DMC-DES培训教材.ppt

DES原理 1 板上干膜被曝光后 干膜被曝光部分发生光化学反应 形成聚合高分子 在没有被曝光部分则仍为有机单体 通过黑菲林区分需要曝光部分与不需用曝光部分 黑菲林的图形则就成像在干膜上 2 DES的目的就是将板上干膜上的图形 通过显影 蚀刻 退膜转化在板上 DES原理 显影原理 1 显影缸成分 1 0 2 Na2CO32 显影缸中发生如下化学反应 Na2CO3 H2O NaHCO3 OH Na 3 其中OH 会与没有被曝光的干膜单体发生化学反应 将没有曝光的干膜溶解 DES原理 蚀刻原理 1 蚀刻缸成分 Cu2 Cu1 Cl 氧化剂 NaClO3 H 2 蚀铜化学反应 3Cu 3Cu2 6Cu1 ClO3 6H 6Cu2 3H2O Cl 3 在蚀刻段 板在显影后 裸露在干膜外的铜与蚀刻药水发生一连串的化学反应 最后形成为所需要的电路图形 DES原理 退膜原理 1 退膜缸主要成分 NaOH 氢氧化钠 2 在退膜缸中 NaOH在高温下破坏了被曝光干膜形成高分子聚合物的结构 使干膜成片状脱落 DES原理 抗氧化原理 1 抗氧化缸成分 H2SO4 硫酸 2 抗氧化化学反应 H2SO4 CuO CuSO4 H2O3 抗氧化主要为除去板面的氧化物质 主要为氧化铜 使板面干净 DES操作规范 显影缸1 显影缸须每班换缸 目的是尽量使显影缸药水保持清洁 并且检查喷嘴 2 显影段入口压辘每班清洗 目的是使压辘上的药水结晶物被清洗掉 避免结晶物通过行辘的压力粘在板上 3 在生产板时 容易产生泡沫影响品质 须添加消泡剂 DES操作规范 显影缸 4 每班开工需做显影点 显影点控制在40 60 显影点的目的是观察以现在的药水浓度 压力 速度能否将板上的干膜显影干净而不显影过度 5 现在显影缸添加主要有种添加 扬博按照片数添加 迅德按照电导率添加 DES操作规范 显影缸保养 6 显影缸的保养须用碱 水 酸 水洗 再用1 碳酸钠润洗一次 保养时温度保持在45 7 显影缸每两星期对喷管 喷嘴用酒精泡洗一次 行辘用酒精擦洗 DES操作规范 蚀刻缸 1 蚀刻缸每班开工检查喷嘴是否堵塞 2 蚀刻缸每班开工对蚀刻缸入口压辘进行清洗 避免药水结晶粘在板上引起蚀刻不净 3 迅德线蚀刻药水由电导率 电位控制药水浓度 电导率控制HCl 电位控制氧化剂添加 扬博蚀刻药水由AQUA控制系统控制 较直观 4 生产板时 后蚀刻须对应相应铜厚选择相应的后蚀刻补偿程序 目的是为了消除板上的水池效应 DES操作规范 蚀刻缸 5 对应不同的铜厚须按照CP选择不同的蚀刻参数 速度 是否需关缸 6 不同型号不同层次蚀刻均须做首板控制 对于有线宽要求的板 线宽按照要求的中上限控制 特殊要求除外 7 对大铜面的板 需注意铜桥的控制 8 对生产中每LOT板 生产过程中需按照CP要求抽检一块 DES操作规范 蚀刻缸 9 保养须用碱 水 酸 水洗 10 保养时对喷嘴进行检查 检查上喷嘴时 关掉下喷 检查下喷嘴时 关掉上喷 11 蚀刻母液须在保养前收集 然后用碳芯过滤 目的是除去母液中的有机杂质 油状物 DES操作规范 蚀刻缸 12 蚀刻缸的排药水须对应相应管道排放 以免引起废水处理困难 DES操作规范 退膜缸 1 开工时对退膜过滤网进行检查一次 确定退膜过滤网是否正常 2 对于发现退膜缸有退膜不净或膜碎进入到后水洗现象时 须停机检查喷嘴 3 如发现缸内的退膜液变黑 须重新开缸 4 退膜缸保养酸 水 碱 水洗 DES操作规范 药水浓度控制 1 每班需对