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文档简介

摘要 本论文对电感耦俞锥躺, 原予发射光潜( i c y 一) 分析中基 体钨对2 1 种分析元泰的光谱干扰、基体效应及其校正方法进行了较 为系统、深入冠研究。 在此基础上研究拟定了两种测定高纯钨中痕量杂质元素的新方 法。利用钨酸沉淀分离钨后i ( p a 璐测定的方法操作较为简便,快 速可以同时测定铷、b b 、b e 、b i 、c a 、例、c 0 、c r 、岛、k 、b 、 n a 、n i 、趾、z 等1 6 种元素,但与钨酸反应或共沉淀的、f e 、m o 、 s b 、m 、v 等元素该法难以测定。利用氢氧化铟共沉淀分离富集杂质 元素后i c p a e s 测定的方法可以同时测定a l 、e ;e 、b i 、c a 、c a 、c o 、 c r 、c u 、f e 、m g 、1 、n i 、s n 、s b 、m 、历、p b 等1 7 种元索但该法操 作较为费时,该两种方法经回收试验及实际试样分析检验,表明方 法准确度及精密度均符合要求。已用于株洲硬质合佥厂的生产样品 分析。 本文对使用不同类型仪器不分离钨基体进行直接分析的可能性 也进行了探讨。表明使用单道扫描型或全谱型仪器并应用相应校正 软件,进行直接分析是可能的,并能解决采用璜分离方法尚难以同 时测定、越、v 等元素的难题,限于仪器条件这一工作还待进一 步研究。 卞 i n es p e c t r a li m e r f e r m c 葛a n dm a t r i xe f f e c td 乜舶圆啦e n , c g lt h ed e t e r m i - n a t i o no f2 1d e m e n t sa n dc a l i b r a t i o nm e t l d st r o v eb e e ns t u d i e ds y s t e m a t i c a l l ya n dd e e p l y o n 她b a s eo fi t t w on 册l ( p a 醛f o rd e t e r m i n a d c x l 矗t r a c ei l y l 却- r i d e si nh i g hp u r i t yt u n g s t e nh a wb e e nd e v e l o p e d l e l e i h 】dw i t hs e p e r a - t i o nd 删u g hn m g s t i ca c i dp r e c i p i t a t i o ni ss i n g l e r a p i da n dc b nb eu s e df o r t h ed e t e t m i r m t k a ao fa i ,b i ,c a ,c d c o ,c r ,c u k , s n 劢i nt m a g s t e t l ,b u td 旺i 删t sl i k e 旭,f e ,m o p b ,s b 。m vc o i ln o t b ed e t e m a i n e da c c u r a t e l yb e c a u s eo ft h e i ro o p m c t p j t a t i w i t hb m g 随i ca c i d 1 h em e t h o dw i t hp r e o o n c e j a t m t i m 矗t 2 t a c ed e m e n t st h r o u g hc o p r e c i p i m d m b yi n ( 0 h ) 3c a nb eu s e df o rt h ed e t e m a h a a t i c mo f b e ,b j ,c a ,a ,c o , c r ,岛,f e :,m n 。p b 。n i 鼢s b 。