气体检测仪器；严格遵守危险化学品储存安全管理要求；选用质量合格的气瓶；定期校验气瓶安全阀、压力表；气瓶按规定装设防震圈、瓶帽并做好固定措施；按运输要求装设、搬运气瓶；严格控制工艺运行参数；严格气瓶间周边用火安全管理；气瓶定期检验；定期对作业场所的通风设备进行检修；执行危险作业时，佩戴必要的安全防护用