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纯水系统介绍 报告人 瞿佩华2011 03 01 报告大纲 纯水系统简介及流程系统单元主要作用介绍a 过滤系统b 反渗透系统c 终端处理系统问题 讨论 能源需求 纯水系统在动力厂房 11号 西南侧 用电需求 220V50Hz 380V50Hz200KW 用气需求 1Nm3 min高压空气 5 5 7bar 0 5Nm3 min高纯度氮气 5 5 7bar 用自来水需求 100m3 h 用热水需求 60 DN250500m3 h 纯水的用户及指标 纯水用户 工艺冷却水 制绒机 清洗机 湿法刻蚀等 供水指标 电阻 25 18 0M 压力 3 4bar 纯水系统流程 原水池 盘式过滤器 超滤 清水箱 碳滤 换热器 保安过滤器 一级RO 中间水箱 二级RO RO产水箱 EDI 微滤 抛光混床 用水点 UV254 纯水箱 UV185 NaClO NaOH阻垢剂 a 过滤系统 原水池 盘式过滤器 超滤 清水箱 碳滤 换热器 1 自来水 2 盘式过滤器 主要作用是去除原水中可能存在的颗粒物质 保护超滤装置 3 超滤 主要作用是去除原水中可能存在的颗粒物质 有机胶体 有机物等物质 使得反渗透装置的入口水质符合RO膜进水水质的要求 4 碳滤 主要作用是吸附水中余氯 有机物 胶体颗粒 微生物 5 换热器 主要作用保证RO膜的进水温度在25摄氏度左右使RO膜有较好的透水能力 两套盘式过滤器 单套流量 63m3 h 二用 两套超滤 单套流量 42m3 h 二用一备 三套碳滤 单套流量 40m3 h 二用一备 一个换热器 能力 120m3 h NaClO 苏州地区自来水水质 盘式过滤器 原水箱 原水箱的主要作用为储存原水 原水泵 原水泵为预处理系统提供原水 数量 二用一备 型号 川源G320 150 15盘式过滤器 主要作用是去除原水中可能存在的颗粒物质 保护UF装置 数量 两套 每套四个盘式滤器 过滤精度为100UM 反洗周期 30MIN 90MIN 盘式过滤器原理 原理模拟 超滤 UF膜采用内压式全流过滤 内压式过滤可以保证进水不会与膜的外表面接触 且可以保证被膜截留的物质非常容易通过反洗等去除 全流过滤可以大大节约运行能源 反洗当超滤膜运行一定时间要求进行定期反洗 通过反洗 让过滤过程中累积在膜表面的污染物被一个反向的水流去除 反洗水采用超滤产水 正常每运行60分钟反洗一次 历时30秒 静置30秒 反冲30秒 正冲30秒 化学增强反洗在超滤膜运行一段时间后 在膜表面沉积的一些污染物不能通过单一的水反洗去除 此时需要加药加强反洗来去除这些污染物 化学加强反洗进行时 先进行正常反洗的操作 流量是正常水反洗流量的一半 再启动化学品加药泵 化学药剂加入到超滤膜中 然后会有一个浸泡过程使化学药剂与膜表面的污染物充分反应 浸泡后通过水反洗 把剩余的化学药剂及污染物冲掉 化学增强反洗过程分为CEB1及CEB2两个过程 通过投加不同的化学药剂去除不同的污染物 一般分为碱洗 CEB1 和酸洗 CEB2 碱洗所投加的药剂是氢氧化钠 NaOH 酸洗所投加的药剂是盐酸 HCl 活性炭过滤器 目的 去除水中的余氯 以避免余氯对反渗透膜造成不可恢复的损害 氯和活性炭 C 的反应 C HOCl CO H Cl C 2Cl2 2H2O 4HCl CO2 11 b 反渗透系统 保安过滤器 一级RO 中间水箱 二级RO RO产水箱 1 保安过滤器 主要作用是拦截水中大于5um颗粒物质以保护RO膜 2 一级RO 主要作用去除水中的无机盐 有机物 浊度 悬浮物等杂质 NaOH 阻垢剂 为阻止碳酸盐 硅酸盐结垢而影响RO系统的正常运作 在反渗透入口水中添加一定量的阻垢剂 保证RO进水PH在8 8 5之间 使水中CO2呈离子状态 3 二级RO 进一步提升处理水质 保证后续EDI的进水品质 三套一级RO 单套流量 