m z ni nt m _ 】f f , s t e n b u tc o s t s l o i _ 1 9 e i t i m e m l e 忉dm e t _ b e d s 赋a r , p l i 。dt ot h em - m l y s i so fh 醛mp u r i t y 乜】理赋e no f z h 】矗瑚lc e m e n t e dc a r b i d ep l a n t ,】南ea c c n r a c ya n dp m c i s k m 矗t h e s e n 谢1 0 d sa i es a t i s f a c t o r yt h r 瑚聪he a f f = l e a - t r n e n t so fm m r a ya r l ( jm a 刮l y s e so fr e d s a m p l e s d i m c _ ta n a l y s i sw i t l l ,i l tl l i “xs e l l e r m i o nb y1 1 s l 嘏d 箭e r e n tk i n d s 茁i n s t _ n l l i t e l a tt i n sb 蔓1 i “i 州酞1 1 l 1 1 | 1k “书1 s ti i n ( 鼍t t m td i n x :ta n a l y s i sc a nb e m a l i z e db yu s i n gs e q u e n i _ ,t ,l f1 ”一 r 茶n i ,( 1c 、埘t _ r k h d 臻) f f a n ds o l 、,嘲 t h ep r o b l t m ao fd e t e r m m j i 鬣m ,k vh ii 蝴1 1 1 1 n t f l l l h l f rl h n l tt fc o i l l - d i f l m s t h i s 九墨e h f d ln e e d s “i1i c 、n , r k c 鬟1 “f lf u r t t 越y 1 1 前富 第一章文献综述 在元素周期表中,钨( w ) 位于第六周期v i i ) 族铬副族,属重金属元素,原 子量为1 8 3 8 5 。原子序数为7 4 。钨具有熔点高( 3 4 1 0 o ,密度大( 1 9 :3 9 c m 3 ) , 热膨胀系数及比电阻低,高温强度及硬度高等特性,广泛应用于照明、电子工 业和高温合金、高密度合金、硬质合金、合金钢的制造近年来,钨和其他商熔 点金属的合金已用作航天火箭和核工程卜的耐热材料。钨化合物主要用作某 些颜料和油漆的成份在纺织工业卜i 作加重剂。钨的杂多化合物如 n a s i w 2 , f p 一,( 卜峨) :6 q ,8 ( l j f ) :3 2 心o 具有抗病毒性,抗癌作用。磷钨、磷钨钒杂 多酸是一种再生速度快催化效果好新型的催化剂。, 我国是钨资源大国,钨矿储量和产量居世界首位。发挥我国钨资源优势 经济有效地开发、生产高质量的钨产品,对我国的出口创汇和硬质合金工业乃 至世界钨业的发展起着重大的推动作用。 文献c 介绍了世界主要生产钨制品厂家的产品质量要求。我国的仲钨酸 铵、三氧化钨、钨粉优质品玫一级品的技术要求( 2 】见表l 一】。 表i l 钨制品化学成分的技术要求 ”钨滟佑曼氰化鸽钨粉 杂质了【:素 i 1 - 一ii 、h x 一1f w i a ! a s b i ( 、 1 n dj 2 0 一 州l :x ) o ,1 0 一 一 ( 1 0 一一 ( :。:l71 0 续袅 f 、c1 0l o5 0 k1 02 0一 7】o2 0 m 【l1 01 0 a 5 0 1 0 0 l ( j2 0 一 n i77 ( ) 一2 0 0 p771 0 1 1 1】s一 s7 1 0 一 乳81 0 一 s l1 n2 n= j f ) & ll7 一 m儿一一 v 1 0一 一 w “的台毓8 8 5 9 9 9 5 株洲硬质合金厂是我国钨冶金行业中的最大厂家随着对产晶质量要求的 提高对杂质元素的含量要求也越来越严格。