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文档简介
1,亚升通美国亚升通公司Ascentool Inc.627 National AvenueMountain View, CA 94043, USA,可持续发展的平价电网光伏模组生产方案(大型关键装备制造及模组生产),2,(单、多)晶硅和薄膜光伏技术的对比,3,三种主要的薄膜技术,非晶硅a-Si: H,碲化镉CdTe,铜铟镓硒CIGS, Shipping products in limited quantities Shipping products in high volumes.,Source: BP Solar and NREL,4,降低光伏模组生产成本面临的挑战,尽管光伏业界做了大量积累性的工作,光伏发电的成本仍然太高距离人类首次使用光伏电池已超过50年光伏电池在地面的商业应用已超过20年世界上的光伏模组生产近年来已经集中到低劳力成本地区(如中国),进一步降低成本的关键是在生产设备及相关的工艺上其生产设备和工艺与半导体芯片(IC) 、薄膜晶体管液晶显示屏(TFT LCD)非常相似可是要求非常、非常低的生产成本 $100美元/米2光伏应用中,薄膜厚一些可帮助增加光能的利用,但同时也增加了镀膜工序的成本真空镀膜技术已有150年的历史,且近几十年来很少有革命性突破,半导体芯片(IC)$5万美元/米2,液晶显示屏(TFT LCD)$1千美元/米2,光伏模组(PV Module)$1百美元/米2,从芯片到光伏电池:生产技术虽类似,但对成本的要求越来越苛刻,5,光伏模组生产中,在哪些环节上降低成本?,t-ROCSTM,亚升通的综合方案将降低 60%的生产成本,6,提高薄膜材料利用率,常规平面镀膜源: 1520 % 靶材利用率,ROCS TM 300 PVD 原型机配置有300 mm Hi-U TM 磁控溅射镀膜源,具有独立知识产权的亚升通 平面镀膜源,其靶材利用率 60%,7,7,ROCS TM PVD 应用举例:导电玻璃,Initial deposition achieved ave. 85% transmittance at 6 ohm/sq. low resistance Will improve process on ROCSTM 1500 PVD,8,8,薄膜材料利用率对铜铟镓硒模组成本的影响,9,9,薄膜材料利用率对非晶模组成本的影响,常规镀膜源,亚升通Hi-U TM PVD 镀膜源,1 1100 mm x1400 mm 玻璃基板;本计算仅考虑了PVD工艺节省的薄膜材料成本2 亚升通较低成本的300mm x1350 mm 平面镀膜源优于较昂贵的旋转式镀膜源3 78个 Hi-U TM 镀膜源配套在 ROCS 1500 PVD 系统上用于25MW 非晶薄膜生产线4 全靶面溅射可以最大程度减少微粒的形成、提高成品率、减少系统停机时间5 60% 或更高的靶材利用率6 AZO or GZO (100nm)/Ag (300nm) /Ti (30nm) 用于非晶硅模组背电极,10,10,几种化学气相沉积(PECVD)技术的对比,11,技术方案及专利布局,自2005年以来,亚升通已获3项美国专利; 另有8项美国专利、4项国际专利待批,高效(材料利用率改善2x3x)、低成本 PVD 系统 用于 4 种主流光伏技术 ROCS TM 系列 PVD 高产率 (2x 4x 改善)、低成本PECVD:用于非晶硅/微晶硅薄膜光伏模组 v-ROCS TM PECVD,无激光划线:用于晶硅电池背电极 SiO2/Al 镀膜以提高转换效率;也可用于薄膜光伏模组生产,减少50%的工序 ChemMask TM,高产率 (每次装8片)、低成本PVD 系统,具接近最高理论值的材料利用率 (90%) t-ROCS TM PVD,高产能、高等离子密度、高材料利用率、低成本PVD 和 PECVD系统,用于硅基薄膜光伏生产,模组效率可达1012%,成本$0.5/瓦,12,在开发的薄膜光伏模组成套生产设备,13,硅基薄膜光伏模组成本对比,14,14,光伏设备业是带动区域战略发展的引擎,完成先进光伏生产装备的产品化、系列化(资金、设施到位后12年)提供可持续发展的光伏模组生产方案(2年)带动区域供应链、产业聚集,包括大型
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