33m3 h 二用一备 两套二级RO 单套流量 30m3 h 二用 三组保安过滤器 单组能力 45m3 h 二用一备 反渗透原理 原理模拟 卷式 膜解剖图 Producttube集水管 Feedwater原水 Brineseal密封件 Permeate渗透液 Concentrate浓缩液 ReverseOsmosismembraneRO膜 Permeatecarrier渗透液流向 Feedwater原水 Tricot导布 Meshspacer导网 膜排列构造图 BW30 400型反渗透元件运行极限值 膜的类型 聚酰胺复合膜最高运行温度 45oC 113oF 最高运行压力 600psi 41bar 最大压差 15psi 1 0bar 连续运行pH范围 2 11短时清洗pH范围 30分钟 1 13最大给水流量 85gpm 19m3 h 最大给水污染指数 SDI5最大给水浊 1NTU游离氯容忍量 0 1ppm c 终端处理系统 EDI 微滤 抛光混床 用水点 UV254 纯水箱 UV185 1 UV254nm 主要作用是破坏细菌DNA 杀死及抑制细菌的生长 2 EDI 主要作用是去除进水中的阴阳离子等杂质 可连续再生 不间断使用 3 UV185nm 主要作用是去除TOC 再由后续抛光混床中精炼树脂进行离子交换去除 4 抛光混床 主要作用是去除水中离子 有机物等 进一步提升供水电阻 5 微滤 主要作用是进一步去除水中可能存在的颗料物质和大分子的有机物 胶体 两台254nmUV 单台能力 30m3 h 二用 两套EDI 单套流量 27m3 h 二用 两台185nmUV 单台能力 37 5m3 h 二用 五个抛光混床 单个流量 15m3 h 五用 三套微滤 单个流量 25m3 h 三用 UV 254nm 目的 杀菌 防止EDI设备被细菌污染原理 紫外线是一种波长范围为136 390nm的不可见光线 在波长为240 280nm时具有杀菌作用 尤以波长为253 7nm的紫外线杀菌作用最强 它的杀菌机理是一个较为复杂的问题 当微生物被紫外线照射时 由于细胞的核酸生物活性因吸收紫外线而可能改变 从而引起菌体内蛋白质和酶的合成障碍 导致结构发生变异 功能遭到破坏 致使微生物死亡 18 EDIMK 3进水参数 MK 3EDI流程图 产水出 极水排放 浓水排放 浓水入口 进水 Feed进水 HSiO3 CO3 OH H Cl SO4 NO3 HCO3 AnionMembrane阴离子交换膜 CationMembrane Na Ca Mg Na AnionMembrane CationMembrane阳离子交换膜 Ca Mg Na H Concentrate Anode阳极 Cathode阴极 Concentrate浓水 HSiO3 CO3 OH Cl NO3 HCO3 HSiO3 SO4 H MK3EDI工作原理 浓水 AnodeWaste阳极废水 HighPurityWater超纯水 HighPurityWater超纯水 CathodeWaste阴极废水 UV 185nm 目的 去TOC 防止抛光树脂被有机物 细菌污染 原理 利用185nm波长的能量及产生的强氧化物 将水中的有机炭氧化成二氧化碳 二氧化碳溶于水再被抛光树脂去除 22 抛光床 本系统使用的是罗门哈斯公司生产的核子级树脂 无须任何处理 直接装入 a 将树脂罐冲洗干净 b 将布水器置于罐内 在罐内装入适量的水 c 将树脂装入罐体 并使树脂面平整 d 正确连接布水器和黑二通 然后将黑二通定位在罐体上 e 罐体试压 压力0 6MPa 至无泄漏 启动操作检查抛光床阀门及黑二通均紧固 即可投入使用 生产过程当抛光床离子交换器在正常运行操作的时候 它和进水中的离子 包括硅离子等 进行置换 置换出来的氢根与氢氧根结合生成
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