厂家原有的检则手段例如原子吸 收光潜法,分光光皮法发射光谱法等分析方法,不能满足对所有要求检测的 杂质元寮进行有效分析从而影响了产晶在囝、内外市场上的竞争能力。寻找 钨及其氧化物巾徽最戌j | :i f 黛正术的快j ) i ( 孵确分析方法不仅是厂家同时也是商 检部分亟待解决的问勉 】2 钨及其他合物中杂斌l 贸。素的分析测定方法 由于钨的化学性质的特殊性以及发射光谱线的复杂性,在已有测定钨及其 化合物巾杂质元素的分析方法巾钨都存在不同程度的干扰。为了达到准确测 定各种不同杂质元素的目的,分析工作者进行了大量工作对一系列方法进行 了研究。 本文为了对i c p 一弱测定高纯钨中痕量杂质元索的新方法进行研究特 2 对近十年来国内外已发表的测定钨及其化合物中杂质元素的分析方法进行综 述,涉及的方法包括原子发射光谱法,原子吸收光谱法,分光光度法,质谱法, 电化擎分析法以及活化分析法等此外还对电感耦合等离子体原子发射光谱中 光谱干扰校正方法的研究工作也进行了综述。 1 2 1 原子发射光谱法 发射光谱法具有同时测定多元素的特点,是一种常用的分析痕量杂质元素 方法,与各种分离富集技术联用更使该法应用广泛。 蒋祸生o j 对发射光谱灏;定纯钨中痰鬃杂质元素中的载体缓冲剂组份,电极 规格以及激发电源参数进行了研究,采用0 4 i j f 、1 6 陆2 0 3 作载体测定了 钠镄、钙、钡、铝、铜、锌、铁、锰、镍、钻、钛、钒、铬、铝、钪、德、硅、钳、 铋、锡、鳞、镉、砷二十五个痕量杂质元索测定下限为0 0 0 4 4 岖,g ,测定下 限总量为2 2 4 l d u g 出相对标准偏整4 6 2 7 7 。孔令仙等人采用碳粉为缓 冲剂6 作载体测定了纯钨中2 3 种杂质元素。胡鑫弟等人 5 j 研究采用筛 选t 疆、为载体对钨中硅、铝、锰、锑、锕、铁、铬、钻、钛、铋、镍、钒、钢、 锝、钙、镉、铜、镁等1 8 种癯量元衮进行了发射光游分析。测定灵敏度达到0 。l l 、“g ,相对标准偏差7 - 8 1 2 3 之间。景桂兰r 6 】研究了以氧化镓、碳酸钠和 硫磺混合物作载体。来j 皴体分馏法,以童流电弧作激发光源,在中型摄谱仪 上样晶可不经分离謇集扶f i 阱踊时测定高纯钨巾十七种杂质元索测定下 陬达tj 7 l 一”珥行茹】i c 的枷对标准偏篾为l 一2 j 。文献( 7 】研究了用石墨粉 抑制、v ( h 蒸发的机理年l 】:, 裁体惭质促进杂质元素蒸发以及增强谱线强度的 效果拟定了以含2 n a f 旧,l 赫蛳,f 藏体喂用w n ,一2 蔼i 光栅撮谱仪和直流 激发光谱一次摄谱同时堋农趟:瓴化鹘r f t 督;、坤、钡、饺、镪、钙、镰、钻、 卓 | 、铜、铁、豫、镁锰、俐、镍、科 、锑、钪、硅、谒、钛、铊、钒、钇、镜、锯等 1 8 种杂质元素光港分析法。测定下限0 ) 【】3 一u , 戚t g 相对标准偏差5 - 1 3 ( ) , 测定的最低杂质总量为1 9 2 6 9 t 珥。 黄绍铨r 8 】研究以f 一2 型交流电弧发生器为光源上极填满含1 0 的氰 化铺的碳粉下电极装满样品和以c :渤2 ( ) j :k ( i 与= 9 5 :2 :3 的比例配制的缓冲 荆,分二次曝光用0 惦的锖和镱为内标测定了三氧化钨中的铝、铋、钙、 镛、钻、铬、铜、铁、镍、镁、镍、铜、钎、锑、硅、锯、钛、钒等十八种杂质元 :i 岽,其测定下限达0 3 一1 0 t g 单次摄谱的相对标准偏差在5 3 1 2 o 之 间。王梅芳 采用碳粉作抑制挥发剂碳酸钠氰化锌,氧化锗作混合载体,锗 作内标发射光谱法测定了纯钨巾1 4 种杂质元素,各元裘的分析下限为0 7 i - 倒,相对标准偏差在1 5 2 2 之间。 徐少玲:m l 研究采用自行组装的i ( 】j 光电子动扫描测定装置及 1 7 _ 5 9 型可 编程序计算器处理数据建立了快速测定金属钨,三氧化钨、仲钨酸铵等试样 申微量铂的方法,获得满意结果,选用n b3 l :j 2 5 9 a 为分析线,i v l o 的含量为0 u i 叫,分析精度为z 9 。 熊兴静n 】针对i u ,发射光谱对砷、锑、钳等元素检出能力较差,特别是在 钨、镯等多谱线基体元素中,比电弧载体分馏法更难以消除基体谱线干扰的缺 陷将氢化物发生技术与i c p 光谱联合,使氢化元素还原为气态氢化物而与基 体分离为降低这些元裹检出限,扩大i c r 应用范围提供了可能。此实验采用 碑! :艘、8 4 a 作为分析线由于钨不进入等离子体完全消除了钨2 3 4 9 8 2 a 重 造干扰测定下限为lj ,( 协“n i 稍当于钨试样中砷浓度为0 0 0 0 1 。 马晓同等人1 1 2 l 掇f 了以i ( 明i ) ,。为儿沉淀荆。对高纯氧化钨中的痕量金 属杂质元索经义m 留剐j 商富黎后进行f ( 】一越冬测定的方法。探讨了影响杂 葳元素回收率和钨残存量黔r 因素确定了合适勺分离冒集条件结果表明 三氧化钨中的铋、钙、镉、锵、翻。戡、镁、锻、镲、鲋、傅、锯、铁毒9 ;元索能被 j t 最回收。回收率( 黼一9 ,。l 干f j 辅街j 宽均令人满意。l b u ( 譬( 如i i l _ r 矧【1 3 3 采用磷钼 钒络台物萃敏剂作周定拥置于微柱,分离富离钨中的磷而后采用船一a 磷 珐测定其宫蟹此法的检出限为0 f j j l 羁,骱s o u g h t h 】采用离子色谱( i c ) 一 攀俸分辩( 肿一) 和k ;p a 麟棉结合的检测技术测定了高纯钨中的微量杂质元 黄,榆h 限达s - t ! 1 耐靠w i l l t l m ,b l , t m o m l l 6 采用k ( o h ) ,作为共沉淀荆,使用纤 维衰收集嚣( l l ,d ph 即t r t r , ) 对高纯钨中的痕量杂质元素共沉淀预分离| 葺集后 叫i c p a e s 法进行测定。在p h 1 2 条件下测定了钙、镁、铋、镉、钻、铜、钦、 铼铃。锰。镍、铅、铀、钍、钇、锌、锩等元素,在p 燃5 条件下测定了铝、 钦、铯、钮、钛、铋、镉、钻、铜、铰、铢、镀、镍、铅、铀、钍、钇、锌、锫等元 紊父雄俊r j 7 采用钨酸沉淀法分离基体,i a ,一越携法进行测定的方法,对仲钨 设铵中i 7 种杂质元素进行了测定,方法分离效果好,快速、准确、加标回收 率匀0 j 箱一i i 堪。 4 万家亮,利月了高分辨能力的j y 潞单道光谱仪,在i c p 系统中系统她研究 了僻基体对3 0 种常见元家员敏线的光谱干扰为铸及钨化合中元索分析线的 选择提供了依据,从而减小光谱干扰使分析结果更准确。v o l k e rs d l e 【1 9 1 利 用承光谱仪通过选择分析线铡定了钨申2 5 种杂质元索,硷出限可达u g 级。 i 2 2 原子吸收光谮法 原子吸收光谱法由于灵敏度商,选 犟性好,也是高纯物中痕量元索分析的 草簧牛段z 一。 n ,s mn ”j 研究了州硼酸和乙酸掩蔽钨加( h ) z n t 0 4 和n 扎、【 3 使磷 瘦磋锪饲杂多竣,用w l f 式中 ( i 为各通道响应值矩阵; 内为系数矩阵: c 为浓度矩阵; g j 为未知( 初始) 浓度矩阵;( c 为标准加入矩阵。按式( 2 ) 可得( c ,由( 4 ) ,( 5 ) 解矩阵方程组 可得c 0 ( c 0 是由g s 怂 计算出的已知扩散的初始浓度) ,此结果除以试样流的 稀释系数n 可得各元素初始浓度c ;。= d s 0 。 1 3 4 谱峰分离方法 基于光谱谱线的加和性原理,将重叠的谱峰按一定的数学模式分解成两个 或两个以上的组分谱峰,可以有效地消除谱线重叠干扰。沈兰荪 吲采用m 个 单一g a u s l a l l ( k m 乜m n 或体e u d o v o l t ) 曲线与二次函数背景的相加作为光谱干 扰的数学模型函数,从而将发射光谱干扰校正问题转化为如何根据实际情形完 成的波形分解问题。张卓勇等m 1 提h 了自模型f f f f 线分辨法 懈】校正了i c p a e s 谱线重叠光谱干扰, 1 3 5 导数光谱法 导数光谱法是提高光谱信号分辨能力的简便而有效的方法由于谱线半宽 随求导阶数增加而变窄经多次求导可将重叠谱线分开。文献 舯】采用了此法,、 对背景或低频干扰通常用多项式f c x ) = c o + c ,x + c 妒来描述,显然经过n + 1 次求导,干扰影响可以消除。 扬金夫 8 l 】研究了利用导数光谱法校正k = p a 璐中光谱干扰的潜力,指出 导数光谱法不仅可以校正光谱干扰而且能减小干扰物等效浓度从而改善其实 检出限。 1 3 ,6k l l 滹波法 卡尔曼滤波泼是遵过以一系列带有噪声的实际测蠡数据进行处理滤除干 扰和噪声得到有用的备状态的估 十值,这一方法已有效她应用于i 一悯 的数镑处理。 v a n ”* neh 和( 、d d t 一 一u ,| j t b 脉nm 个艟“1 将线性递推滤波器一卡尔曼滤 波器应用于i ( p 一越中进行r 光游干扰校正辱研究工作。杨金夫:a s - 8 7 】进一步 运用了卡尔曼滤波法同时研究r 波长定位误差对缩果的影响与消除利用新 息序列零均白噪声特性建立指示_ 两数优化扫描光谱峰位大大提高了波长定位 精度,保证滤波缔果的准确性。补哲秀c 蹲3 摹寸用k a l n - x m 滤波法消除光谱连续背 景,但是在整个递搀过程中采用同定的测最误整权重系数与实际情况有所偏 离。针对这一情况黄厚今汹l 提出了自适应卡尔曼滤波法。其具有自动补偿模 型误差功能,尤其在处于微小信号时可通过谓整权重而使结果误差变得更小。 李划新油】提出了自适应平方卡尔曼滤波法。此法也具有自动补偿特点是克服 滤波发散的重耍途径。 1 o 7 背景干扰校正法【9 l j 1 ) 空白背景校正法 以带样晶的空白溶液在分析线位置进行背景及其他光谱干扰的测量,再换 算为“净空白等效浓度”。然后从分析物表现浓度中扣除之。, z ) 动态背景扣除法 h f 于背景的存在使得分析线强度发生正的偏离,设i 。为分析线强度【b 为 背景强度刚谱线强度等于二着之和r 。= i 。+ i b 。背景强度i b 的测量方法枧 背景轮廓而定,通常取轮廓两端测量位强度值的算术平均值。 1 3 8 其他方法 除了上述方法外。校正光谱干扰的方法还有计算机差谱法 9 2 】、去卷积 法 9 3 】、正交多项式法! 。这些校正方法有效地减小了光谱干扰影响,提高了 i ( r a 璐渊定的准确度,并已在一些试样分析中应用。由于校正方法还存在不 同程度的误差,特别是一些商纯物质分析的更高要求还有必要对光谱干扰校正 方法进行更一步研究 第二章仪器及试剂 2 1 仪器及工作参数: 卒实验所用的光谱仪器及其工作参数见表2 1 。 农2 1 仪器及工作参数 2 2 试荆 本实验所用分析元素j | l 搬溶液其储备渡浓度均为1 ( n ) r i 耐。 硝酸、盐酸、过氧化氰、氢氧化钠均为傥级纯,全过程使用二次亚都蒸馏 1 2 水。 钢储备液:称取光谱纯钢i ( x 1 ) 克溶于a ) 毫升硝酸中煮沸至二氧化氮 逐去。移入l l i j 毫升容譬瓶巾冷却后用水稀释至刻度。混匀。1 毫升含l o 毫 克h 。 滤纸浆的制备:称取l ( g 定量滤纸,置入2 i f t e l 烧杯中。加入4 r m l f l 盐酸 5 1 ) r r d ,搅拌至少l h 然后用二次蒸馏水洗涤至中性。再转入1 0 x k n l 烧杯中加 入5 ( y o m l 二次水,则 | i ! f 备成约2 滤纸浆悬浮液。 2 3 分析元素、分析波长及检出限 本工作所涉及的分析元东。谱线波长及检出限列于表2 2 。 线 嵌2 2 分析渡和及检出限 元京 波长检出限 l 素 芝p i i w g ,l 、l 徽( 1 n )( 、斌珥) 赳3 0 8 z lo 。5c2 7 9 5 5 0 0 0 5 a s 1 9 3 7 6i j “峭j 2 5 7 6 l 0 f ) 0 5 b a 1 9 3 7 i 0 6_ 2 q 2 0 3 0 0 吁 b e 3 1 3 0 40 ) 5n i 2 3 1 6 0 0 1 炳 c a3 1 7 9 30 l 0 7n j2 2 0 ,3 50 c ) 0 6 c 2 2 6 ,5 ( ) ) i lj 5嘲)翌壕,8 :j0 仪) 6 ( l2 2 8 6 2( j i x ) 8s c i 9 6 0 9 0 ( 聊 c r2 6 7 7 l 1 ( j 髓s 3i 8 9 9 90 f ) m ( 沁3 2 d 7 5u t i j 5 t 5 :汀2 80 j q 5 f e2 5 9 9 4u i l 西 v 2 9 2 4 u ( ) 【x 】c i k7 6 6 + 4 9u 【l m办】2 1 3 8 60 ( ) 0 5 第三章 钨对分析元素的光谱干扰研究 3 1 光谱千扰研究方法 在i 四一躺中,光谱干扰一直是分析工作者试圈克服的主要问题之一。 在光谱分析申,判断一分析线是否受到谱线干扰的主要途径有两种,一是查看 光谱线表或图集二是在分析波长附近i ) ,( j s ( ) 1 【j m 的光谱窗口对分析元素 及共存元素分刖进行波长扫描,而现有光谱线表或图集并未列出元素的所有干 扰线及谱罔因此依据现有光谱线表或罔集判断了分析线是否受到谱线干扰有 一定刚难, 本文采胄j 多道扫描的方法研究了钨对2 1 种元素的光谱干扰情况分别用 & g r n l 基体钨溶液和含a d 各分析元素及8 “m 基体钨的强合溶渡进行扫 捕,其扫描图代码分别为a 及卧 多道扫描仪器工作条件参数:扫描范同d 2 n n 、,扫描步数4 0 步积分时间 3 秒。部分元素多道扫描图形她罔3 ,】1 1 2 、 w 及的光谱囝 a w 溶液 i 一w + 烈溶液 器:j ,l 1 4 m a x : 4 6 3 4 4 2 3 2 f f f i a ? n o 户 飞i v 冬鑫f i ,、 w 及她的光谮圈 a w 溶液 b w + 心溶液 圈3 2 a : 1 0 4 3 7 6 8 、j 白 l矿 。,埘。婴v 如l w 及的光谮圉 a w 溶液 1 3 - - w + b a 溶液 圈3 3 1 s w 及m 的光谱圈 a w 溶液 l j w + b e 溶液 圈0 4 广、h 晏墓二i 5 7 7 7 r 、i 土n b 影 u z 攀暑厂 l 广,乒k w 及( 的光谱瞳 a w 溶液 i ;_ wh i i 溶液 圈3 5 j 6 嗡 , , 庆广 良 毯i w 及c ( ,的光谱圜 a w 溶液 l j w t 溶液 图: 6 m a x : f 58sj 9 2 8 0 久f h i n :? 呈8 ,a i,厂、 , 。一,、 一。j 一 。 w 盈( t ;的光潜翻 a w 溶液 一w + ( 沁淹液 圈0 7 1 7 h 瑟:5 2j 虬l 擘篓一怃渺j 筵 护妞: 鸟h 呒攀五 w 及k 的光谮囝 a 、v 溶液 b w + k 湛液 圈:j 8 h 寻琴;3d 1f r 沁。二八 y w h 1 2 aa 0 夕“ o 一 w 及v 的光谱圈 a w 溶液 b w + v 溶液 圈3 9 - 1 8 坡及w 的光谱圈 a w 溶液 b w + 陇溶液 圈3 1 l 】 羝烈厂,以 忿落i i i j ,2 7 s w _ 及的光谱图 a w 溶液 b w + m 。溶液 圉3 1 1 19 p o r e l a t i u e intehsity h 毒j f 玉厂 7 9 日zj b 一 i 门 、 l , h i n :f f、 圭器a 1 ,、 、 ,一、r l 。、。 3 2 光谱干扰的确定 w 及n 的光谮圈 a w 溶液 l ;一w + n 溶液 圈3 1 2 根撩扫捕罔形,可以州l 瞬w 对分斫元震的光辔干扰情况,并初步确定所用 高纯w 巾是否含有杂质= 观察在禁一分析线附近扫描范丽内的扫捕图形。并考 虑以下几点,可以得出分析线干扰情况缔论。 1 w 在分析线附沂是否有黟峰,若有则很有可能存皇潜线部分重叠干扰。 2 分析元家的蜂位波长是否有所偏移。 3 钨帮液及钨与分析元岽的混合镕液在分析线附近的峰形与峰位是否极 为相似,以此可判断此高纯钨中是否存在分析元素的杂质。 若图形满足】、z 则可以确定在此分析线处存在谱线部分重叠干扰。 若图形满足:1 则可确定高纯钨巾含有该分析元索杂质。 著图形满足1 、2 、3 则可以确定不仅此分析线处存在谱线部分重叠干扰同 时可确定此高纯钨中含有该分析元累杂质。在罔3 1 a 1 3 基础卜讨论以,l 几 介问题。确定w 对1 3 个分析元素的谱线干扰情况以及高纯w 中存在的杂质, - 2 0 研究结果见表3 一l 。 寝:| _ 1w 对分析元素的谮线干扰的判断和 高纯w 中存在的杂质元素的判定 元素l 2 线翼干扰 3存在杂质 一一一一。一- 一 一一一一一一。一一 a lyyynn vyy ynn y :肯定n :否定 由上可知w 对瑚、a s 、( 、a 、卜i = ) 、v 等元素存在较严重的光谱干扰,对 b a 、b e 、q ,、k 、艇、1 、t t 等元素比较小的光谱干扰,卒试验所用高纯w 中 存在有飚、c a 、c ( ) 、k 、m a 等杂质元素。 3 3w 对分析元素的干扰系数 2 y n n y y n y n y n n y n n y y n y n y n n y n y y n n n n y n y n n y y n n n y z y n n y y n n n n y n 觚 & q 勖 k 垤 n 利用分别含a 劓、4 t ;( j 、j 【:】及“胁州t l t 钨的标准溶液。在选定仪器条件下 测定计算相应的干扰系数钨对各元素的于扰系数平均值列千表3 2 干扰系数计算公式如下: 。,一被干扰元素的通道读数( t 训t 1 1 1 ) “一 干扰元素浓度( 1 捌) 寝3 2 萋俸钨对分析元素的干扰系数 元素 干扰系数1 ( - 3 元素 干扰系数1 0 3 赳( ) 6 3f e0 ,z i l a s 5 ,3k0 2 7 k( ) ( ) 2 20 0 7 1 阻u 1 j 4 l 1 【) 1 3 i l lr ) n 7 l m ,4 :l ( c az 抟:,_? k iu ( 巧l i c d1 3 : i n0 9 5 ( 1 ,5 i 懈 1l 0 0 c j0 8 ln0 0 1 5 c u( ) 0 3 1v0 5 7 无10 9 4 3 4 结论 上实验结果表明基体钨对凡、g 、国、c r 、m ) 、n 、v 筹元素的光谱 干扰比较严重对其他分析元裹干扰相对较弱为了准确她在固定通道类翟仪 器上进行测定利用干扰系数校正十分必要。当然干扰系数的值并不恒定,它 随仪器工作条件变化而相应有所袭变因此为了进行准确的干扰校正每次样 晶测定时都应该同时重新测定以 十算出此次实验的干扰系数值。 2 2 第四章钨的基体效应研究 4 1 基体干扰的表示方法 本文r f l 研究纳基体效应是漕钨基体对分析元紊产生的非光谱干扰; 囤内夕卜文献巾一般用归一化强度或干扰百分散爿袁征基体对分析元素的干 扰程度 冀一化强度是采。 ! 萋体写泌1 _ 基体时的;鹜线强度比计算也称之为相对强 支直观地夏应了墓体对分# i 线鹩影响,这种影响包括基体的光谱干扰与非光 潜予拢。, 干扰百分数是指扣除菸体弓f 起的:学景变化及光谱干枕后引起分析元素潜线 强度藏少的 敬mf ? 式汁算式中【、 t 表示发射强度: i :m 删_ 撕j 。嬲卷;! j 是浮磐嘲。蟹鲫坦( 1 ) 山式( l ) 可以肴m 干扰百分数1 扣除t 基体的光谱干扰、基体内杂质 及空向的影响,客观鼻衄反应了幕体的加入对分析谱线的非光谱影响本文采 j 千抗百分数1 袭征綦体干扰的强度。 4 2 钨基体对分析元素的基俸干扰 配制含不同钨量的试液,不同钨最及相同鬣杂质元素( a 硝n d l 的试液无 钨蓐体的相同浓度杂质元素标准培液“及空一游液在相同仪器条件下进行 测定试验了钨对杂质元素的影响其基体干扰程度如表4 一l 所示 表4 一l 钨基体对分析元素的影响( 干扰百分数表示,单位) 一j ,94 57 : 融a t一5 n抖78 81 0 7 1 1 10 j一:7 j一2 1 22 1 9 82 6 一j7n ,7 j- 101 8 i 一jj 4 一l ,1 jl zhj 1 j一1 9 6一:1 2 8 3 4 7 1 4 1一1 8 ,l1 7 9h 、一,0一i : 4一1 8 21 9 【j 2

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